一种基于规则的软件体系结构层性能演化优化方法

目前基于规则的软件体系结构（Software Architecture,简记为SA）层性能优化方法大多未充分考虑优化过程中规则的使用次数和使用顺序的不确定性,导致了搜索空间受限而难以获取更优的性能改进方案.针对这一问题并以最小化系统响应时间为优化目标,文中首先定义一种基于规则的SA层性能优化模型RPOM,以将SA层性能优化抽象为求解最优规则序列的数学问题;然后设计一种支持SA层性能改进规则序列执行的框架RSEF;进一步提出一种采用约束检查、修复及统计学习机制的演化求解算法EA4PO;最后以Web应用为案例与已有方法进行实验对比.结果表明：（1）本文方法较已有方法可以获取更短的系统响应时间;（2） EA4PO所引入的统计学习机制可显著提高演化求解算法的收敛速度和解质量.     

反涂层隐身地面金属目标的毫米波辐射探测方法

针对涂层隐身地面金属目标难以探测的现实问题,从辐射探测角度研究了毫米波交流辐射计用于发动机工作状态下涂层隐身地面金属目标探测的新方法.在对毫米波交流辐射计系统组成及工作原理论述的基础上,结合不同条件下目标辐射特性的特点,对毫米波辐射探测技术反涂层隐身地面金属目标的机理和方法进行分析,并给出理论计算结果,然后利用研制的3 mm频段全功率交流辐射计,在草地背景上进行了一系列模拟探测实验.实验结果与理论分析相吻合,验证了毫米波辐射探测技术反涂层隐身地面金属目标的可行性和有效性,从而为反涂层隐身技术提供了一种新思路.     

单载波UWB系统物理层帧结构设计与实现

提出了一种SC-UWB系统物理层帧结构.这种帧结构支持ECMA-368标准媒体接入控制层帧结构,包含前导序列、跟踪序列等辅助序列以实现接收端的精确同步,采取了加扰、级联编码、头校验等保护措施,不仅保证了SC-UWB物理层的高性能,而且兼顾了效率、延时和复杂度.所述帧结构已应用于国家相关重点项目中,并取得了良好的效果.     

MOSFET集约模型的发展

MOSFET集约模型作为连接半导体生产商与电路设计者之间的桥梁,是半导体行业不可或缺的一环。随着对器件物理效应的不断深入了解,以及不断满足电路设计新要求,MOSFET集约模型经历了长时间的发展。从模型的基础出发,介绍了基于阈值电压Vth、反型层电荷Qi和表面势Φs这三类MOSFET集约模型的发展历程及其主要特征。     

基于LED的紫外光通信调制方式研究

紫外光通信是一种具有很大潜力的短距离通信方式.针对基于LED的紫外光通信特点,详细分析了脉冲位置调制(PPM)、差分脉冲位置调制(DPPM)和数字脉冲间隔调制(DPIM)的调制结构.并结合MATLAB仿真结果,以开关键控调制(OOK)为基准,系统比较了各种调制方式的带宽需求、平均发射功率和误时隙率等参数.最后结合紫外光通信的工程运用特点给出了分析结论.     

毫米波辐射图像的运动模糊参数辨识

针对平面扫描毫米波辐射成像系统和被成像场景之间的运动模糊问题,提出了一种基于Radon变换和微分自相关运算的运动模糊参数辨识方法.首先对原始运动模糊图像两次傅立叶同态变换谱的二值化图像进行Radon变换以估计运动模糊方向,然后在此方向上利用运动模糊图像的微分自相关运算得到运动模糊长度,最后以运动模糊方向和运动模糊长度为参数结合维纳滤波算法对运动模糊图像进行恢复,并引入基于图像灰度梯度向量模方和的运动模糊图像清晰度评价函数,实现对原始运动模糊图像及恢复图像质量的评估,从而达到衡量本文算法辨识精度的目的.实验结果表明,该算法能够准确辨识毫米波辐射图像的运动模糊参数,并具有良好的抗噪声干扰性能及稳定性.     

基于高精度端元的混合像元线性分解模型研究

从理论上阐述了混合像元的产生机理和混合像元线性分解模型,研制了一套地面成像光谱实验系统,直接获取了高精度的端元光谱数据,通过像元合并的方式构造混合像元,针对不同丰度的非立体空间混合像元端元,分析了根据线性分解模型加权计算得到的光谱与实际混合光谱的误差,进而论证了线性分解模型的精度.     

W波段正交频分复用信号传输系统的实验研究

实验研究了工作在W波段的正交频分复用毫米波传输系统的传输特性。系统中应用了优化信道估计的符号内频域平均技术和减少信号峰均比的基于离散傅里叶变换的扩频技术(DFT-Spread)来提高传输性能。实验成功地将21.2 Gb/s 84.5 GHz载频的16QAM OFDM信号传输2 m的无线距离,误码率控制在7%冗余度的软判决纠错码门限内(比特误码率为3.8×10-3）。     

特征选择验证方法：原理、应用及最新进展

随着电磁建模技术的发展,计算机电磁建模与仿真验证得到了国内外相关研究领域的广泛重视。近年来,定量评估电磁建模数据差异的特征选择验证( FSV )方法迅速成为研究热点,并被IEEE1597.1&1597.2标准确立为电磁建模与仿真验证的核心算法。介绍了FSV方法的基本原理和验证流程、在电磁建模与仿真验证中的典型应用以及最新的研究进展,深入剖析了FSV方法的研究热点与发展趋势,旨在为国内相关领域学者提供参考。     

湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究

随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)均一性的影响因素及如何提高FI CD均一性为目的进行研究。首先,通过对湿法刻蚀设备参数(主要包括刻蚀液温度、流量、压力、浓度、Nozzle Sliding、Oscillation Speed、刻蚀时间等)进行试验,验证各项参数对FI CD均一性的影响。其次,对沉积工序、曝光工序以及产品设计等进行试验,获悉影响因素并进行改善。通过对湿法刻蚀设备自身参数的调整,如减少设备温度、流量、压力波动,使参数保持相对稳定状态,可有效改善湿法刻蚀FI CD均一性,FI CD的均一性可从1.0降低至0.5。通过对湿法刻蚀设备参数进行试验并做相应调整,湿法刻蚀FI CD均一性改善效果显著。