油滴釉制作工艺的研究

在研制氧化气氛烧制油滴黑釉器的基础上 ,探讨了影响油滴釉形成的工艺因素。通过一系列试验 ,进一步验证了油滴釉在结晶过程中主要发生了液液分相 ;釉料的化学组成是油滴晶斑形成的先决条件 ;釉层厚度、烧成制度等是决定釉面效果的重要因素 ;油滴晶斑的呈色不仅与烧成气氛有关 ,还与着色氧化物的引入有关。     

工业废渣在复合无光乳浊釉中的应用

以废瓷粉、废玻璃粉、粉煤灰等工业废渣为主要原料．添加其它常用的陶瓷原料，成功研制出乳白色、彩色(添加色料)、费色(以粉煤灰着色)三个系列无光乳浊釉。这些釉的烧成温度为1180℃左右，烧成气氛为氧化气氛．它们具有废渣用量大(废渣总用量40-50％)、熔块用量低(0～12％)、成本低等特点。     

1，1＇－二（1，3－二氧代长链烷基）二茂铁的合成与表征

用１，１＇－二乙酰基二茂铁与酯的Ｃｌａｉｓｅｎ缩合反应合成了５个新的１，１＇－二（１，３－二氧代长链烷基）二茂铁，其通式为Ｃ５Ｈ４ＦｅＣ５Ｈ４（ＣＯＣＨ２ＣＯＣｎＨ２ｎ＋１）２，ｎ＝５～９。通过元素分析、紫外－可见光谱、红外光谱、核磁共振氢谱和质谱对这些化合物进行了表征。结果表明，这些β－二酮仅以烯醇式存在。     

增塑聚丙烯结晶行为和力学性能的研究

以液体石蜡（LP）为增塑剂，采用双螺杆挤出机对无规共聚聚丙烯（PP）进行了增塑，研究了LP用量对PP力学性能和结晶性能的影响。研究结果表明：PP经过增塑后，冲击强度可提高150％，拉伸强度提高80％，断裂伸长率提高110％；增塑PP的结晶度和热变形温度也有所提高。     

利用本省原料生产成套细瓷

一、前言前几年,省轻工业厅和科技局下达给我厂"利用本省原料生产成套餐具"的科研项目,是一条发展我省陶瓷出口生产、上高档、增配套、创名牌的必经之路,是我省短期内把成套高档瓷打进欧美市场的一个竞争手段.我省陶瓷原料比较丰富,特别有质量较好的光福瓷石和世界闻名的苏州高岭土为原料基地,完全有可能达到上述要求.这更增强了我们搞好这个科研项目的信心.通过一年多来的试验和研究,终于试制成功了符合高档成套餐具性能和特点的20头、45头西餐具,为今后配套扩大生产打下了良好基础.利用我省原料性能的特点,我们试制的是一种白度高、烧成范围宽、热稳定性能好、机械强度高的硬质瓷配方,它以优质的光福瓷石为主要原料,加入白度好、质量纯的苏州青山高岭土,其配方含铝量达到26%以上,从而解决了大件产品.例■平盘、14"鱼盘,在烧成过程中的塌底、塌边的变形问题,产品出来规正度好、釉面光滑、质地纯净.为我省乃至国     

循环流化床压力波动信号的小波多分辨率分析

在150 mm×150 mm×2000 mm循环流化床试验模型上,分别以50,100,200和400 Hz采样频率,采集床壁静压波动信号.应用小波多分辨率分析方法,将原始压力信号分解成各尺度信号,然后提取各尺度能量模特征值,用以描述流态化系统气固两相流动特性.研究了采样频率、测点高度、表观气速等因素对分析结果的影响.本文结论有助于深入理解流态化系统流体动力特性规律.     

一种新的聚合物成型方法——塑料挤胀成型

塑料挤胀成型方法是一种新的塑料成型加工技术，目前塑料挤胀成型技术还没有得到研究和进行应用的报道。本文介绍了挤胀成型的概念及分类，比较了不同类型的挤胀成型工艺的优缺点，并介绍了挤胀成型技术的应用。在对有关挤胀成型技术的相关文献进行综述，并对固相成型技术在塑料加工领域的应用进展进行了总结后，本文重点探讨了研究塑料挤胀成型技术的可行性和必要性，并阐述了笔者在这种新的成型方法上所进行的主要研究内容及取得的成果。     

Fe（Ⅲ）-5-Br-PADAP络合物光化学还原反应的研究

研究了溶液酸度、光强度、有机酸及其浓度对Fe(Ⅲ)-5-Br-PADAP络合物光化学还原反应的影响,并对该光化学还原反应的机理作了初步探讨.结果表明,在pH为5.5的HAc-NaAc缓冲溶液中,Fe(Ⅲ)-5-Br-PADAP络合物的光化学还原反应速度较快;光强度增加,该光化学还原反应速度加快;甲酸等有机酸能加速该光化学还原反应;乙二酸、丙二酸能明显抑制该光化学还原反应;能促进反应的有机酸浓度增加,该光化学还原反应的速度加快.     

仙人掌中抑菌活性成分的提取与分析

采用响应面分析法得出仙人掌抑菌活性成分的最佳提取工艺条件为:乙醇体积分数76.96%,料液比1∶29.92,浸提温度69.40℃,浸提时间5.19 h.对仙人掌提取物做了抗菌谱的测定,结果表明,具有较宽的抗菌谱.仙人掌提取物对金黄色葡萄球菌、大肠杆菌、根霉、青霉和酿酒酵母的MIC分别为6.25 g/L、3.125 g/L、6.25 g/L、12.5 g/L和25 g/L.对仙人掌提取物进行稳定性测试,结果表明仙人掌提取物的抑菌活性具有较好的热稳定性、对紫外光照射稳定,pH4～6范围内抑菌效果稳定.     

Structural evolution and optical characterization in argon diluted Si:H thin films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition

The structural evolution and optical characterization of hydrogenated silicon (Si:H) thin films obtained by conventional radio frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) through decomposition of silane diluted with argon were studied by X-ray diffractometry (XRD), Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy, Raman spectroscopy, transmission electron microscopy (TEM), and ultraviolet and visible (UV-vis) spectroscopy, respectively. The influence of argon dilution on the optical properties of the thin films was also studied. It is found that argon as dilution gas plays a significant role in the growth of nano-crystal grains and amorphous network in Si:H thin films. The structural evolution of the thin films with different argon dilution ratios is observed and it is suggested that argon plasma leads to the nanocrystallization in the thin films during the deposition process. The nanocrystallization initiating at a relatively low dilution ratio is also observed. With the increase of argon portion in the mixed precursor gases, nano-crystal grains in the thin films evolve regularly. The structural evolution is explained by a proposed model based on the energy exchange between the argon plasma constituted with Ar* and Ar⁺ radicals and the growth regions of the thin films. It is observed that both the absorption of UV-vis light and the optical gap decrease with the increase of dilution ratio.