双轴应变下GaN有效质量的计算及其对迁移率的影响

通过计算双轴应变下氮化镓的电子能带结构,给出了GaN有效质量与应变的变化关系。在弛豫时间近似的条件下,这种关系决定了双轴应变AlGaN/GaN中二维电子气(2DEG)的迁移率的改变。在其他物理参量不变的情况下,这种二维电子气迁移率将随着张应变的增加而增加,并随着压应变的增加而减小。计算结果表明,张应变对2DEG迁移率的影响要比压应变大。此外,GaN有效质量的变化在低温时对迁移率的作用更明显。而在低温低浓度的条件下,迁移率却对有效质量的依赖很小。     

1957-2017年泾河流域降雨量及降雨侵蚀力时空变化分析

泾河流域受土壤侵蚀的影响,水土流失较为严重,为对流域水土流失风险评估和防治等提供参考依据,根据1957-2017年泾河流域5个气象站点的日降水资料,运用ArcGIS空间插值、小波分析、R/S分析等方法,分析了该时段降雨量及降雨侵蚀力时空变化规律。结果表明:泾河流域及各气象站点的降雨量与降雨侵蚀力均呈显著正相关关系;泾河流域降雨量与降雨侵蚀力年内分布不均,主要集中在夏季,分别占全年的67.80%和52.86%;泾河流域年均降雨量和降雨侵蚀力分别为496.83 mm和1 481.24 (MJ·mm)/(hm~2·h),年际总体呈波动上升趋势且未来降雨侵蚀力将延续增加趋势,两者均在1996和2009年出现突变点且第一主周期分别为27和17 a;泾河流域降雨量和降雨侵蚀力在空间上均呈从西北到东南递增的趋势。     

白泥滩Ⅲ号铅锌多金属矿成矿地质条件与找矿前景分析

通过对新疆和田县白泥滩Ⅲ号铅锌多金属矿成矿地质背景、典型的矿床地质特征、成矿控制因素的综合分析,对新疆和田县白泥滩Ⅲ号铅锌多金属矿找矿标志进行了初步研究,总结了该矿区找矿勘查成果及找矿远景。     

纤维对莫来石-刚玉质高温窑具性能的影响

莫来石-刚玉质高温窑具是以工业氧化铝和莫来石为主要原料加工而成，材料主要组分为莫来石和刚玉。该窑具具有较高的使用温度（不低于1350℃）、高温强度和化学稳定性，与承烧制品的化学相容性好，特别适用于承烧软磁体（铁氧体）材料和电子绝缘陶瓷。但该材质窑具的抗热震性较差，若提高抗热震性却叉降低了高温强度，存在抗热震性和高温强度之间的矛盾，因此研究了纤维的引入对莫来石-刚玉质窑具性能的影响。     

含水量对渠道保温板保温耐久性的影响及保温板厚度设计

北方渠道大多使用保温板防止混凝土衬砌受冻胀破坏。在计算保温板厚度时为了降低成本,容易忽略保温板使用过程中受各种因素的影响导致保温效果变差的情况,使混凝土衬砌达不到设计使用年限便提前被破坏。内蒙古河套灌区试验结果表明,由于受酸雨、冻融作用、含水量等因素的影响,保温板保温效果平均每年降低0.9℃,其中受含水量变化的影响最大。经试验测得:聚苯乙烯保温板(EPS)含水量每增加1%,会导致导热系数增大5%。基于多层材料串联热阻叠加原理和热阻等效原理,对保温板厚度计算公式进行完善,并提出相应的铺设方法和施工技术要求。该设计对保温板在季节性冻土区的推广应用具有一定参考价值。     

国内外非铬航空涂层的研究进展

综合分析了国内外非铬航空涂层的发展现状;对硼硫酸阳极氧化膜、非铬底漆的防腐性能进行了研究;对硼硫酸阳极氧化对铝合金疲劳性能的影响进行了测试。试验结果表明:非铬涂层需配以含铬的转化涂层才能够满足防腐性能的要求。硼硫酸阳极氧化对铝合金疲劳性的影响与铬酸阳极氧化相当。     

浅议我厂吸氨系统工艺流程的改进

浅议我厂吸氨系统工艺流程的改进赵强（青海省德令哈碱厂德令哈市８１７０００）德令哈碱厂是１９８８年完成设计的４０ｋｔ／ａ轻质纯碱生产装置。原设计装置吸氨系统的流程是：由盐水车间来的精制盐水经冷却后进入吸氨塔第１６圈，溢流后到第１３圈，完成第一次冷却循环...     

管窥西周时期礼射活动及其功能

西周时期的“礼射”,是射箭比赛与西周尊礼文化相融合的产物。研究发现：西周的礼射不仅具有军事功能,而且具有教育教化作用,随着“礼”与“乐”结合的深入,礼射在西周末期成为一项高雅的娱乐活动,具有娱乐性,其完善的竞赛规则和程序更是我国早期竞技体育运动的一个缩影。     

多总线接口信号处理SoC虚拟验证平台的实现

多总线接口信号处理SoC芯片是以信号处理DSP为核心集成了多个总线接口的片上系统,该SoC涉及的总线协议众多,验证复杂、工作量大,验证将是该SoC芯片开发的瓶颈。为了缩短多总线接口信号处理SoC芯片的开发周期,提高该SoC芯片的一次流片成功率,必须采用更为可靠和有效的验证方案。以SoC验证流程及方法为指导,重点介绍了多总线接口信号处理SoC虚拟验证平台的构建和具体实施。验证结果表明,该验证平台能高效、全面验证芯片功能,提高了芯片验证效率,缩短了整个芯片开发周期,为芯片的成功投片提供了可靠保障。     

基于自适应投影的指纹模板生成算法

针对现有指纹模板生成算法存在的准确性较低、安全性较差的问题,提出一种基于自适应投影的指纹模板生成算法。该算法将有效细节点对之间的距离垂直投影到自适应圆上,并对投影后的向量进行量化得到比特串。此外,为增强数据的安全性及隐私性,采用异或和随机索引置乱变换对比特串进行处理,最终生成指纹模板。在数据库FVC2002 DB1和DB2中的实验结果表明,该算法相较于对比算法,具有较高的准确性和安全性。