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化学机械抛光(CMP)技术是集成电路制造中获得全局平坦化的一种重要手段,化学机械抛光液是影响抛光质量和抛光效率的关键因素之一,而抛光液中的磨粒和氧化剂决定了抛光液的各项化学机械抛光性能。将抛光液磨粒分为单一磨粒、混合磨粒以及复合磨粒,综述了近年来国内外化学机械抛光液磨粒发展现状,其中重点分析和总结了SiO2、Al2O3、CeO2三种单一磨粒,SiO2/Al2O3、SiO2/SiO2、SiO2/CeO2混合磨粒,CeO2@SiO2、PS@CeO2、PS@SiO2、sSiO2@mSiO2、PMMA@CeO2、PS@mSiO2等核-壳结构复合磨粒,Co、Cu、Fe、Ce、La、Zn、Mg、Ti、Nd等离子掺杂复合磨粒的研究和应用现状,并针对目前存在的问题进行了详细的分析。针对目前化学机械抛光液不同材料氧化剂(高锰酸钾和过氧化氢)的选择和使用进行了分析总结。此外,介绍了一种新型绿色环保抛光液的研究和使用情况,同时对化学机械抛光液存在的共性问题进行了总结,最后展望了化学机械抛光液未来的研究方向。 相似文献
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在建立通用数学模型的基础上,以刀具齿形重磨精度为砂轮修形评价指标,对采用椭圆修形砂轮铲磨阿氏滚刀齿侧面的过程进行了成功的数值模拟,获得了具有工程应用价值的数值计算结果,并讨论了不同的砂轮修形误差曲线对滚刀齿形重磨精度的影响。由此可以看出,通过调整砂轮修形参数。合理控制修形误差取向以进行优化修形,能够大大提高刀具齿形重磨精度,从而为实际的砂轮修形现场操作提供理论指导。 相似文献
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3’-脱氧-3’-[^18F]氟代胸腺苷自动化合成效率的影响因素 总被引:2,自引:2,他引:0
为提高^18F-FLT合成效率及其纯度,研究了以N—BOC为前体,利用国产多功能合成器自动化合成^18F-FLT时各种因素对合成效率及化学纯度和放化纯度的影响。结果显示,前体的化学量和合成体系中水的残留明显影响^18F-FLT的合成效率。增加N—BOC前体量,可明显提高合成效率;体系中残留水的存在明显降低合成效率;催化剂中碱的含量也会影响合成效率,最佳碱用量为前体与碱的摩尔比为1:1;半制备柱的平衡与否会影响产品的分离效率,从而影响产品的放化纯度,8%乙醇流动相则降低了产品的化学纯度。以上结果提示,使用国产多功能模块,通过优化合成参数,可明显提高^18F-FLT的合成效率,提高放化纯度和化学纯度。 相似文献
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参考评分法是常用的声音主观评价方法之一,在其中选取标准声样本作为参考样本可以提高不同样本组数据之间的可比性,使不同评价结果之间的横向比较成为可能。然而,不同类型噪声引起烦恼感的机制不同,在部分类型噪声评价实验中,已有标准样本法存在适用性不强的问题。为此,在已有标准样本为纯音的基础上,提出了白噪声标准样本法,针对频谱特性和感知特性明显不同的3组相似噪声组合与不相似噪声组合的烦恼度评价,以待测样本法评价结果为基准,开展了2类标准样本法性能的实验研究。结果表明,纯音标准样本法更适合音调感明显的噪声,白噪声标准样本法更适合音调感不强的宽带噪声。研究了不同参考样本法的烦恼度评价结果之间的转化方法,扩大了标准样本法的适用范围。 相似文献
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机器人关节空间B样条轨迹设计的混沌优化 总被引:2,自引:0,他引:2
为了研究机器人关节空间轨迹时间最短的优化计算问题,依据混沌优化理论,采用改进的基于混沌变量优化算法,以时间最短为性能指标对轨迹进行优化求解.研究了均匀非周期四阶B样条曲线的优化,每一段B样条曲线的运行时间作为优化参数,优化问题模型包括关节角速度、角加速度、角加加速度及力矩4种约束.给出了PUMA560前三铰B样条轨迹优化算例,优化结果明显优于采用复合形法或有约束随机搜索方法的优化结果;该算法简单,易于实现,求解速度快,任给一组初值得到优化结果的可靠性达90%以上,逼近约束条件的误差几乎为零,进一步减少了运行时间,从而有效地实现了机器人在关节空间的轨迹优化. 相似文献
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CeO_2因其优异的储氧和释氧能力而被广泛应用于催化领域。其中,氧空位浓度是决定其储氧和释氧能力的关键。为了研究退火和负载金属对CeO_2氧空位浓度和热稳定性的影响,本工作通过水热法合成了CeO_2纳米棒,并负载金属Pt。利用X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)、透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)、拉曼光谱(Raman spectroscopy)、电感耦合等离子体光谱(Inductively Coupled Plasma spectrometer,ICP)和X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy,XPS)实验手段研究了金属载体相互作用对CeO_2纳米棒热稳定性的影响。结果表明:CeO_2纳米棒的氧空位浓度和晶格常数之间存在线性关系,氧空位浓度降低会导致晶格常数减小。在高纯空气中退火会导致CeO_2纳米棒的氧空位浓度降低,晶格常数减小。XPS和XRD结果显示:Pt/CeO_2纳米棒退火后仍保持较高的氧空位浓度。同时,ICP结合XPS发现退火会导致Pt向CeO_2体相扩散,抑制了PtO_2的生成,提高Pt/CeO_2催化剂的稳定性。上述结果说明Pt和CeO_2之间的相互作用既有利于氧空位的保持,也提升了Pt的稳定性。这对于理解Pt/CeO_2优异的催化性能具有重要帮助。 相似文献
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