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31.
本文对电荷除法型位置灵敏探测器的特征和结构进行了描述。并给出了初步的实验结果。  相似文献   
32.
固体表面高精密平面化技术研究进展   总被引:5,自引:0,他引:5  
随着国内外市场的极大需求及激烈竞争,固体表面高精密加工质量要求日益提高.化学机械抛光(ChemicalMechanical Polishing,简称CMP)技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS),宝石类衬底、金属材料、光学玻璃等表面的平整化.该文综述了在微电子制造过程中CMP技术的重要性及该技术的机理和研究现状,指出了CMP技术在目前发展过程中存在的亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望.  相似文献   
33.
一、前言卤素管是一种低阈压的G-M计数管,它具有工作电压低、价格便宜、测量线路简单、工作寿命长等特点,所以在放射性强度及剂量测量中,它是一种常用的探测器。随着核技术在国民经济中应用的开展,卤素管的应用  相似文献   
34.
本文介绍了自然积污状态下的LXP-90型绝缘子串的绝缘特性试验结果。试验证明,要防止发生闪络事故,应增加其泄漏比距。  相似文献   
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