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介绍了俄罗斯最近研究的梯形防砂绕丝筛管和在井底附近地层冲积砾石滤层的处理工艺。该方法使油井的连续生产周期由安装前的 4 2 3天延长到 14 2 5天 ,获得了较高的效益。给出了冲积砾石滤层时井口连接示意图、井中安装防砂绕丝筛管组合装置的示意图和安装完筛管后井下设备示意图 相似文献
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青年学生是祖国未来建设的主力军。加强对青年学生规范化、经常化、手段多样化、自觉化、实用化、立体化的法制教育 ,创造良好的法制教育氛围 ,为落实党的十五大提出的依法治国的宏伟目标 ,为祖国培养合格接班人 ,建设现代化的法制国家 ,具有特殊的重大意义。 相似文献
64.
为解决TC4钛合金材料难加工问题,采用液体磁性磨具对TC4钛合金进行了表面加工试验。通过调整工艺参数,采用田口方法对TC4钛合金液体磁性磨具光整加工的工艺参数进行优化。采用单因素试验法,研究磨料类型、磨料粒径、工件转速和电流强度等工艺参数对液体磁性磨具光整加工TC4钛合金材料加工性能的影响,并总结各工艺参数对工件表面粗糙度的影响规律。根据信噪比的望大特性分析得出,在液体磁性磨具光整加工TC4钛合金材料的加工过程中,当使用2 000目的白刚玉,主轴转速为500 r/min,电流强度为1.5 A加工时,工件表面粗糙度相对下降率%ΔRa达到了86.10%。液体磁性磨具光整加工TC4材料表面的最优工艺参数组合为:2 000目的白刚玉,主轴转速为700 r/min,电流强度为2.0 A。同时得出各工艺参数对工件表面粗糙度相对下降率%ΔRa的影响大小依次为:磨料类型磨料粒径工件转速电流强度。当采用2 000目的白刚玉配置的磨料进行加工时,工件的表面粗糙度Ra达到了0.096μm。采用液体磁性磨具光整加工技术可以有效地降低TC4钛合金材料的表面粗糙度和提升其工件表面加工质量,显著改善了传统加工方式中存在的烧蚀和烧伤现象。 相似文献
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66.
由于CCD(电荷耦合器件)可作为光学系统的接受器,构成光电光学系统,既可实现光电能量转换,又可进行光电图象转换,所以得到广泛的应用,随之对光学系统提出新的要求.本文对CCD相机广角镜头的光学系统设计方法进行了研究,并给出视场角为100°,CCD靶面分别为1/2英寸和1/3英寸的光学系统设计方法和设计结果。 相似文献
67.
由于所需测量的光谱范围较宽(276~700 nm),而CCD 探测器的接收面尺寸较小(14.3 mm10.5 mm),根据所选用的平面光栅元件参数,采用传统的车尔尼-特纳型结构是无法满足的。基于该结构,利用光线相对光栅的入射角和衍射角与光栅转角的关系,提出了使用两块反射式平面光栅进行光谱分离的方法。通过理论计算,确定了两段光谱范围和两光栅的旋转及俯仰角度,采用ZEMAX 软件建立多重结构,分别设置两块光栅的位置和波长参数,对光学系统进行了模拟分析和优化。结果表明,在像面上得到了两条谱面线展宽为14mm,中心间距8mm的光谱带,光谱分辨率优于1nm,各像差得到了充分校正,满足设计指标要求,很好地解决了宽光谱和探测器接收面尺寸之间的矛盾。 相似文献
68.
在考虑VDMOS器件的抗辐照特性时,为了总剂量辐照加固的需求,需要减薄氧化层的厚度,然而,从VDMOS器件的开关特性考虑,希望栅氧化层厚度略大些。本文论证了在保证抗辐照特性的需求的薄氧化层条件下,采用漂移区多晶硅部分剥离技术以器件动态特性的可行性,研究了该结构对器件开启电压、击穿电压、导通电阻、寄生电容、栅电荷等参数的影响,重点研究了漂移区多晶硅窗口尺寸对于VDMOS动态特性的影响。模拟结果显示,选取合理的多晶硅尺寸,可以降低栅电荷Qg,减小了栅-漏电容Cgd,减小器件的开关损耗、提高器件的动态性能。 相似文献
69.
张迎五 《建设科技(建设部)》2010,(5):72-73
新修订的《天津市二次供水工程技术标准》(以下简称《标准》)已经天津市建设管理委员会发布.并于2008年4月1日实施。笔者有幸组织了该《标准》的制定和本次的修订。 相似文献
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