全文获取类型
收费全文 | 5009篇 |
免费 | 261篇 |
国内免费 | 179篇 |
专业分类
电工技术 | 488篇 |
技术理论 | 1篇 |
综合类 | 429篇 |
化学工业 | 538篇 |
金属工艺 | 284篇 |
机械仪表 | 380篇 |
建筑科学 | 470篇 |
矿业工程 | 241篇 |
能源动力 | 98篇 |
轻工业 | 403篇 |
水利工程 | 229篇 |
石油天然气 | 281篇 |
武器工业 | 206篇 |
无线电 | 485篇 |
一般工业技术 | 271篇 |
冶金工业 | 142篇 |
原子能技术 | 36篇 |
自动化技术 | 467篇 |
出版年
2024年 | 36篇 |
2023年 | 124篇 |
2022年 | 162篇 |
2021年 | 187篇 |
2020年 | 141篇 |
2019年 | 140篇 |
2018年 | 155篇 |
2017年 | 77篇 |
2016年 | 106篇 |
2015年 | 119篇 |
2014年 | 313篇 |
2013年 | 261篇 |
2012年 | 243篇 |
2011年 | 236篇 |
2010年 | 201篇 |
2009年 | 204篇 |
2008年 | 226篇 |
2007年 | 267篇 |
2006年 | 242篇 |
2005年 | 212篇 |
2004年 | 153篇 |
2003年 | 179篇 |
2002年 | 116篇 |
2001年 | 134篇 |
2000年 | 115篇 |
1999年 | 113篇 |
1998年 | 105篇 |
1997年 | 93篇 |
1996年 | 87篇 |
1995年 | 93篇 |
1994年 | 91篇 |
1993年 | 64篇 |
1992年 | 69篇 |
1991年 | 52篇 |
1990年 | 57篇 |
1989年 | 51篇 |
1988年 | 30篇 |
1987年 | 34篇 |
1986年 | 18篇 |
1985年 | 28篇 |
1984年 | 19篇 |
1983年 | 21篇 |
1982年 | 10篇 |
1981年 | 22篇 |
1980年 | 11篇 |
1978年 | 4篇 |
1977年 | 3篇 |
1973年 | 4篇 |
1964年 | 3篇 |
1956年 | 3篇 |
排序方式: 共有5449条查询结果,搜索用时 10 毫秒
81.
82.
83.
84.
85.
86.
应用系统工程理论中的解释结构模型法进行了某火箭炮改进项目总体方案的风险分析,建立了某火箭炮改进项目总体方案的风险模型和解释结构模型,从纷繁的风险因素中找出了其相互影响的内在联系,并根据其解释结构模型得到了本型火箭炮改进时的风险管理建议. 相似文献
87.
88.
光机热集成分析是光机结构设计中的重要环节,对光学系统像质的预测与补偿有着重要的参考价值。针对小物镜系统,进行光机热集成分析,结果表明该系统产生的热像差较大,影响系统光学性能,其中温度升高导致折射率变化引入的系统热像差较大;结构热变形引入的系统热像差较小,可以忽略;镜片与支撑结构之间的导热、上下窗口的空气扰动、机械结构外表面的环境对流也会存在一定影响,但影响较小。由此可知系统热像差的主要影响因素是热载的大小,设计过程中减少透镜厚度及材料吸收率,降低系统热载,是减小光学系统热像差最为有效的途径。 相似文献
89.
90.
极紫外光刻(EUVL)技术是实现45 nm特征尺寸的候选技术之一,产业化设备要求300 mm硅片的产率大于每小时80片(80 wafer/h),此时入射到掩模版上的极紫外光功率密度很高,掩模版上的吸收层和Mo/Si多层膜将分别吸收100%和35%的入射光能量,从而导致其热变形,引起光刻性能下降,因此必须分析和控制掩模热变形。利用有限元方法分析掩模版在不同功率密度下的热变形,结果表明,抗蚀剂灵敏度为7 mJ/cm2和5 mJ/cm2时,入射到掩模版上的光功率密度分别为259.24 W/cm2和184.38 W/cm2,掩模版图形区域x-y平面内最大变形分别为1.11 nm和0.71 nm,z方向最大变形分别为0.26 nm和0.19 nm。 相似文献