镁合金表面激光熔覆纳米三氧化二铝

镁合金由于密度小、比强度高、良好的导电和导热性而成为工业结构工程和运输工具中非常有应用前景的工程材料.但由于镁合金的耐磨性差,成为阻碍镁合金应用与汽车工业或其他工程部件中作为转动部件的一大障碍.为提高镁合金的表面耐磨性.各种表面处理技术应运而生.其中激光表面改性处理技术比较引人瞩目.为提高镁合金的表面耐磨性.采用激光熔覆纳米Al2O3颗粒的办法对ZM5镁合金进行了表面改性处理.激光改性是采用500 W脉冲Nd:YAG熔化预置在ZM5表面的纳米三氧化二铝进行处理的.激光熔覆后,对改性层的显微结构进行了分析.同时对显微硬度与激光加工参数之间的关系以及耐磨性均进行了测试.改性层的显微硬度可以高达350 HV,而基材的显微硬度只有100 HV.激光改性处理层的耐磨性与基材相比也得到了显著的提高.     

九大标杆运营商2011年创新实践录——英国电信：开放战略推动下的持续创新

2011年全球经济缓慢复苏,欧洲主权债务危机进一步加深,拖累了欧洲乃至全球经济的表现,新兴地区虽然保持一定的增长率,但整体增速已经逐步放缓。反映在全球电信产业的发展上,以南美洲、非洲、中东为代表的新兴地区仍然维持着较高水平的增速,而欧洲、亚太和北美地区的成熟市场则增长乏力。另一方面,跨业竞争加剧,新一代通信平台对传统通信的替代性增强,     

TDDB击穿特性评估薄介质层质量

与时间相关电介质击穿(TDDB)测量是评估厚度小于20nm薄栅介质层质量的重要方法.氧化层击穿前,隧穿电子和空穴在氧化层中或界面附近产生陷阱、界面态,当陷阱密度超过临界平均值 _bd时,发生击穿.击穿电量Q_bd值表征了介质层的质量.Q_bd值及其失效统计分布与测试电流密度、电场强度、温度及氧化层面积等有定量关系.TDDB的早期失效分布可以反映工艺引入的缺陷.TDDB可以直接评估氧化、氮化、清洗、刻蚀等工艺对厚度小于10nm的栅介质质量的影响.它是硅片级评估可靠性和预测EEPROM擦写次数的重要方法.     

矢量偏振光束产生新方法

为了解决现有矢量偏振光束(VPB)产生装置结构复杂、成本高等问题,提出了利用一种由多个线型偏振器件构成的同心圆环装置即显偏器(PAF)产生矢量偏振光束的新方法。基于显偏器的特殊结构特点,由LED光源输出的自然光束经显偏器,可产生角向偏振光束(APB),再经两个快轴成45°角的半波片可将角向偏振光束转换成径向偏振光束(RPB)。采用此方法获得的矢量偏振光束经线偏振片验证其光强分布情况,研究发现所得结果与已发表的实验结果相符,验证了该方法的有效性和实用性。     

十大国际运营商2010转型实践录

2010年是全球经济逐渐复苏的一年,不过此种复苏呈现出极不平衡的发展态势,直接导致了全球各区域电信业的发展差异:包含众多新兴市场在内的拉丁美洲、中东、亚太地区的电信业收入与2009年相比均出现了良好的增长势头;而成熟市场的发展则相对停滞甚至萎缩,传统运营业巨头如at&t、Verizon的收入在全球市场中的份额不断减少。与2009年同期相比,全球89家主要运营商在2010年1～9月的收入总额为10480亿美元,比上年同期下降3%。     

一种新的优化动态信道分配策略及建模分析

本文提出一种新的动态信道分配策略,称之为分级紧致的动态信道分配(CCDCA),所谓分级就是基于引入的"冷态"和"热态"的概念,将小区所处的状态分为冷态与热态;所谓紧致就是对处于不同状态的小区给出不同的紧致模型.该策略在对"热态"的处理过程中利用了"冷态"的先验信息,有机地结合了局部信息与整体信息,同时能保证小区间有较小的服务偏差,提高了整个系统的服务质量.文中还从理论上给出了冷、热态阈值的分析模型,计算出了模型的主要参数,该模型也可以用来分析系统性能.仿真结果证明该方案有较小的呼阻率和较高的频谱利用率,所提出的模型比较接近实际系统.     

印制电路组件用高导热有机硅灌封料的研究

将自蔓延方法制备的氮化铝粉体加入到有机硅树脂中,制备出导热性能优良的印制电路组件用高导热有机硅灌封材料,并详细介绍了该灌封料的灌封工艺过程。     

城市污水处理系统的控制模式研究

人类赖以生存的环境与水有着密切的关系,未经处理的城市污水流入江河湖海,现阶段,城市污水经过科学处理,并合理排放的污水不足百分之十,对环境造成了严重的污染。研究城市污水处理系统控制模式是十分关键的问题,对此,先进的污水处理控制技术的应用是亟待解决的。文章提出了城市污水处理系统控制模式,为处理、解决城市污水提供技术基础。     

金属膜对单介质板太赫兹波导传输特性的影响

理论分析了对称金属薄膜镀层对厚单介质板太赫兹波导TM模传输特性的影响,发现镀膜前后TM模损耗相差巨大,并且随太赫兹频率的增加TM模损耗差异会更大。对低损耗厚单介质板,金属膜对TM模损耗的影响不可忽视。进一步研究了镀膜对TM模模场分布的影响,发现镀膜前后厚单介质板内TM模模场分布显著不同。