热重法研究煤泥与玉米秸秆的混合燃烧特性（英文）

利用热重研究了煤泥与玉米秸秆的混合燃烧特性,分别分析了原料中挥发组分和无机组分对燃烧特性的影响,并进行了动力学计算。结果表明,玉米秸秆的添加能够促进煤泥的着火并能显著提高煤泥的燃烧性能。煤泥中的无机组分阻碍煤泥中有机组分的着火及燃尽,而玉米秸秆中的无机组分对有机质的燃烧起到促进作用。玉米秸秆半焦中残存的无机组分仍能促进煤焦的着火和燃尽。煤泥燃烧的活化能接近于泥炭和褐煤燃烧的活化能。玉米秸秆的添加能够显著降低煤泥和秸秆混合燃烧的活化能。     

ECR-MPCVD单晶金刚石外延生长研究北大核心CSCD

借助高速光纤光谱仪对ECR微波等离子体进行实时诊断,研究了等离子体空间分布以及工作气压和甲烷浓度对等离子体发射光谱的影响,并在ECR-MPCVD设备上研究了单晶金刚石同质外延生长工艺。在CH4/H2体系下,ECR微波等离子体与运行于中高气压下等离子体中所含基团种类基本相同。且等离子体各基团谱峰相对强度沿磁场强度梯度下降的方向减弱,在磁场共振区(875 Gs)最强,将基片台置于磁场共振区,则基片台附近各基团谱峰相对强度随气压的升高先增强后减弱,I(H_(α))、I(H_(β))、I(H_(γ))峰值在气压0.6 Pa附近,I(CH)和I(C_(2))峰值在0.8 Pa附近。保持工作气压为0.8 Pa,甲烷浓度从0.5%增加到8%的过程中,I(H_(α))几乎不变,I(H_(β))和I(H_(γ))先降低后趋于饱和,I(CH)和I(C_(2))先增强后趋于饱和;I(H_(α))/I(C_(2))先急剧下降后缓慢减小再趋于饱和,I(H_(α))/I(CH)缓慢减小并趋于饱和,I(CH)/I(C_(2))和I(H_(γ))/I(H_(β))基本不变。以微波功率1200 W,氢气流量50 mL/min,甲烷浓度3%,工作气压0.8 Pa,金刚石种晶温度800℃的条件下生长10 h,在抛光的单晶金刚石表面得到了呈台阶状生长的外延层,生长速率为200 nm/h。     

智能电网调度控制系统中历史数据服务优化方案

在智能电网调度控制系统中,历史数据存储规模呈爆发式增长态势,海量历史数据的冲击,影响了数据访问效率,为满足历史数据高效访问的需求,针对历史数据服务提出了全新的解决方案。文中提出增加历史数据缓冲区,缓存管理电网热点数据,提高数据处理效率,减轻历史库负载;优化任务分配器,协调数据缓存区与关系库分工作业,对历史数据服务进行有效的管理和调度;设计历史数据会话监听机制,实时监视数据库会话状态,保障历史数据服务的安全性和稳定性。实践证明,基于缓存的历史数据服务能够满足爆发式海量数据场景下的数据访问需求,保障电网调度控制系统的安全稳定运行。     

钨表面激光处理对金刚石膜附着力的影响

利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),在CH₄/H₂体系下沉积金刚石膜,通过发射光谱仪测量等离子体参数,结合Raman光谱仪测量金刚石膜的内应力, 用SEM测试金刚石膜的表面以及断面形貌,通过热震试验来探究钨表面激光处理对金刚石膜附着力的影响。结果表明:钨片表面激光处理能释放金刚石膜的应力,增强钨片与金刚石膜的附着力;在确保钨与金刚石膜附着力得到极大提高与钨片表面损伤尽量小的前提下,钨片表面切割深度在0.035 mm时较合适。      

高温下多种工业固体废弃物复配体系的熔融特性研究

以粉煤灰、煤矸石、电石渣、镁渣和赤泥等五种工业固体废弃物为原料,按照不同酸度系数进行复配,分别采用灰熔融温度测定仪和高温黏度测定仪测定了高温下复配样品的熔融特征温度和黏度变化。结果发现,酸度系数在0.95~1.19范围内时,熔融特征温度随酸度系数的增大而升高;在酸度系数较大时,酸度系数对熔融温度的影响更为明显;熔体的黏度随温度降低而增加;当黏度在0~1000 mPa·s范围内,随样品中Fe2 O3含量增加,熔体黏度随温度的变化速度降低。     

MP-CVD中CH4浓度对CH4/H2等离子体中基团的影响

采用发射光谱法(OES)诊断了微波等离子体化学气 相沉积(MP-CVD)制备金刚石膜过程中CH₄浓度对 CH₄/H₂等离子 体中基团分布的影响,并利用拉曼光谱对不同CH₄浓度下沉积的金刚石膜生长面进行表 征。研究表明:CH₄/H₂等离子体中存在Hα、Hβ、Hγ、CH、C₂基团,且各基团谱线强度随CH₄浓度 的增加而增强,其中C₂基团的光 谱强度显著增强;CH₄/H₂等离子体电子温度随CH₄浓度的增加而上升;光谱空间诊 断发 现等离子体球中基团 沿径向分布不均匀,随CH₄浓度增加,C₂和CH基团分布的均匀性显著变差;沉积速率 测试表明,单纯增加CH₄浓度不能有效提高金刚石膜的沉积速率;Raman光谱测试结果 表 明,低CH₄浓度(0.8%)下沉积出的金刚石膜质量更理想。     

CVD金刚石膜的抛光研究进展

化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用。本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望。     

新型大面积圆筒状等离子体源制备金刚石膜

针对圆筒状基底材料的几何特征,设计了与之匹配的新型大面积圆筒状等离子体源。使用该等离子体源以乙醇蒸汽和氢气为气源在石英玻璃管外表面沉积金刚石膜。采用扫描电子显微镜、Raman光谱及X射线衍射表征了金刚石膜的质量;设计腐蚀实验检验了金刚石膜的抗腐蚀效果。结果表明:(1)在反应气压为5.5kPa、V乙醇/V氢气=8%、石英玻璃管温度为500℃的条件下,得到的均匀致密的纳米金刚石膜能有效增强石英玻璃管的抗腐蚀性能;(2)针对基底的尺寸和外形特征设计与之匹配的等离子体源是均匀制备金刚石膜最可行的途径。     

金刚石薄膜的研究概况

介绍了金刚石薄膜的制备方法及应用前景,简要分析了金刚石薄膜未来的研究重点.     

铜植入层对硬质合金上金刚石薄膜附着力的影响

金刚石薄膜在含Co的硬质合金刀具上的沉积有较大的困难.在化学气相沉积条件下碳在钴中溶解和扩散限制了金刚石的形核并易生成石墨,导致了金刚石薄膜的附着力较差.为增强金刚石薄膜在硬质合金刀具上的附着力,本研究采用了铜植入层作为扩散阻挡层.实验研究表明铜植入层提高了脱钴后的刀具表面的硬度及金刚石薄膜的质量;压痕试验表明:在载荷为1 500 N时金刚石薄膜的开裂直径为1.12 mm,金刚石薄膜在刀具上的有很好的附着力.