白酒电商运营的酒杯模型

电商运营是一个系统营销工程,复杂程度不亚于传统营销体系。笔者与大量参与电商的白酒企业互动后发现。有的企业认为铺好电商渠道就能实现销售,结果往往大失所望。为了更好地帮助客户理解电商运营,东方仙和电商咨询团队首创了酒水企业电商运营的“酒杯模型”。按照“酒杯模型”的六步做电商才是真正地做电商,很多企业的电商尝试其实还没有完成申．商入门。     

大庆长垣南部黑帝庙浅层生物气的断层侧向封闭性

在大庆长垣南部黑帝庙油层中发现了大量的生物气,大部分聚集在断层圈闭中,断层侧向封闭性影响浅层气的聚集规模.黑帝庙油层具有埋藏浅、成岩程度低、砂岩物性普遍较好的特点,因此断裂变形形成的碎裂岩难以形成较强的封闭.对含气圈闭断层SGR统计表明:长垣南部断层封闭SGR临界值为0.375,对应的风险断距普遍小于50m,因此断距小于50m的断层侧向封闭性可能相对较差;同时证实层状硅酸盐-框架断层岩在该区不起封闭作用,主要封闭类型应该是对接封闭和泥岩涂抹封闭.利用Knipe图解和Allan图,结合断距-距离曲线对全区断层进行定量评价,断层封闭具有垂向的差异性和平面的分段性,因此有些圈闭只在个别小层中存在.据圈闭的断层封闭分段性分析,与未评价断层侧向封闭性之前相比,本区圈闭存在3种变化:①断层侧向封闭,幅度和面积不变的圈闭;②断层侧向部分封闭,幅度和面积变小的圈闭;③断层侧向不封闭,不存在的圈闭.其中前两种圈闭是首钻的目标,结合生物气成藏条件,认为长垣南部黑帝庙浅层生物气潜力巨大.     

YBa_2Cu_3O_x(6

潘国强  何振辉  夏健生  张酣  钱逸泰  陈祖耀  刘双怀  张其瑞 《材料研究学报》1989,3(3):242-244

Si(111)衬底上多层石墨烯薄膜的外延生长

利用固源分子束外延(SSMBE)技术, 在Si(111)衬底上沉积碳原子外延生长石墨烯薄膜, 通过反射式高能电子衍射(RHEED)、红外吸收谱(FTIR)、拉曼光谱(RAMAN)和X射线吸收精细结构谱(NEXAFS)等手段对不同衬底温度(400、600、700、800℃)生长的薄膜进行结构表征. RAMAN和NEXAFS结果表明: 在800℃下制备的薄膜具有石墨烯的特征, 而 400、600和700℃生长的样品为非晶或多晶碳薄膜. RHEED和FTIR结果表明, 沉积温度在600℃以下时C原子和衬底Si原子没有成键, 而衬底温度提升到700℃以上, 沉积的C原子会先和衬底Si原子反应形成SiC缓冲层, 且在800℃沉积时缓冲层质量较好. 因此在Si衬底上制备石墨烯薄膜需要较高的衬底温度和高质量的SiC缓冲层.     

MICROSTRUCTURAL CHANGE OF YSZ-SUPPORTED YBaCuO SUPPERCONDUCTING FILM BY PROTON BEAM BOMBARDMENTS

Microstructural change of YBaCuO film/YSZ substrate with and without proton irradiation has been studied by scanning electron microscope and X- ray diffraction techniques. Structural analysis has shown that conversion from tetragonal to orthorhombic phases, reduction of nonsuperconducting phase and preferential rearrangement of crystal grains are all favorable to the improvement of superconductivity in the YBaCuO film supported by YSZ substrate by proton beam bombardment.     

气浮-陶瓷膜耦合工艺处理炼油厂含油废水

针对炼油厂含油废水、含油雨水和生活污水形成的混合废水,采用气浮-平板陶瓷膜耦合工艺进行处理。工程运行结果表明,出水SS、COD、BOD5、NH4+-N、硫化物、挥发酚和石油类等分别低于3.0、50、20、8.0、1.0、1.0和10 mg/L,出水水质满足《石油炼制工业污染物排放标准》(GB 31570—2015)。该工艺具有运行稳定、处理成本低及出水水质好等优点,可为其他炼油厂含油废水的处理提供参考。     

薄壁绝缘机车车辆电缆的改进与研制

通过对机车车辆电缆绝缘结构设计改进,提高了电缆的电气性能、物理机械性能和阻燃性能。介绍了产品的设计理念及多种绝缘结构试验结果对比,研制了薄壁绝缘机车车辆电缆,该产品具有高阻燃性能、耐油、低烟无卤等综合性能。     

ZnO/Si(111)界面结构的同步辐射掠入射X射线衍射研究

在不同的衬底温度下,用脉冲激光沉积(PLD)方法制备了c轴高度取向的ZnO薄膜.采用同步辐射掠入射X射线衍射(GID)技术研究了ZnO薄膜与Si(111)衬底的界面结构.GID结果表明:不管衬底温度是500℃还是300℃,在无氧气氛下用PLD方法制备的ZnO外延膜均处于压应力状态,且随着X射线探测深度的增加,应力增大.结合常规X射线衍射技术,计算了薄膜内的双轴应力;给出了样品的泊松比和c/a值,得出两样品均接近理想的六方密堆积结构,偏离标准的ZnO值.综合各方面实验结果,说明衬底温度控制在500℃时生长的ZnO薄膜具有较好的晶体质量.