基于均匀圆阵的信号二维方向角互相关估计

针对复值乘性和加性噪声同时存在的情况,提出一种基于均匀圆阵的信号二维方向角互相关估计方法.本文推导出互相关估计公式,分析了估计的统计性能,给出了最优参数选择原则.在不改变均匀圆阵阵列流形的情况下,此方法抑制了信号中的乘性和加性噪声,且计算量小.计算机仿真证明了此方法的有效性.     

白色发光的电致发光显示器

在ZnS中加入Mn、Cu中心制备出白色发光的电致发光材料，发射光谱中可出现3个发光峰，分别是460nm、520nm和585nm。深入研究了Mn、Cu中心的分布和2个中心在不同激发条件下的相互作用，在低压区Mn中心受Cu中心的敏化，高压区Mn中心碰撞激发，利用两中心激发机理不同，适当选择合适条件，实现白光。     

30.4 nm光电成像系统分辨率的初步实验研究

本文基于微通道板MCP(Microchannel Plate)探测器件设计一套成像系统，用于对波长为30．4nm的极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)光进行成像．结果获得了一宽度为3mm的狭缝的像，实验测得490μm的成像系统的空间分辨率，并分析了影响系统分辨率的各种因素及为提高系统分辨率所应采取的措施．     

高斜效率高功率850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器

报道了MOCVD生长的高性能850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器．研制出的氧化直径为9μm的激光器25℃时的斜效率和阈值电流分别为0．82mW／mA和2．59mA，激光器在23mA时输出16mW最大光功率．氧化直径为5μm的激光器25℃时的最小阈值电流为570μA，其最大饱和光功率为5．5mW．     

光学技术在PDP制造中的应用

近年来新型的平板显示器件PDP(等离子体显示板)发展迅速，PDP作为一种气体放电器件，其工业制造涉及电真空学、光学、化学、计算机、精细加工、微电子等学科，本文主要论述和介绍了PDP的制造工艺以及光学技术在PDP制造中的应用。     

全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究

全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素，然而其制作工艺复杂，工序繁多，质量难以控制，模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节，提高全息片的质量。详细模拟了全息片的三个主要质量指标：刻透率、分辨力以及薄膜厚度对再现像质的影响，结果表明：刻透率控制在90％左右即可满足要求，分辨率应优于0．1μm，膜层应尽量均匀。     

基于SPCE061A单片机的髋作用力测试仪设计

介绍了基于SPCE061A单片机的髋作用力测试仪的系统结构及部分软件编写流程,着重分析了测试仪的测力方法以及使用光电编码器进行测速和鉴相的原理.测试仪以SPCE061A单片机为控制核心,配有串行通信口,具备上位机实时监控、数据保存和复现、测试数据离线分析等功能.实验证明,该测试仪具有测量准确、稳定性高及操控界面友好等优点.     

ISD2500与ATmega8单片机配合使用的智能语音系统设计

提出了一种利用ATmega8单片机对ISD2500系列语音芯片进行控制的智能语音系统,此系统使用灵活,易于功能升级,具有良好的应用前景.提供了硬件连接电路和关键源程序.     

MEMS器件的腐蚀与释放

以硅微机械FP腔器件为代表,该器件采用了标准的硅表面加工工艺,分析了此类具有悬空结构的MEMS器件在进行牺牲层的腐蚀和最终的结构释放过程中的各种问题.根据所遇到问题的不同情况对器件的设计和工艺流程进行了改进,并通过实验验证了其可行性.     

TEM00 模激光器的稳定运转以及1 /4 λ波片的作用

望远镜Z形腔设计,利用大基模体积的腔型特性,得到了低阶模情况下运转的大功率基频激光器,而且由于在望远镜腔中,激光棒上的光斑直径对于热焦距的变化并不敏感,利用ABCD矩阵可以详细的对谐振腔输出特性进行分析。另外,分析了1 /4λ波片对于Nd∶YAG棒热致双折射效应的补偿作用,实验结果与理论分析吻合较好。实验中采用了9个20W的高功率半导体激光器侧面抽运的单Nd∶YAG棒,单个声光Q驱动器, Z形腔设计,最终实现了最高输出功率为20W,M2 因子为1. 2,稳定性(RMS值) < 1%的TEM00输出。