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PIN结构自扫描光电二极管列阵的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
通过对再充电采样方式的自扫描光电二极管列阵(SSPA)工作原理分析,对列阵中光电二极管工作模式进行较深入的探讨,指出影响其性能的主要因素。提出了用PIN结构代替常用的PN结结构的光电二极管组成SSPA。经过PIN结构和MOS电路兼容工艺方案的分析及实验,测试结果表明PIN结构有利于改进SSPA的性能,是研究高性能SSPA的新结构。 相似文献
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X射线直接成像的CMOS图像传感器由于工作在X射线辐射下,其内部器件会因为辐射效应引起性能恶化,因此需要对器件进行抗辐射加固并研究辐射对器件参数的影响。辐射导致的氧化物陷阱电荷及界面陷阱电荷受到栅氧厚度、偏置电压大小、辐射总剂量以及剂量率等多种因素影响。设计了n型场效应晶体管辐射加固结构版图,用0.5μm CMOS工艺流片,并进行了30 kGy(Si)的总剂量辐照效应实验。实验结果显示,所设计的n型场效应晶体管在辐射之后漏电流有所增加、跨导减小、阈值电压向负向漂移;辐射加固晶体管在漏电流性能上较未加固晶体管更好,在跨导改变和阈值电压漂移上未能表现出其更优的性能。 相似文献
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闫旭亮孟丽娅袁祥辉黄友恕吕果林 《半导体技术》2014,(11):861-866
X射线直接成像的CMOS图像传感器由于工作在X射线辐射下,其内部器件会因为辐射效应引起性能恶化,因此需要对器件进行抗辐射加固并研究辐射对器件参数的影响。辐射导致的氧化物陷阱电荷及界面陷阱电荷受到栅氧厚度、偏置电压大小、辐射总剂量以及剂量率等多种因素影响。设计了n型场效应晶体管辐射加固结构版图,用0.5μm CMOS工艺流片,并进行了30 kGy(Si)的总剂量辐照效应实验。实验结果显示,所设计的n型场效应晶体管在辐射之后漏电流有所增加、跨导减小、阈值电压向负向漂移;辐射加固晶体管在漏电流性能上较未加固晶体管更好,在跨导改变和阈值电压漂移上未能表现出其更优的性能。 相似文献
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高帧速自扫描光电二极管面阵 总被引:2,自引:0,他引:2
通过对多路并行输出的高帧速自扫描光电二极管面阵(SSPA)的研究,分析了影响面阵帧速和响应度的主要因素。设计并制作出32×32位多路并行输出的SSPA实验样品。其性能参数为:FPS(帧速)≤2000帧/秒时,Vos(最大输出电压)=240mV,R(响应度)=1.09V·1x-1·s-1;FPS=10000帧/秒时,Vos=150mV;FPS=15000帧/秒时,Vos=100mV。 相似文献
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PIN结构自扫描光电二极管列阵 总被引:2,自引:0,他引:2
从自扫描光电二极管列阵(SSPA)的工作原理出发,提出采用外延、离子注入、推阱的技术,研究一种新颖的高响应度的PIN结构的SSPA器件,详细的分析了工艺设计方案和实验方法,最后提供了样品的测试参数。 相似文献