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81.
采用第一性原理计算方法,使用Gaussian03软件,对A1C1,对稠油间O-H…O氢键的攻击削弱情况进行了计算,计算表明增加了氢键的键长,电荷发生了转移,有效的降低了分子间的能量,有效的削弱了氢键。 相似文献
82.
83.
提高三阶段管保护层抗渗性的研究刘红飞,余洪方,徐雷一、前言三阶段管保护层的厚度一般只有2cm左右,所以其质量的好坏将直接关系到管子的使用寿命。我国目前广泛采用的保护层制作法是辊射法。用此法制作的保护层,脱落、空鼓较少,生产效率较高,但抗渗性难以达到国... 相似文献
84.
对《混凝土制品用脱模剂》标准的几点说明 总被引:2,自引:0,他引:2
JC/T949—2005《混凝土制品用脱模剂》行业标准已颁布实施,为便于该标准的使用者准确贯彻实施标准条款的具体要求和规定,介绍了JC/T949—2005《混凝土制品用脱模剂》标准的制定过程,对标准的主要条款及其来源进行了解释和说明。 相似文献
85.
86.
为实现对多个区域的电磁环境同时进行监测,分析了分布式电磁监测系统的设计原则,确立了监测系统的硬件连接方案,利用以太网-GPIB控制器、集线器和控制计算机来对多台仪器进行集中控制的方式,设计了相应的系统软件。测试结果表明,该系统具备同时控制多台频谱分析仪的功能,能够实时测量电磁频谱、背景噪声、频段占用度等数据,具备测量数据存储、回放与分析、报表生成的功能,具有状态反馈和异常状态提示的功能,完全能满足多个区域电磁监测的要求。 相似文献
87.
采用纯ZrW2O8陶瓷靶材,以脉冲激光沉积法在石英基片上沉积并退火处理后制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱 仪和扫描电子显微镜观察和确定r薄膜结构、化学组分和表面形貌,用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量了薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.结果表明:脉冲激光沉积的薄膜为非晶态,膜层物质各元素之间的化学计量比与靶材成分一致;衬底未加热沉积的薄膜表而粗糙度较大,衬底温度为650℃ 时,薄膜表面平滑致密,粗糙度明显降低:非晶膜在1200℃密闭退火热处理3 min后淬火得到立方相ZrW2O8薄膜,退火后的薄膜品粒较大,同时 还出现一些沿晶界和晶内的裂纹缺陷.随着退火温度升高,薄膜与基片的结合力降低. 相似文献
88.
脉冲激光沉积ZrW2O8薄膜的制备和性能 总被引:1,自引:0,他引:1
采用脉冲激光沉积法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)研究了不同衬底温度对薄膜结构组分、表面粗糙度和形貌的影响,用台阶仪和分光光度计测量薄膜的厚度和不同衬底温度下制备薄膜的透射曲线,用变温XRD分析了ZrW2O8薄膜的负热膨胀特性.实验结果表明:在衬底温度为室温、550℃和650℃下脉冲激光沉积的ZrW2O8薄膜均为非晶态,非晶膜在1200℃保温3min后淬火得到立方相ZrW2O8薄膜;随着衬底温度的升高,ZrW2O8薄膜的表面粗糙度明显降低;透光率均约为80%,在20~600℃温度区间内,脉冲激光沉积制备的ZrW2O8薄膜的负热膨胀系数为-11.378×10-6 K-1. 相似文献
89.
采用化学共沉淀法合成前驱体,前驱体经1150℃烧结得到ZrW2O8/ZrO2复合材料.对ZrW2O8/ZrO2前驱体进行傅里叶变换红外光谱、热重-差示扫描量热分析;通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和热膨胀仪对合成样品的晶体结构、断面形貌和热膨胀性能进行表征.研究结果表明:合成的复合材料的组元为α-ZrW2O8和m-zrO2相,化学均匀性良好且易烧结;随着ZrW2O8质量分数增加,复合材料的热膨胀系数减小,其中26%ZrW2O8/ZrO2复合材料在30~600℃的平均热膨胀系数为-0.5649×10-6K-1,近似为0. 相似文献
90.
从江苏连云港海域筛选和分离到1株产低温淀粉酶的海洋细菌Pseudoalteromonas sp.G23,对该菌株进行了产α-淀粉酶发酵条件研究,结果表明,该菌株发酵16h后到达产酶高峰,最适产酶温度为15℃,最适产酶pH值为8.5,装液量为20%。可溶性淀粉、酵母膏和蛋白胨促进产酶。利用响应面方法对菌株Pseudoalteromonas sp.G23产α-淀粉酶的发酵条件进行了优化,结果表明,可溶性淀粉浓度为1.16%、蛋白胨浓度为2.11%,发酵温度12.38℃,酶活为41.4U/mL,较优化前提高了7倍。 相似文献