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31.
高能同步辐射光源(HEPS)氮低温制冷循环系统为储存环隧道内的7个超导高频腔低温恒温器提供液氮冷量。氮低温制冷循环系统的热力学分析目的是针对HEPS超导高频腔低温恒温器的特点,建立系统的热力学分析模型,研究其工作过程,计算分析系统的制冷系数与循环增压比之间的对应关系。同时,考虑到系统的整体布局,进一步分析计算氮低温制冷循环系统中氮气压缩机和低温透平膨胀机的火用损,优化了系统的热力学设计参数。HEPS氮低温制冷循环系统的热力学性能分析与计算结果对于系统最优化设计和后期工程实践具有一定的指导意义。 相似文献
32.
使用EcosimPro商业软件和关联式编程两种方法,对HEPS氦低温传输系统进行了模拟和计算,研究了管道内径和管道粗糙度对管道压降的影响。结果表明流动压降随着管道内径的增大而减小,但降低的幅度越来越小,当管道直径从30.8 mm提高至56.8 mm,压降仅降低了约510 Pa;流动压降随粗糙度的增加而增加,但管径越大压降增加越小,当管径为30.8 mm时,选用电抛光管压降下降了954 Pa;管道的漏热量和降温复温时间随管径的增大而提升。通过计算分析最终选择主干来流管道公称直径为DN25,内径为30.8 mm的普通金属管,分支来流管道公称直径为DN10,内径为14.6 mm的普通金属管,主干回流管道公称直径为DN50,内径为56.8 mm的普通金属管,分支回气管道公称直径为DN20,内径为23.8 mm的普通金属管,满足工程需求。 相似文献
33.
(S)-3,3’-二(吡咯烷甲基)-八氢联萘酚可广泛应用于不对称催化反应和手性分子识别,但其合成方法仍有待改进。以(S)-联萘酚为原料,通过环境友好的两步反应在乙醇溶剂中合成了(S)-3,3’-二(吡咯烷甲基)-八氢联萘酚。在(S)-联萘酚的氢化反应中,研究了钯的负载量及其回收套用,发现在质量分数1%~5%(钯净含量占原料)的钯炭催化剂的作用下,反应收率均几乎定量,但所需反应时间不同。在类曼尼希反应中,开发了改进的合成方法,不仅溶剂更为绿色,而且后处理方法更为简单、高效和省时,产品收率高达97.9%。 相似文献
34.
由于我国国内经济的发展形势受到复杂国际环境的影响,企业管理面临着各种问题和挑战,尤其是建筑企业,面临资金需求变动加大,资金管控难度增加、工程款拖欠严重、资金分散程度高等各种资金管理问题。为解决企业经济困难,提高企业竞争力,本文主要探讨了建筑企业资金管控模式的控制方法,提高了资金运行能力。 相似文献
35.
36.
氮低温制冷循环系统为高能同步辐射光源提供80 K温区冷量,其最核心的部件为氮透平膨胀机,透平叶顶间隙会改变流场分布,对效率产生较大影响。首先根据设计工况初步确定了氮透平的几何结构,随后利用数值模拟对流场进行计算,研究了叶顶间隙参数对流场分布以及整体效率的影响。结果表明,叶顶间隙的存在会使工作轮入口叶顶出现涡流,改变流场分布。在等叶顶间隙情况下,叶顶间隙相对出口叶高小于1.5%时,间隙每增加0.5%,等熵效率降低1.5%左右;在不等叶顶间隙情况下,径向间隙对透平效率的影响要明显大于轴向间隙。 相似文献
37.
38.
在S波段3.3 MW脉冲磁控管研制过程中,连续多支磁控管在工作比为1.05‰的条件下工作不足100 h,阳极端盖出现明显的氧化现象,经分析轴向电子轰击端盖产生局部高温是引起磁控管阳极端盖氧化的一个重要原因。本文对阴极发射体端部结构进行改进,仿真分析及实验结果证明了改进后的结构可实现对轴向电子的有效抑制。改进后的磁控管在脉冲电压为47.5 kV、脉冲电流为120 A、脉冲宽度为4.2μs、工作比为1.2‰的条件下,输出脉冲功率大于3.3 MW,磁控管已稳定工作超300 h,阳极端盖无氧化现象发生。实验结果为进一步提升磁控管技术性能及推广应用打下了良好基础。 相似文献
39.
40.
An ultra-low specific on-resistance(Ron,sp) silicon-on-insulator(SOI) double-gate trench-type MOSFET (DG trench MOSFET) is proposed.The MOSFET features double gates and an oxide trench:the oxide trench is in the drift region,one trench gate is inset in the oxide trench and one trench gate is extended into the buried oxide.Firstly,the double gates reduce Ron,sp by forming dual conduction channels.Secondly,the oxide trench not only folds the drift region,but also modulates the electric field,thereby reducing device pitch and increasing the breakdown voltage(BV).A BV of 93 V and a Ron,sp of 51.8 mΩ·mm2 is obtained for a DG trench MOSFET with a 3μm half-cell pitch.Compared with a single-gate SOI MOSFET(SG MOSFET) and a single-gate SOI MOSFET with an oxide trench(SG trench MOSFET),the Ron,sp of the DG trench MOSFET decreases by 63.3%and 33.8% at the same BV,respectively. 相似文献