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This paper presents a novel parallel processing-based frame synchronous methodology for 155·520 Mbit/s high speed networks according to ITU-T Recommendations G.707, G.708 and G.709. This scheme is expected to relax operating speed requirements of the circuits used in the system. The proposed methodology can be implemented using off-the-shelf low-rate integrated circuits (ICs). The performance of the devised methodology is analysed and found to be similar to that of traditional approaches. Finally, the proposed scheme is efficient and easy to implement at low cost without sacrificing performance. 相似文献
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研究了三种汽车风挡玻璃用单组分PU(聚氨酯)密封胶和SPU(硅烷改性聚氨酯)密封胶。采用红外光谱(FT-IR)、凝胶渗透色谱(GPC)法分析了三种密封胶的结构和相对分子质量,并对其固化行为、粘接性能和力学性能等进行了研究。结果表明:相对湿度越大(或固化温度越高),则三种密封胶的表干时间越短且固化速率越大;在三种密封胶的储存过程中,其表干时间和固化速率变化不大,稳定性较好;SPU密封胶与基材的粘接性能优于PU密封胶;PU密封胶的拉伸强度(≥8.2 MPa)和撕裂强度(19 N/mm)均优于SPU密封胶的拉伸强度(5.8 MPa)和撕裂强度(13 N/mm)。 相似文献
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为了提高天然染料对棉纤维的染色固色性能,以聚马来酸(PMA)和柠檬酸(CA)为交联剂应用于天然染料指甲醌对棉织物的交联染色。采用FTIR、SEM和XRD分析了染色前后棉织物的表面形态及结构,探讨了酯交联对棉织物性能的影响以及多元羧酸复配交联染色机理。结果表明,染色前后棉织物表面差别不大,各纤维间不粘连;直接染色后的棉纤维表面变化不明显,仅有少量染料附着,而交联染色后的棉纤维表面负载较多的染料导致其粗糙度增加,酯化反应主要发生在纤维的非晶态区。与直接染色棉织物相比,交联染色棉织物的染色深度(K/S)和上染率分别提高了88%和38%;染品的绿光、黄光增加,颜色饱和度提高;摩擦色牢度提高了1~2级;耐洗色牢度提高了1~2级;交联染色后棉织物的折皱回复角(WRA)提高了约60%,UPF值达到了50+,具有优异的抗紫外性能。 相似文献
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Hitoshi WADA Yasuhiro NISHISAKA Ryoichi ICHINO Masazumi OKIDO 《中国有色金属学会会刊》2009,19(4):791-794
The relatively uniform bismuth-copper film was electrodeposited between −15 and −20 mV in the sulfate electrolyte containing 4 mmol/L bismuth ion and 2 mmol/L copper ion. Only copper was electrodeposited at −5 mV. The dendritic bismuth-copper film was electrodeposited under −20 mV. The cathodic current became constant between −20 and −400 mV. Therefore, bismuth-copper electrodeposition changes from charge transfer controlling to diffusion controlling at −20 mV. On the other hand, the uniform bismuth-copper film was electrodeposited between −5 and −35 mV in the methanesulfonate electrolyte containing 4 mmol/L bismuth ion and 2 mmol/L copper ion. The dendritic bismuth-copper film was electrodeposited under −35 mV. The potential region for good electrodepositon in methanesulfonate electrolyte is wider than that in sulfate electrolyte. Therefore, it is easy to control electrodeposition conditions by using methanesulfonate electrolyte. 相似文献
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