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石墨烯掺杂氧化锡薄膜的结构与光学性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
以SnCl4·5H2O和石墨烯为原料,采用溶胶-凝胶法在石英玻璃衬底上制备了SnO2掺杂石墨烯的薄膜,研究了膜层厚度对SnO2薄膜的结构与光学性能的影响.测试结果表明,石墨烯的掺入使氧化锡薄膜的晶体质量得到提高, 薄膜样品的光学带边往长波方向发生移动,即产生“红移”现象,随着石墨烯含量的增加,氧化锡薄膜光致发光强度表现为逐步淬灭的现象. 相似文献
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测量薄膜微粗糙度的总积分散射仪 总被引:13,自引:5,他引:13
介绍了一种检测光学薄膜表面总积分散射(TIS)分布的总积分散射仪。对仪器的基本结构、理论基础、测量原理以及系统性能等进行了阐述,提出了抑制系统噪音和提高测量精度的有效措施。利用该仪器对K9基底上的银(Ag)膜和氧化锆(ZrO2)薄膜进行了测量,并根据标量散射理论得到了表面均方根(RMS)粗糙度。利用光学轮廓仪和原子力显微镜(AFM)分别测量了上述Ag膜和ZrO2薄膜的表面均方根粗糙度,并与总积分散射仪所得的粗糙度进行了比较。结果表明,根据测量的薄膜表面总积分散射计算得到的表面均方根粗糙度与光学轮廓仪及原子力显微镜测量得到的表面均方根粗糙度符合得较好,相差在0.01~0.13nm范围内。 相似文献
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高透过率的窗口材料是光电系统高精度和稳定性的重要保障。金刚石材料集优良的光学特性以及高热导率、低热膨胀系数等特性于一身,是性能优异的宽波段窗口材料。但金刚石在可见光及红外波段的高折射率限制了它的进一步应用,构筑减反射微纳结构抑制金刚石表面反射损耗是较为有效的方法之一。本文综述了近年来金刚石减反射微纳结构的研究进展,着重介绍了微纳结构的减反射机理以及激光加工和离子刻蚀两类加工方式的基本原理及工艺条件,总结了两种方式制备的表面微纳结构对金刚石透过率的影响,对比了各类制备技术的优缺点,并简单介绍了金刚石的应用前景,旨在为相关领域的研究人员提供技术参考。 相似文献
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在大气条件下采用激光剥离技术制备了MoS2 薄膜, 研究了MoS2 薄膜在不同退火温度条件下的形貌结构及其光学性能。实验研究发现, 退火温度对MoS2 薄膜表面的作用显著, 并且退火温度的不同会使得MoS2 薄膜XRD 图谱中衍射峰的位置产生明显的偏移。随着退火温度的升高, 薄膜生长质量及其吸光度都得到明显的提升。进一步对比分析了不同退火温度下MoS2 薄膜光学性能的差异, 结果显示退火温度为850 ℃ 时MoS2 薄膜的光学性能最佳。 相似文献
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宽禁带氧化锌半导体薄膜的研究进展 总被引:4,自引:0,他引:4
氧化锌作为新一代化合物半导体,其禁带宽度对应紫外光的波长。氧化锌薄膜有望开发蓝光、蓝绿光、紫外光等多种发光器件,具有广阔的应用前景。重点介绍了氧化锌薄膜的研究进展以及存在的问题,并对氧化锌薄膜的未来进行了展望。 相似文献
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采用直流磁控溅射法,以柔性PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)为基底,通过参数优化以求在室温下制备高性能ZnO/Ag/ZnO多层薄膜。实验中,使用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等仪器分别对ZnO/Ag/ZnO多层薄膜的微观结构、表面形貌、透过率及方块电阻进行测试及表征。结果表明,随着Ag层厚度增加,薄膜方块电阻急剧下降,通过改变ZnO层厚度,可有效调节薄膜光学性能,随着ZnO层厚度增加,可见光区平均透过率先增大后减小。引入品质因子FTC作为评价指标可知,当依次沉积ZnO、Ag、ZnO厚度为50nm、8nm、50nm时,薄膜光电性能最佳,其在可见光平均透过率为82.3%、方块电阻为2.8Ω/、禁带宽度为3.332eV。 相似文献