首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   64篇
  免费   2篇
  国内免费   4篇
综合类   18篇
化学工业   10篇
机械仪表   2篇
建筑科学   3篇
能源动力   2篇
轻工业   2篇
无线电   20篇
原子能技术   6篇
自动化技术   7篇
  2024年   3篇
  2022年   2篇
  2021年   1篇
  2020年   1篇
  2019年   1篇
  2016年   1篇
  2014年   3篇
  2013年   3篇
  2011年   5篇
  2010年   1篇
  2009年   1篇
  2008年   3篇
  2007年   10篇
  2006年   5篇
  2005年   1篇
  2004年   3篇
  2002年   4篇
  2001年   1篇
  1997年   3篇
  1996年   1篇
  1995年   4篇
  1994年   4篇
  1993年   2篇
  1990年   1篇
  1989年   3篇
  1988年   1篇
  1985年   2篇
排序方式: 共有70条查询结果,搜索用时 15 毫秒
61.
一种高速低功耗可重构流水线乘法器   总被引:3,自引:3,他引:0  
文章针对在语音、视频等多媒体信号处理中出现的可变速率信号,设计了一种新型的高速低功耗可重构流水线乘法器电路,该电路可通过改变流水级数使运算频率与待处理的信号频率相匹配,明显地降低了功耗、提高了效率。并在0.25μm CMOS工艺条件下对该电路性能进行了仿真、分析、比较。在保证最大频率为1.04GHz的高运算速度情况下,最多可节约电路功耗36%。  相似文献   
62.
63.
磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤   总被引:5,自引:3,他引:2  
用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的损伤,发现精磨精抛的HgCdTe晶片表面的损伤结构与切割、粗磨造成的损伤结构明显不同。根据实验结果分析,认为机械划痕是精磨精抛过程中的主要损伤结构,并提出一个新的表面损伤模型──表面不完全损伤模型。用X射线形貌相测出了精磨精抛HgCdTe晶片表面的平均损伤和最大损伤深度。结合压痕实验,确定了机械划痕周围的晶格应变区是高密度位错增殖区;在特定条件下,测出两者之间的比值约为5。最后讨论了最大损伤深度和平均损伤深度对探测器性能的影响。  相似文献   
64.
分析了大学生心理健康教育课程体系建设中存在的问题,明确了高校心理健康教育课程体系的构建目标、内容架构等内容,探索了心理健康教育课程体系的实施策略.  相似文献   
65.
姚英 《信息与电脑》2011,(4):208-209
网页设计已经随着互联网的发展而逐渐被专业设计人员加以重视,这也是一种基于人的审美和感受的一种必然需求。本文探讨了网页设计中Flash动画互动性的艺术设计要点,希望可以为专业人士和教学提供一点参考。  相似文献   
66.
差分跳频技术是近年出现的一种新型扩频通信技术,他集跳频图案、信息调制与解调等功能于一体,构成与传统跳频技术完全不同的技术体制。对近年出现的扩频通信新技术———差分跳频技术进行了全面介绍。在对差分跳频关键技术进行详细分析的基础上,着重说明其优点及尚需解决的问题。  相似文献   
67.
目的盐酸厄洛替尼片属于口服制剂,根据中国药典2015年版四部制剂通则0101片剂要求,片剂在生产和贮存期间微生物限度应符合要求,建立了盐酸厄洛替尼片的微生物限度检查方法,并对方法进行验证和评价。方法根据2015年版《中国药典(四部)》通则1105非无菌产品微生物限度检查中的微生物计数法,通则1106非无菌产品微生物限度检查中的控制菌检查法和通则1107非无菌药品微生物限度标准进行方法适用性试验。将中和剂3%Tween-80、0.3%卵磷脂添加至pH7.0氯化钠-蛋白胨缓冲液作为稀释液,需氧菌总数计数(稀释成1:100)及霉菌和酵母菌总数计数(稀释成1:50)均采用平皿法,控制菌检查法采用培养基稀释法(500ml TSB)。结果 5种试验菌的回收试验结果均在0.5~2.0之间。结论中和法能有效去除盐酸厄洛替尼片的抑菌成分,不影响污染微生物的生长,该方法适用于盐酸厄洛替尼片微生物限度的检查。  相似文献   
68.
分析当前大学生心理素质情况及主要影响因素,探讨对大学生进行心理健康教育的基本策略:开放心理健康教育课程;引导学生健全心理防御机制;在学生工作中要讲究心理艺术;进行心理调适,适时宣泄,自我控制。  相似文献   
69.
分析一起塔机事故的原因,并提出几点改进建议:顶升套架应列为主要受力结构件,严格监检;制造单位应加强对塔机设计文件、制造图样的安全管理;新产品应有一段试用期方可批量生产.  相似文献   
70.
本文是以五水合硝酸铋[Bi(NO3)3·5H2O]、偏钒酸铵(NH4VO3),硝酸镧(La(NO3)3)为主要原料,采用水热法制备La-BiVO4催化剂,光催化降解以盐酸四环素为模型反应的抗生素,通过紫外可见分光光度计,对盐酸四环素降解前后的吸光度进行测定进而得出降解率。主要研究了镧掺杂量、焙烧温度、焙烧时间等条件对La-BiVO4光催化剂性能的影响。并用Box-Behnken响应面法设计优化实验条件,分析各影响因素间的交互作用。结果表明,当La的掺杂量为0.44 g、焙烧温度为503℃、焙烧时间为3.1 h时制备的La-BiVO4光催化剂降解盐酸四环素的降解率最佳,为76.69%。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号