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In this paper we study the optimization issues of ring networks employing novel parallel multi‐granularity hierarchical optical add‐drop multiplexers (OADMs). In particular, we attempt to minimize the number of control elements for the off‐line case. We present an integer linear programming formulation to obtain the lower bound in optimization, and propose an efficient heuristic algorithm called global bandwidth resource assignment that is suitable for the design of large‐scale OADM networks. 相似文献
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胡晓荷 《信息安全与通信保密》2006,(11):42-43
从去年年底的一段时间以来,尽管天融信备受外界关注,但除了宣布去年9月在天融信成立十周年之际,具有丰富国际企业运作和管理经验的金玉丹先生出任天融信公司的CEO和今年一月任命韦文为公司CTO以外,天融信通过正面渠道向外界发出的声音似乎并不多,大家听到更多的是通过小道消息或传闻,有人说天融信正在进行人事变动,也有人说天融信正在历经变革与调整,但都未得到正面证实。然而近期天 相似文献
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胡晓荷 《信息安全与通信保密》2006,(2):25
安全加密产品的领导者SafeNet 公司,近日发布了新一代世界级高安全加密锁产品——圣天狗,以确保软件开发商的知识产权不被非法盗用。圣天狗(Sentinel Dog)是第一个也是唯一一个在市场上采用公钥技术、AES加密和内部验证机制的保护锁。它在提供超强安全加密性能的同时具有弹性化的授权模式。 相似文献
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A simple template‐free high‐temperature evaporation method was developed for the growth of crystalline Si microtubes for the first time. As‐grown Si microtubes were characterized using X‐ray diffraction, scanning electron microscopy, transmission electron microscopy, and room‐temperature photoluminescence. The lengths of the Si tubes can reach several hundreds of micrometers; some of them have lengths on the order of millimeters. Each tube has a uniform outer diameter along its entire length, and the typical outer diameter is ≈ 2–3 μm. Most of the tubes have a wall thickness of ≈ 400–500 nm, though a considerable number of them exhibit a very thin wall thickness of ≈ 50 nm. Room‐temperature photoluminescence measurement shows the as‐synthesized Si microtubes have two strong emission peaks centered at ≈ 589 nm and ≈ 617 nm and a weak emission peak centered at ≈ 455 nm. A possible mechanism for the formation of these Si tubes is proposed. We believe that the present discovery of the crystalline Si microtubes will promote further experimental studies on their physical properties and smart applications. 相似文献
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Shi-Jin Ding Hang Hu Lim H.F. Kim S.J. Yu X.F. Chunxiang Zhu Li M.F. Byung Jin Cho Chan D.S.H. Rustagi S.C. Yu M.B. Chin A. Dim-Lee Kwong 《Electron Device Letters, IEEE》2003,24(12):730-732
For the first time, we successfully fabricated and demonstrated high performance metal-insulator-metal (MIM) capacitors with HfO/sub 2/-Al/sub 2/O/sub 3/ laminate dielectric using atomic layer deposition (ALD) technique. Our data indicates that the laminate MIM capacitor can provide high capacitance density of 12.8 fF//spl mu/m/sup 2/ from 10 kHz up to 20 GHz, very low leakage current of 3.2 /spl times/ 10/sup -8/ A/cm/sup 2/ at 3.3 V, small linear voltage coefficient of capacitance of 240 ppm/V together with quadratic one of 1830 ppm/V/sup 2/, temperature coefficient of capacitance of 182 ppm//spl deg/C, and high breakdown field of /spl sim/6 MV/cm as well as promising reliability. As a result, the HfO/sub 2/-Al/sub 2/O/sub 3/ laminate is a very promising candidate for next generation MIM capacitor for radio frequency and mixed signal integrated circuit applications. 相似文献