膜层厚度对CuPc/ZnS多层复合薄膜光电性能的影响

为了找到制备CuPc ZnS多层复合膜薄膜最佳光电导性能的参数 ,本文研究了CuPc ZnS多层复合膜的CuPc膜层的厚度系列、ZnS膜层的厚度系列的光电导性能和结构 ,利用表面电位衰减仪、紫外 -可见光谱仪和X射线衍射仪等设备分析了复合薄膜的光电导性能和结构及其关系 ,探讨了改变CuPc、ZnS膜层的厚度对CuPc ZnS多层复合膜薄膜的光电导性能和结构的影响     

Al-Ni-Y三元合金玻璃形成能力及热稳定性

为了分析Al-Ni-Y三元合金的玻璃形成能力和热稳定性,采用熔体急冷法制备了Al₉₀Ni₂Y₈、Al₈₇Ni₅Y₈、Al₈₄Ni₈Y₈和Al₈₀Ni₁₂Y₈合金条带.利用x-射线衍射（XRD）表征了急冷态和部分晶化后条带的结构,运用示差扫描量热仪（DSC）分析了合金的玻璃转变和晶化行为.结果表明：除了Al₈₀Ni₁₂Y₈和Al₉₀Ni₂Y₈合金外,制备态的条带均为完全非晶态,部分晶化后有纳米铝晶体析出;Al₈₄Ni₈Y₈合金DSC曲线上可以明显地观察到玻璃转变温度Tg.〖JP2〗通过比较4种合金的热稳定性,发现随着Ni的原子分数升高,合金的初始晶化温度Tx也随着升高,合金的热稳定性增强.     

环境温度对集成微沟道温差空气流量传感器的影响及其补偿

研究了环境温度对集成微沟道热式空气流量传感器的影响,并提出了相应的环境温度补偿方案,能显著减小测试误差.这种传感器的测试原理是通过加热电阻的上下游温度差来反映空气流速,不同的环境温度,该上下游温度差也不同,从而导致测试结果出现偏差.随着环境温度的增加,上下游温差变小,输出电压也减小,但可测试范围增加.同时,文中提出的一...     

自适应流量控制开关的仿生结构研究

从血管通过扩张／收缩变形对血流量的敏感控制受到启发，设计了一种弹性水管挤压变形的流量控制结构，研究其在止水／放水过程中变形和压力变化对流量控制的敏感性；试验表明该仿生结构只需要微小的外力和位移变化(△F=0.05N，△l=0．56mm)，就可对流量在0～4mL／min范围内进行敏感控制，这是由于结构受压变形、诱发紊流的形成来实现的。这种结构可应用于凝胶驱动的智能器件中作为控制结构对流量进行自适应调节。     

直流马达软启动电路研究

文中提出了三种直流马达软启动方案：负温度系数热敏电阻软启动、继电器延时软启动、MOSFET线性放大软启动,并分析了各方案的原理和特性,给出了实验结果。原理分析和实验结果表明三种方案都可以有效抑制马达的启动电流,能实现直流马达的软启动。通过对比,给出了三种方案各自的应用场合。     

a-Si∶H/Al/a-Si∶H三层复合膜的低温晶化研究

采用真空热蒸发与PECVD方法 ,在特殊设计的“单反应室双沉积法”薄膜沉积设备中沉积a Si∶H/Al/a Si∶H三层复合薄膜 ,并利用XRD ,XPS及SEM等方法对薄膜在不同温度退火后的晶化行为进行了研究。结果表明 ,随着热处理过程的进行 ,金属Al逐步向表面扩散 ,在金属Al锈导下a Si∶H层出现晶化的温度不高于 2 5 0℃。在Al层厚度低于 2 2nm时 ,a Si∶H向晶态硅转变的量随着Al层厚度的增加而增加 ,而当Al层厚度大于 2 2nm后 ,a Si∶H向晶态硅转变的量与Al层厚度无关     

a—Si：H／Al／a—Si：H三层复合膜的低温晶化研究

采用真空热蒸发与PECVD方法，在特殊设计的“单反应室双沉积法”薄膜沉积设备中沉积a-Si:H/Al/a-Si:H三层复合膜，并利用XRD，XPS及SEM等方法对薄膜在不同温度退火后的晶化行为进行了研究。结果表明，随着热处理过程的进行，金属Al逐步向表面扩散，在金属Al锈导下a-Si:H层出现晶化温度不高于250℃。在Al层厚度低于22nm时，a-Si:H向晶态硅转变的量随着Al层厚度的增加而增加，而当Al层厚度大于22nm后，a-Si:H向晶态硅转变的量与Al层厚度无关。     

基于Qchat的PTT集群通信业务实现方案

目前基于专网的语音集群通信越来越受到覆盖范围、终端供给和网络速度等因素的制约,如何在现有的公众移动网络中,快速部署PTT(Push To Talk)集群通信服务成为通信领域的一个重要课题.并对如何在CDMA EV-DO网络中,部署基于Qchat的PTT集群通信业务进行了初步的探讨.     

基于Multisim的数字钟电路仿真研究

数字钟是数字电子技术的综合应用,文中以数字钟设计为需求,分析了其工作原理,建立了基于Multisim的秒时基信号、数字钟计数显示仿真模型,给出了仿真波形,提出了理论分析、虚拟实验仿真和实际电路调试相结合的教学方法和基于工作过程即面向岗位的教学模式。实践证明,数字钟电路设计合理,新的教学方法,降低了对实验条件的要求,提高了学生的积极性,增强了学生的技能水平。     

改进光纤PMD的光纤旋转技术

分析了偏振模色散(PMD)及其不稳定性对系统传输距离与传输速率的影响.介绍了光纤旋转技术,采用正弦旋转技术可有效降低光纤的双折射并增加模式耦合.研究了采用正弦旋转技术制备的旋转光纤的PMD稳定性,旋转光纤成缆后的PMD典型值可控制在0.04 ps/km,与非旋转光纤相比,旋转光纤的PMD具有很好的温度稳定性与成缆稳定性.