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The solubility of NH_3 in water in multicomponent systems under high pressure is of extreme importance to the new integrated ammonia and urea process. This paper proposes a new method for calculating the vaporliquid equilibria for aqueous ammonia solutions under high pressure. Based on the experimental data of the binary system of NH_3-H_2O in the high concentration range, a model has been established for the activity coefficients of NH_3 and H_2O to describe the non-ideality of the liquid phase; and the modified SIRK equation of state for polar compounds has been used to describe the non-ideality of the vapor phase under high pressure. The reliability of this model has been examined in the light of the experimental data of the solubility of NH_3 in H_2O under high pressure in the systems of NH_3-H_2O-N_2, NH_3-H_2O-N_2-H_2-Ar-CH_4 and NH_2-H_2O-N_2-H_2, the last being from Guerreri et al. Both the accuracy of calculation and the concentration range for applicability of this model have been found to surpass those of Guerrerl's model. 相似文献
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文章首先分析了目前国内外数据立方体计算的研究现状,指出其优缺点。接着在free-set的概念上,给出了一系列相关定义,挖掘了free-set的性质,建立了FreeCube的概念结构。就FreeCube的计算而言,充分考虑到free-set的性质,结合BUC算法的特点,提出了高效的算法SPT(Selecting-PartitionandTrimmingComputationofFreeCube),并从多个角度进行了实验,与相关工作做了对比,说明该算法的优越性。 相似文献
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基板温度对SnO2:Sb薄膜结构和性能的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
以单丁基三氯化锡(MBTC)和 SbCl3 为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD 法)在不同的基板温度下制备 Sb 掺杂 SnO2 薄膜,用 XRD、SEM表征了薄膜的结构和形貌,通过测量薄膜的方块电阻、载流子浓度、霍尔(Hall)系数、紫外可见光谱等性质,详细研究了基板温度对薄膜结构和光电性能的影响。实验表明 550℃以上制备的样品为多晶薄膜,并保持四方相金红石型结构;在 650℃下沉积的薄膜具有最低的方块电阻值,为 72Ω/□;在可见光区域薄膜透射率和反射率随着基板温度的提高均有所下降。 相似文献
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运用八叉树3D纹理实现CFD数据场的直接体绘制 总被引:1,自引:0,他引:1
基于3D纹理的直接体绘制算法可以在保证图像质量的同时达到较好的交互性能,但由于纹理内存的限制,大规模数据场的3D纹理直接体绘制比较困难。作者提出了一种适用于计算流体力学(ComputationalFluidDynamics,CFD)数据场的八叉树3D纹理分割算法。该算法首先对数据场进行层次分割,然后根据CFD数据场的四面体网格特点插值生成规则网格数据场,最后生成基于八叉树结点的3D纹理子块。试验证明该算法可以较好地实现CFD大规模数据场的直接体绘制,渲染速度基本达到交互性的要求,较好地体现数据场内部的层次与结构关系。 相似文献
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提出将气体静压轴系径向节流孔所在截面简化成平面汇交力系,并与边界约束条件一起构成误差方程,应用静力学的理论求解了一些典型情况,并推导出了典型状态下的误差均化值,发现其与过去的实验结果相符且得到了很有意义的结果,从而为进一步建立精确的数学模型进行仿真分析提供了必要的基础. 相似文献