镁合金表面非平衡磁控溅射CrN镀层结合性能和摩擦磨损性能

采用不同偏压闭合场非平衡磁控溅射技术在镁合金表面沉积Cr-N镀层,分别对镀层的组织结构、厚度、结合性能和摩擦磨损性能进行了表征和分析。结果表明,镀层主要由Cr(N)相和少量Cr2N相组成。在偏压为60V时镀层具有较高的硬度、良好的结合性能和摩擦磨损性能。偏压进一步升高,虽然镀层硬度有所提高,但结合性能和抗磨性能均下降。     

Be、RE对AZ91D阻燃性、组织及力学性能的影响

研究了Be的加入量对镁合金AZ91D起燃温度的影响,以及Be、RE对AZ91D显微组织与力学性能的影响.结果表明,含0.3％Be的AZ91D的起燃温度提高近300℃,Be的加入促进Mg17Al12相以离异共晶方式析出,降低了AZ91D的拉伸性能.加入1.0％RE可抑制Mg17Al12相的析出,从而强化了基体,Al4 RE相可阻止裂纹的形成与扩展,增大试验合金的断裂抗力,使抗拉强度显著提高.固溶处理后拉伸性能得到了进一步提高.     

钨表面WTaTiVCr高熵合金层的组织与性能

使用双辉等离子体渗金属技术,通过调整渗金属温度在钨表面制备了WTaTiVCr高熵合金层,使用扫描电镜(SEM)、X射线能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)、显微硬度计、往复摩擦试验和电化学腐蚀试验等对其组织成分、力学性能、耐磨性和耐蚀性等进行了分析。结果表明:当渗金属温度为1150 ℃、源极与阴极电压差为400 V时,可以得到含有扩散层、沉积层的复合渗金属层,其中扩散层区域各元素的原子分数为W_0.38Ta_0.14Ti_0.2V_0.2Cr_0.08,相结构为单相BCC结构,符合高熵合金层的相结构与元素组成规律。同时其表面硬度由于受到固溶强化、晶格畸变等强化机理,与纯钨相比有很大的提升,达到1300 HV0.2以上。另外,该渗金属层的平均摩擦因数为0.447,磨损率为3.43×10^-8 mm³/(N·mm),腐蚀速率为3.87 mg/(m²·h),具备一定的耐磨性和耐蚀性。综合以上结果,通过双辉技术在钨表面制备的WTaTiVCr高熵合金层可以有效提高W基体的力学性能和耐腐蚀性能。     

脉冲偏压磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的组织结构及耐磨性研究

利用脉冲偏压磁过滤电弧离子镀在高速钢(M2)基底上沉积了厚约2.5μm的TiN薄膜;分别采用FESEM、GDOES、XRD和划痕试验法观察薄膜表面和断面形貌、测试薄膜成分及相结构,分析膜基结合强度,通过显微硬度计和球盘摩擦磨损试验机对比考察TiN薄膜和M2高速钢基体的硬度和耐磨性。结果表明,TiN薄膜表面光滑致密,呈现致密柱状晶结构和明显的(111)择优取向,膜基结合强度大于60 N,薄膜硬度约为26 GPa;脉冲偏压磁过滤电弧离子镀制备的TiN薄膜表现出很好的减摩和耐磨性能。     

开式曲柄压力机CAD系统研制

本系统从提高曲柄压力机设计效率、提高设计先进性、可靠性的目的出发，采用ＣＡＤ方法和优化技术实现了曲柄压力机各部件主要参数设计的规范化、通用化、自动化，完成了一种结构合理、易于推广的曲柄压力机ＣＡＤ系统的研制。     

离子渗金属中等离子体参数与工艺参数的相关性

用朗缪尔单探针技术对离子渗金属中的等离子体参数进行了诊断，讨论工艺参数对等离子体参数的影响。结果表明，随着工件阴极电压、源极电压和气压的增加，等离子体密度增大。利用等离子体参数结合放电特征对工艺参数进行了优化限定。讨论了等离子体参数对渗层成分的影响。     

Impact fatigue behavior of ZrN/Zr-N/Zr coatings on H13 steel by CFUBMSIP

ZrN/Zr-N/Zr coatings were deposited on H13 steel by close field unbalanced magnetron sputtering ion plating （CFUBMSIP） technique. The effect of two main parameters such as OEM and bias voltage for the CFUBMSIP process on the microstructure, mechanical properties and impact fatigue behavior of the coatings was investigated. The results indicate that with OEM increasing from 55% to 65% the surface particles size of the coatings increases while it remains almost similar when the bias voltage changes from 60 to 75 V. An aggregation of the particles occurs on the coatings surface, with further increasing the OEM and bias voltage to 75% and 90 V, respectively. The coatings show a columnar grain structure and are mainly composed of two phases of ZrN and Zr. The coating hardness decreases with OEM value increasing and both the coating hardness and modulus go up with bias voltage. The coating deposited under OEM of 65% and bias voltage of 75 V shows the best impact fatigue property.     

加弧辉光渗Ti在石墨电极上的应用

介绍了一种新的表面合金化技术－－加弧辉光离子渗钛技术。利用该技术可在石墨板上形成均匀的渗钛层。试样在0．5mol/LH2SO4溶液中进行电化学腐蚀测试，结果表明：渗钛石墨电极比石墨电极的耐蚀性有很大提高，与钛板的抗腐蚀性能相当。探讨了渗层钛浓度分布，并用X射线衍射对渗层相组成进行了分析。     

石墨电极加弧辉光渗镀Ti抗蚀性能的研究

利用加弧辉光离子渗钛技术在石墨板上形成均匀的渗镀钛层，着重讨论了渗层的抗蚀性能，探讨了渗层钛浓度分布，并用X射线衍射对渗层相组成进行了分析。     

自钝化W-Cr-Y合金层的制备及其抗氧化性能

为防止或缓解钨氧化,用双辉等离子体表面冶金技术在纯钨基材表面制备了W-Cr-Y自钝化合金层。采用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对合金层的组织和相结构进行了分析,并在模拟发生核聚变发电站冷却失效事故时的高温大气环境下对合金层的抗氧化性能进行了研究。结果表明,制备温度为800、900、1000和1100℃时,均成功地在纯钨表面形成了由W(Cr, Y)固溶体构成的厚度超过20μm的W-Cr-Y合金层。制备温度为1000℃时合金层厚度达到了35μm,表面光滑致密,合金层与纯钨基体呈现良好、无缺陷的冶金结合。制备温度较低(800℃和900℃)时,合金层在1000℃氧化10 h后的表面未形成连续的自钝化合金层,抗氧化性能较差。制备温度较高(1000℃和1100℃)时,合金层在氧化后形成了致密平整的氧化层,且制备温度为1000℃时合金层氧化后的质量增加最小,抗氧化效果最优。