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101.
digi.com/ben 《大众硬件》2003,(2):134-135
Clie PEG-NX70V是SONY因应微软Pocket PC 2002打压而推出的采用Palm5操作系统的新款PDA,属于Palm友非常熟悉的NR系列产品的改进型,可支持无线扩插、数码相机、数码录音和MPEG4录放等丰富功能。磨砂设计的外壳非常不错,手感比NR70V好,但比NR70V稍沉,3.8M″TFT屏幕可进行180°旋转。背后附加CF插槽的好处就是一些CF插件可以随意搭配,不再受MS插件限制。 相似文献
102.
103.
Thecokesolutionlossreactionisoneofthemostimportanteffectsresultingincokepulverizinginblastfurnace .Thefactorswhichaffectreactionincludecokeporestructure ,micro crystalstructureonporewall ,thecontentandconstituentofminer als ,etc .Amongthesefactors ,theconstituentofmineralsisemphasizedallovertheworldinrecentyears .Buttheemphasisofmoststudieswasputontheeffectofalkalimetals (K ,Na)oncokesolutionlossreactionandtheeffectofotherelementswassel domreported[1-5] .Theeffectofthirteenmineralsoncokesolut… 相似文献
104.
Ross Enterprise是一套100%基于浏览器架构的企业资源规划解决方案.专注于食品、饮料、化工、生命科学(制药)等流程制造行业。在流程工业领域有着20多年的应用实践经验.积累了丰富的成功案例。Ross Enterprise将流程行业特点完全融入于系统的财务、生产制造、供应链、客户关系管理、绩效管理和行业规范管理等一系列应用模块中.具有深厚的行业适用性和快速的实施周期的特点.帮助企业从系统应用中尽快收益。[编者按] 相似文献
105.
最近20年来,由于油价波动引发的公司重组、兼并和裁员,使得许多研究机构关闭,油公司对科研项目的支持也有所降低.长期研究项目的减少造成创新思维的不足,很多研究工作仅仪为了满足降低成本的需要而进行技术改进。在新的形 相似文献
106.
东方科学研究设计院研制了一种采矿机械照明电缆的新的机械保护装置。这种装置是用金属网铠装的高压橡胶软管制成的,被保护的电缆就置于其中。电缆套管按全苏标准16.5.189.0021—75的要求加工并有螺纹管接头,可将其拧接在金属网铠装的软管上。一台掘进机的照明和信号电缆平均需要10米高压铠装软管,而一台装载机需要11米。 相似文献
107.
<正> 一、前言在本文提出的工艺方法中,使用的是西班牙Huelva铜冶炼厂的Pierce-smith转炉烟尘,其成份变化很大。 相似文献
108.
开采天然石材时对所采块料裂隙方面的特殊质量要求,在很大程度上限制了传统的爆破法开采工艺在采石和剥离工程上的使用。国家采矿技术监察委员会从保护资源出发,尽力限制使用爆破法开采天然饰面石材矿,而国产松土机械的功率小,在开采风化覆盖层时不可能广泛使用。因此,大多数矿床使用普通的采掘设备进行开采。在裂隙发达的风化岩层中,利用采掘设备的工艺效果大大下降。这拖延了现有露天 相似文献
109.
介绍一种比较 GaAsMESFET 噪声系数的方法.对具有最低噪声量度(M)的器件作出 M 对栅长的关系图,并给出对其它器件可进行比较的优值图。这对于栅长给定时用来确定材料的相关值以及工艺改进是有用的。 相似文献
110.
本文描述了在VLSI研制中通过氮注入形成氮化硅层。在形成各种氮化物层的过程中,注入分子氮能量范围为5到60keV,随后在1000℃的氮中退火。描述在炉中退火前后所形成的氮化物层特性,在不同的IR、SIMS和椭圆对称测量情况中找出局部氧化掩模的有效注入条件。相对于整个注入能量范围,注入氮的最初IR峰值为815cm~(-1)。对于退火后的高能量注入来说该位置会漂移到一个较高的波长数,低能量注入峰值接近于830cm~(-1),上述均与LPCVD为氧化物峰值相比而言。此研究结果认为,低能氧化物的化学成分几乎是可用定量计算的。退火过程中浓度分布向着表面漂移,并将增高峰值区氧的浓度。从氮化物分布剖面看最大值是在表面,而在<10keV时消失。在1000℃的蒸汽中生长5300(?)氧化层进行测试这些氮化物掩模特性。剂量为5×10~(16)N_2~+/cm~(-2)离子的氮化物在注入能量低于40keV会形成有效的氧化掩模。在此实验条件下,在10keV下所形成的氮化层可认为是一个有效的氧化掩模,足以适应选择性地腐蚀SiO_2,减小“鸟嘴”尺寸为常规LOCOS的四分之一。 相似文献