一种六边形结构的电容式微机械超声换能器性能分析

为满足超声技术领域对宽频带超声换能器的迫切应用需求,研究了一种新型的六边形结构电容式微机械超声换能器(CMUT)。介绍了CMUT的结构参数与工作原理,采用晶圆键合工艺完成了CMUT的制备,对CMUT的电容-电压特性、电导特性、电纳特性、相位特性、阻抗特性与接收灵敏度进行了测试。测试结果表明,该六边形CMUT具备发射与接收超声波的能力,谐振频率随直流偏置电压增大而减小,接收灵敏度可达-225.97 dB(频率1 MHz),且在频率1～10 MHz内一致性较高,变化量为-2.84 dB,显示出其宽频带特性。该研究可为后续二维六边形结构CMUT阵列的优化设计和性能分析提供有力依据。     

X射线荧光光谱分析硅石稳定性差的原因分析及改进

利用X射线荧光分析仪分析同一硅石标样时,数据出现波动,极差最大达到5个品位,原因为融样的样片存在缺陷（气泡或不熔物）。改进方法：以最佳试样助溶剂质量比为1∶20、最佳融样温度为1 150℃和融样时间为15 min为条件制备标样样片,重新建立荧光分析曲线,再用化学湿法分析进行数据比对,结果理想。     

在原有围护桩上如何新建工程灌注桩

杭州市中心某2座大楼拼接工程,建筑面积近1万m2,9层框架结构,建筑高度35·1m。设计采用钻孔灌柱桩基础,桩底压力注浆,一桩一柱,桩身混凝土强度等级C35。桩径1 300mm的10根,单桩竖向抗压承载力特征值Ra≥11500kN;桩径1 700mm和1 800mm各1根,要求Ra≥18 500kN,桩端进入持力层即中     

大断面煤巷快速掘进支护参数优化

为进一步提高大断面矩形巷道掘锚一体机掘支效率,以榆横矿区巴拉素煤矿首采面的2102辅运顺槽为工程背景,通过现场调研及数值模拟分析锚杆间排距及锚索布置方式对巷道围岩稳定的影响。结合掘锚一体机的支护特性,在原支护方案的基础上提出大断面煤巷快速掘进的支护优化方案。试验表明,采用支护优化方案后,巷道围岩安全稳定,掘支效率提高20%。     

华中电网水调自动化系统数据流方案设计与实现

结合华中电网水调自动化系统的建设需求及功能设置,结合工程实践经验提出了数据流程解决方案,该方案实现了水调系统中心站与分中心、能量管理系统、信息管理系统、报表等第三方系统的数据交换方案,重点介绍了水调系统与其他系统数据通信方式、数据流优化方案。经现场一年多的运行实践证明,该方案设计合理,系统运行稳定。     

光纤电视测井图像处理系统的设计与实现

针对提捞井中光纤电视测井提出了一种视频资料定量解释方法,设计并实现了集视频编解码、图像处理、参数测量、报告生成、数据库管理等为一体的软件系统.主要功能包括,通过投影法对图像中有用文字信息进行识别,用自动阈值分割方法计算指定深度的视含油率、视含气率并生成报表,可以对孔眼按深度进行统计;运用光学成像原理与MFC函数相结合的方法计算任意形状井内落物的周长、面积等参数,对预处理后图像进行高斯、拉普拉斯边缘检测识别和统计孔眼数目;光纤电视测井图像处理系统采用模块化结构设计,通过接口调用各个功能模块,进行相关处理操作;系统可以根据视频图像质量灵活选用不同的图像处理方法,具有很高的自动化水平.利用光纤电视测井图像处理系统对20井次的现场试验资料进行解释,均见到了较好的效果.该测井图像处理系统技术能够解决井下套管状况检测和提捞井产出剖面描述等生产实际问题.     

新疆恰甫其海黏土心墙坝运行期安全监测分析

阐述了恰甫其海水库黏土心墙坝在施工期和运行期黏土心墙、坝壳料的沉降变形规律和特征值,对心墙和坝壳料的施工质量进行了初步评价;分析了坝体、坝基、坝肩蓄水前后和运行期的渗流变化情况,对黏土心墙的工况和帷幕阻水效果进行了初步评价,并对心墙蓄水前后和运行期的土压力做了定性分析.     

强光场的偏振特性对电子能量的影响

在具体给出准静肪理论中描述强激光场中原子电离产生的电子的有质动有和乘余能量的基础上,讨论了激光场的偏振特性对所产生的电子能量的影响,并提出适合偏振度的椭圆偏振光,朋可能更有利于基于光场感生电离电子碰撞机制的Ｘ射线激光的实验。     

改变VO_2薄膜光学性能的低注量电子辐照方法

利用能量为 0 8MeV ,注量为 10 12 /cm2 的低注量电子束辐照VO2 薄膜 ,发现低注量电子辐照显著提高VO2 光学性能的温度响应速度 ,并引起薄膜相变过程中的热滞回线宽度变窄 ,但没有对相变温度点造成明显影响 ;通过对比辐照前后样品 370～ 90 0nm的吸收和透射性能 ,表明辐照后吸光度下降、透射率增加 ,在相变过程中四方相附近出现透射、吸收特性的非稳变化现象 ;利用X射线衍射 (XRD)及拉曼光谱对辐照前后样品进行分析 ,显示低注量电子辐照引起薄膜结构的变化 ,并且引起拉曼振动峰位的改变     

离焦激光直写光刻工艺研究

采用理论计算和光线追迹分析了激光直写光刻中离焦对写入焦斑光场分布的影响;使用四轴激光直写设备开展了离焦激光直写光刻工艺实验,实验和理论计算及光线追迹的结果吻合得很好。利用离焦激光直写光刻方法制作了光栅和分划版,测得实验结果达到工艺要求。