等离子喷涂NiCrBSi+Ni/Al复合涂层的设计及应用

本文提出了用等离子喷涂法制备Ni60B＋Ni／A1复合涂层的新工艺。试验结果表明：Ni60B与Ni／A1粉末按不同比例混合，可制备出不同性能的喷涂工作层。     

浸渍钡钨阴极表面同步辐射光电子谱研究

为了解浸渍钡钨阴极表面各元素的化学状态,采用同步辐射光电子谱技术对激活前后的阴极表面进行了研究。结果表明,与激活前相比,经1150℃×90min 高温激活后,阴极表面吸附层厚度减薄,吸附C 完全消失,O 含量明显升高,W 含量增加1 倍,Ba 含量增加2 倍。另外,阴极表面的O1s、W4f 和Ba3d 等的谱峰均向高结合能方向显著位移。分析认为,激活后的阴极表面分布的吸附氧,使W 基体以及阴极表面的Ba 均产生吸附氧化,Ba 在阴极表面主要以吸附化合物Ba_m?O_n(m≤n)的形式存在。     

Ni海绵氧化物阴极制备技术改进

采用喷砂和真空蒸散技术，改进了Ni海绵氧化物阴极制备方法。试验表明，这一改进可显著提高阴极制备质量，有利于提高大功率微波器件的可靠性。     

FeSiAl微波衰减涂层电磁特性分析

采用矢量网络分析仪对FeSiAl微波衰减涂层的电磁参数进行了测试，通过利用电磁波衰减理论进行分析，搞清了FeSiAl微波衰减涂层的衰减类型以及FeSiAl涂层具有优异衰减特性的实质。     

渗硼板焊接工艺的研究

本文提出了采用６ＩＰ堆焊焊条焊接渗硼板的新工艺。试验表明：采用此工艺得到的焊缝具有良好的抗裂性能，且焊缝以ＨＶ７０４－７９２的硬度与渗硼板（ＨＶ１２９０－１５９０）一起构成了高硬度的耐磨整体。     

铸件缺陷补焊机的研制与应用

介绍了一种新型铸件补焊机的研制过程、设备的组成、工作原理以及主要特点 ,并介绍了用补焊机进行的常规的补焊工艺和典型应用实例     

MWECR CVD系统中磁场梯度对a-Si∶H薄膜沉积速率的影响

为了定量地得到磁场梯度对a-Si∶H薄膜沉积速率的影响,对单磁场线圈分散场MWECR CVD系统等离子体室和沉积室中用三种方法得到的磁场形貌进行了研究.通过洛伦兹拟合的方法定量地得到了这些磁场形貌的磁场梯度.结果表明,样品台下面放置钐钴永磁体并使磁场线圈电流为137.7A时其衬底附近磁场梯度值最大,样品台下面无钐钴永磁时,磁场线圈电流分别为137.7A和115.2A的磁场梯度值依次为次之和最小.制备a-Si∶H薄膜时,在衬底附近具有高的磁场梯度值可以得到高的沉积速率.通过红外吸收谱技术分析,虽然样品台下面放置钐钴永磁体并使磁场线圈电流为137.7A下能得到最大的沉积速率,但是沿样品台半径方向沉积速率呈现很明显的不均匀分布.     

M型阴极离子斑扫描电镜分析

采用扫描电镜及X射线能谱仪对覆膜阴极的离子斑进行了分析。分析表明,阴极离子斑中心部分的贵金属覆膜(Os膜)已被完全溅射掉;离子斑周边覆膜仍保留一部分,但Ba和O的含量极低。进一步分析表明,离子轰击不仅使离子斑区域贵金属膜受损,同时使该区域Ba-O键的含量大幅度降低,从而导致该区域及整个阴极的发射出现明显下降。     

焊后热处理对PCrNi3Mo钢组合焊缝接头显微组织的影响

本文研究了焊后热处理对ＰＣｒＮｉ３Ｍｏ钢组合焊缝接头显微组织的影响，探讨了特征区组织转变机理及底层焊道的脆化倾向，结果表明，焊后热处理中，随着Ｍ２３Ｃ６型碳化物的大量折出，底层焊道熔合区组织变得更加复杂，并形成了较薄的碳迁移层；底层焊道中较高的含碳量，对σ相的转变具有一定的抑制作用，焊缝金属的脆化倾向较小。     

化学镀镍Si3N4陶瓷与金属钎焊接头的分析

利用扫描电镜,能谱仪及射线衍射仪对化学镀镍Ｓｉ３Ｎ－Ｑ２３５钢钎焊接头进行了微观分析,分析表明,接头为多层复合结构,陶瓷／镀镍层间发生了界面反应,但反应区在界面上不连续,机械结合仍为陶瓷与金属界面的主要结合方式。