VR技术现状与应用领域研究

分析了VR技术发展现状和存在的技术瓶颈,深入分析并预测了VR技术在购物平台、游戏、事件直播、医疗保健、房产、军事、旅游、电影、工程、教育十大领域应用,通过典型案例介绍其应用场景,最后介绍VR技术上下游产业链以供企业转型升级找准自己的定位.     

转化生长因子β1及其受体与高碘促成纤维细胞增殖作用的相关性研究

【摘要】 目的 研究转化生长因子β1（TGF- β1）及其受体Ⅰ（TGF- βRⅠ）与高碘促成纤维细胞增殖作用的相关性， 探索布-加综合征（BCS）隔膜组织形成机制。方法 实验分为5组，空白对照组、溶媒组、KI组、TGF- βRⅠ抑制剂（SD- 208）组和SD- 208和碘化钾（KI）共同作用组。采用CCK- 8法检测TGF- βRⅠ抑制剂对高碘培养环境中成纤维细胞增殖率的影响；采用免疫印迹法检测不同浓度（0、250、500、1 000、2 000、3 000 μg/L）碘离子对成纤维细胞TGF- β1、TGF- βRⅠ蛋白表达的影响。结果 ① 在1 000 μg/L碘培养环境中，KI与SD- 208共同作用组成纤维细胞增殖率（1.29 ± 0.41）高于SD- 208组（0.52 ± 0.10），而低于KI组（1.70 ± 0.03），差异有统计学意义（P < 0.05）。② 1 000 μg/L和2 000 μg/L高碘组成纤维细胞TGF- β1蛋白相对表达量高于其他各组（P < 0.05）。各组间成纤维细胞TGF- βRⅠ蛋白相对表达量差异无统计学意义（P > 0.05）。结论 ① 高碘因素可能通过提高成纤维细胞TGF- β1蛋白表达而促进成纤维细胞增殖；② 高碘导致的成纤维细胞增殖可能与BCS隔膜形成相关。     

高青油田低渗储层酸化改造研究及增产效果

根据碎屑颗粒的接触关系、填隙物类型和分布状态特征,将低渗透砂岩储层分为4大类10小类,高青油田高54块低渗滩坝砂储层属于"半充填型"储层,蒙脱石和碳酸盐胶结物是储层伤害的两大类矿物,蒙脱石矿物遇水膨胀造成强水敏,方解石和白云石矿物产生中等土酸酸敏。在岩石学特征分析基础上,根据岩心酸化驱替实验,敏感矿物分析和酸溶模拟实验结果,制定了高54块的酸化改造方案,该方案实施后使已停产油井高54-x4井低渗透油层重新获得产能,达到了增油增效的目的。     

某地铁车站深基坑支护施工技术

苏州地铁1号线人民路站住于交叉路口,是典型的十字换乘段车站,地下管线密集、地形条件复杂,对地下连续墙施工要求较高.文章重点阐述了地下连续墙的成槽、泥浆制备、钢筋笼吊装及变形监测等关键施工工艺,通过有效的技术和措施解决了施工中连续墙的垂直度控制、涌砂处理等施工难点.施工效果证明,地下连续墙垂直度较好,涌砂处理措施得当,未再有渗水涌砂现象,取得了良好的经济效益和社会效益,同时也为深基坑支护施工积累了新的经验.     

水性多彩仿石涂料的发展现状

详细介绍了水性多彩仿石涂料的历史沿革和技术原理。通过梳理水包水、水包砂和功能型多彩仿石涂料近 10年的技术进展,发现水包水多彩仿石涂料的市场和技术相对较为成熟,突破水包砂制备技术是目前的重点。功能型多彩仿石涂料主要集中在反射隔热,未来需要加强其他功能化方向的发展。     

气液旋流分离技术应用研究进展

气液旋流分离设备具有分离效率高、体积小及工作稳定等优点,在油田开发、天然气开采、油气输送和压缩空气净化处理等领域得到了广泛应用.油田开发中,常用的气驱技术能够提高采出率,但油井气液比会增大,油气分离技术要求日趋严苛.对气液旋流分离设备的分离原理及国内外研究现状进行了简要介绍,阐述了分离性能的优化方法,分析了理论研究的不...     

双气泡间的聚并时间测量及其影响因素

聚并时间是研究气泡聚并行为过程中的一个重要参数。在消除气泡生长速度对聚并时间影响的条件下,利用自行开发的光学测试技术对双气泡间的聚并时间进行了精确的测量。考察了气泡尺寸、靠近速度、有机溶质的扩散、电解质和表面活性剂的加入对气泡聚并行为的影响。实验结果表明,双气泡间的聚并时间随着气泡直径的增加、气泡老化时间的延长、靠近速度的减小和有机溶质浓度的增大而增加。     

基于System Generator的干扰模块设计

快速实现干扰算法和产生干扰信号是干扰机设计过程中重要的工程问题.基于此提出了基于System Gener-ator的干扰模块设计方法.通过Simulink和System generator搭建干扰算法电路,设计常用干扰样式,在现场可编程门阵列(FPGA)中直接生成电路设计.本设计方法可以快速生成干扰样式的电路,具有易复...     

CZT晶体用化学机械抛光液的制备及其性能研究

化学机械抛光工艺是碲锌镉(Cadmium Zinc Telluride,CZT)晶体表面处理的关键技术之一.其中,化学机械抛光液是影响晶片表面质量的重要因素.目前用于CZT晶片的抛光液主要是依靠进口的碱性抛光液,这严重制约了我国CZT晶体研究的发展.采用硅溶胶和次氯酸钠(NaClO)溶液作为主要原料,制备了碱性化学机械抛光液.然后采用该抛光液对CZT晶片表面进行了化学机械抛光,并对抛光表面进行了表征.实验结果表明,抛光后晶片表面的粗糙度小于2 nm,因此采用硅溶胶-次氯酸钠碱性抛光液可制备出高质量的CZT抛光表面.     

海上油田水驱开发注水压力优化

渤海B油田经过长期注水开发,注水压力逐渐上升,注水量不断下降,同时,酸化解堵效果变差,有效期变短,导致油田长期欠注,地层压降大,产量递减快.在实际注水过程中,注水井近井地带会形成一定污染,造成额外的附加压降,目前执行的注水压力界限是早期注水开发时的设计值,已不能满足当前的注水需要,亟需开展注水压力优化研究.因此,引入附...