基于微电铸工艺的镍微型惯性开关的研制

为满足安全气囊辅助系统对信号识别的可靠性要求,采用UV-LIGA叠层光刻和精密微电铸工艺在不锈钢基底上制作了一款轴向触发的镍微型惯性开关,其利用阿基米德螺旋梁结构来支撑悬空质量块,中心止挡柱作为螺旋梁过载保护结构,开关敏感方向垂直于衬底的方向。在制作过程中,引入了掩膜版线宽误差补偿的方法,降低了因胶膜溶胀与无机酸去胶等工艺带来的尺寸误差,通过煮沸的无机酸去除胶膜得到了结构完整的开关。最终制作出了整体尺寸为3850μm×3850μm×240μm、最小线宽尺寸为40μm的开关,并通过落锤试验对开关进行动态特性测试。     

微电铸的析氢现象研究

讨论了微电铸工艺中的析氢现象.析氢是微电铸中的附加反应,如处理不当,将会使铸层产生缺陷,如针孔和麻点等,同时引发氢脆,从而降低铸层的机械性能.通过对微电铸原理及析氢机理的分析,提出稳定pH值、增加搅拌和过滤循环、添加润湿剂以及采用脉冲电流等四种有效措施.实验证明,以上措施解决了析氢现象对铸层质量的影响,并获得了满意的铸层.     

韩国行政中心迁移的经验和启示

韩国首尔同北京一样，既是国家首都，又是人口和功能过度聚集的特大型城市。为了缓解首尔的“大城市病”，推动区域均衡发展，以及基于军事和政治的考虑，2003年12月韩国国会通过《新行政首都特别法》，决定将韩国行政首都从首尔迁往韩国中部地区（后来具体设在世宗特别自治市，以下简称为“世宗市”）。按照计划，将有36个中央政府机构于2012年9月至2014年底间迂往世宗市，总理室作为首个政府部门已于2012年9月迁入，由此韩国行政中心迁移拉开帷幕。     

名城保护应设立“历史文化精华区”

随着历史文化名城保护工作的不断深入,保护的内容也在不断拓展。在世界遗产（包括自然遗产、文化遗产和自然文化双遗产）和文物建筑（包括国家级、省级、县级和普查登记）之外,还有历史文化街区、优秀近现代建筑、工业遗产、特色民居、名木古树、河湖水系及十类非物质文化遗产等。     

微结构塑件注塑成型的复制度分析

以典型微结构塑件———微流控芯片为研究对象,对芯片纵、横微通道的复制度进行比较、分析。发现在注塑成型过程中,由于熔体与型腔微凸起之间的作用关系不同,导致芯片纵、横微通道的复制度存在明显差异,且横向微通道两侧的开口形状也不一致;基于熔体充模流动基本理论,建立了用来描述横向微通道开口圆角大小的数学表达式;利用新型电热式变模温注塑成型系统,对上述分析结果加以实验验证。结果表明,实测横向微通道开口圆角大小与计算结果基本一致。     

落实新总规是一场伟大的实践

经过2003年<北京城市空间发展战略研究>前期准备,2004年专家领衔的专题研究、规划大纲、专项规划,直至对规划的综合,经多方努力,2004年底,<北京城市总体规划(2004年-2020年)>编制完成.2005年初,国务院正式批复了该规划.     

金属表面微坑阵列掩膜电化学刻蚀技术研究

采用负胶光刻工艺制备了微坑阵列胶模,通过实验分析了抛光工艺对刻蚀均匀性的影响,解决了微坑阵列刻蚀缺陷的问题。研究了酸洗对基板刻蚀的影响,得出酸洗可改善刻蚀均匀性的结论,并通过调节溶液p H值的方法解决了溶液沉淀的问题。分析了掩膜孔径对刻蚀均匀性的影响,并利用自行搭建的电化学刻蚀装置完成了直径60μm、深11μm的微坑阵列刻蚀。实验结果验证了掩膜电化学刻蚀工艺的可行性,为金属表面微小图形的制作提供了一种可行的方案。     

薄镍板上Meso尺度结构的电火花线切割

研究了利用常规电火花线切割技术加工薄镍板微小结构的方法.利用慢走丝电火花线切割加工机床对厚度为0.6 mm镍板上的Meso尺度结构进行了加工试验.以机床现有的工艺条件对零件进行试切割,对试切割后的尺寸精度和表面质量进行测量分析,在此基础上通过对放电能量、冲液压力、切割速度等机床参数的调整改进加工工艺.探讨了在200 μm缝宽范围内进行多次切割的方法,并对切割次数进行合理优化、合并.试验结果表明:慢走丝线切割加工对小于机床设定厚度的薄板Meso尺度结构仍可进行稳定加工;通过多次切割的方法可提高表面质量.在200μm窄缝范围内进行5次常规切割,加工后的表面粗糙度值Ra为0.54 μm;在保证表面质量的前提下,将5次切割合并为3次切割,加工后的表面粗糙度值Ra为0.62 μm,加工时间缩短了30％左右.该技术可为电火花线切割加工其他材料薄板微小零件提供支持与参考.     

道路与桥梁工程专业驻地生产实习初探

我国高等院校培养道路与桥梁工程专业人数的增加,出现了学生就业观念不明确、用人单位需求与高校人才培养脱节的现象.以驻地方式的专业生产实习对改变这一现象具有积极意义.分析就驻地实习特色与效果、存在问题及今后的展望,进行讨论,以推动驻地实习教学的健康发展.     

兆声功率密度对同轴兆声辅助喷射电沉积镍的影响

[目的]金属微器件在电沉积过程中往往会产生较大的残余应力,对微器件的尺寸精度、力学性能和良率产生不利影响。[方法]为降低镀层的残余应力,在喷射电沉积镍过程中施加同轴兆声辅助。研究了兆声功率密度对Ni镀层形貌、表面粗糙度、显微硬度和残余应力的影响。[结果]施加同轴兆声辅助后,所得Ni镀层的宏观和微观形貌都有所变差,表面粗糙度略微增大,显微硬度变化不大,但残余应力显著降低。当兆声功率密度为10 W/cm²时,Ni镀层的残余应力最低,比无兆声辅助时所得Ni镀层低了37.75%。[结论]在电沉积过程中施加兆声辅助能够有效降低镀层的残余应力。