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Si衬底上Ta-N/Cu薄膜性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对Si衬底上Ta-N/Cu薄膜进行了电学和热学分析,结果发现500℃以下薄膜电随几乎不变,600-690℃下的退火引起的电阻率降低是由于Ta-N电阻的热氧化和Cu熔化扩散引起的,而690℃以上的电阻率增加是由于Cu引线传输能力减弱所致,为0.18μm以下的超大规模集成电路中的Cu引线和电阻薄膜的制作提供了有益的借鉴。 相似文献
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十二酰胺丙基二甲基羟乙基氯化铵与十二烷基硫酸钠水溶液的表面吸附和胶束形成 总被引:1,自引:0,他引:1
利用十二酰胺丙基二甲胺和氯乙醇反应 ,合成了十二酰胺丙基二甲基羟乙基氯化铵 (DDHA)阳离子表面活性剂 ,将其与十二烷基硫酸钠 (SDS)以不同摩尔比进行混合 ,测定了混合系统的表面张力 ,计算了单一系统和混合系统的饱和吸附量、分子最小截面积 ,表面层和胶束中 DDHA的摩尔分率及分子间相互作用参数 ,目视观察了混合系统的浑浊情况。结果表明 :在降低γcmc和 cmc方面 ,DDHA SDS混合系统有协同效应 ,表面层和胶束的组成与二组分配比有关 ,但是非对称的 ,等物质的量混合物中 ,DDHA在胶束和表面层中具有较大的摩尔分数。DDHA与 SDS在实验测定的各混合系统中都不出现混浊 相似文献
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Zhang Li Chun Jin Hai Yan Ye Hong Fei Gao Yu Zhi Ning Bao Jun Mo Bang Xian 《Electron Devices, IEEE Transactions on》2002,49(6):1075-1076
A polysilicon emitter RCA transistor (an ultra-thin interfacial oxide layer exists between polysilicon and silicon emitter) is presented which can operate at 77 K for the first time. An ultra-thin (1.5 nm) interfacial oxide layer is grown deliberately between polysilicon and silicon emitter using RCA oxidation and excellent device stability is obtained after rapid thermal annealing (RTA) treatment in nitrogen atmosphere. The RCA transistor exhibits good electrical performance at very low temperature for an emitter area of 3 × 8 μm2. The maximum toggle frequency of a 1:2 static divider is 1.2 GHz and 732 MHz at 300 K and 77 K, respectively 相似文献
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通过对国际岩石力学委员会JV 公式的论证 ,指出了该公式不符合数理逻辑。结合工程勘察实践 ,拟建了Ky新公式 ,提高了工程岩体完整程度评价方法的科学性。 相似文献
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本文采用粉末冶金法制备了不同成分的PSZ/Mo复合材料。并对其密度、弹性模量和热膨胀系数进行了测量和分析 ,用XRD进行了物相分析。实验结果表明 :纳米氧化锆的烧结性能比金属钼好 ;弹性模量估算选用简单混合法则进行计算时应进行修正 ;钼和氧化锆在烧结时不发生化学反应。通过热压PSZ/Mo功能梯度材料的断口扫描分析发现 :虽然金属钼和纳米氧化锆具有一定增韧作用 ,但材料断裂方式仍以脆性断裂为主 相似文献