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如何有效实现短波通信频率的优选,是推动短波通信技术发展和应用的关键。针对这一核心问题,分析介绍了一种新的频率优选方法——短波通信自优化技术,并阐述了其提出背景和技术特点。在系统梳理频率优选方法分类的基础上,对各类方法的优缺点、适用范围、相互关系进行分析讨论。对短波通信频率自优化技术发展中涉及的数据要素选取、频率数据重构等关键技术进行初步分析讨论,明确了频率自优化技术的地位和作用。 相似文献
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科普理论的内容包括科普的概念与性质特征、科普的发展历史、科普的对象与内容、科普的功能、科普的渠道与政策、科普的载体、科普队伍建设、科普设施建设与管理、科普工程组织、科普效果评估、科普特点等,而科普政策研究又是一门交叉科学,其知识基础较广,需要从政治科学、科学学、经济科学、管理科学等方面吸取营养,以之作为理论分析的工具。因此如何对科普理论研究进行深入的探讨,为科普政策制定提供一套进行科学分析的系统方法,既不局限于西方的理性分析传统,又能着重于研究政策制定系统与政策制定过程的改善。为此在2014年4月9日,中国科普研究所举办了"科普理论与政策研究重点方向及未来发展"主题研讨会,十余位专家学者发表了对科普理论研究的理解与认识,研讨了科普政策研究的重点和未来趋势。结合科普研究所的特点,分析了其在科普理论与政策研究上的独特优势,以及未来开展研究的方向。 相似文献
95.
分析了遥感偏振探测的原理和与遥感强度探测相比所具有的优越性,指出了偏振图像的特点。采用偏振测量方法,可以获得地物的偏振信息,有助于增强对地物的探测能力,但是对图像像元不对准有很高的敏感性,为了得到可靠的偏振信息,配准的精度应该至少到达0.1个像素。介绍了一种基于傅立叶变换的配准方法:相位相关法,并把该方法应用于偏振图像配准中。相位相关法根据傅立叶变换的平移性质,能够解决具有平移关系的图像配准问题,实验证明该方法具有对噪声和图像灰度变化不敏感的优点。 相似文献
96.
邱元武 《激光与光电子学进展》2006,43(9):36-41
硅光子学有六个主要研究领域,包括产生光、在硅中选择地引导和传输光、编码光、探测光、包装器件和智能地控制这一切光子功能。综述了以上各领域的研究进展。 相似文献
97.
输入串联输出并联全桥变换器在高压大功率DC-DC场合应用十分广泛.本文为了解决输入串联输出并联全桥变换器的输入不均压问题,探究了输入串联输出并联全桥变换器输入侧分压不均和输出侧分流不均的根本原因,研究了该型变换器负载大小对输入均压的影响,定量分析了负载大小和输入不均压程度的关系公式;基于这种分析,提出了通过均压电阻强制给定负载的方法实现输入均压,从而实现了该型变换器的控制简化.文章最后通过仿真和样机实验验证了该方法的有效性和正确性,运用该方法的输入串联输出并联全桥变换器输入电压不均压程度控制在输入电 压的2%,满足工程实践要求. 相似文献
98.
过孔搭接失效一直是TFT-LCD行业中重点改善的不良之一。为了解决该不良,本文分析了不同刻蚀模式(ICP和ECCP)对过孔形貌的影响,利用四因子法研究ECCP模式刻蚀参数(压力、偏置/源极射频功率及O_2/SF_6气体比例)对刻蚀速率和均一性的影响,并得出ECCP过孔改善的最佳刻蚀参数。结果表明:ECCP模式下,氮化硅刻蚀过程中物理轰击对GI截面的下沿与Cu接触区域形成损伤后产生的缺陷,是诱发过孔腐蚀的主要因素,ICP模式无腐蚀。反应腔压力增大刻蚀速率增大,均一性下降;偏置射频功率增大,速率增大,均一性提高;源极射频功率增大,速率变化小,均一性下降;O_2/SF_6气体比例对速率影响小,O_2含量越高,均一性越高。为达到PR胶保护GI下沿截面的目的,反应压力增大到1.7Pa,偏置射频功率减小到30kW,源极功率增加到30kW,O_2/SF_6气体保持比例1∶1后,增加了氮化硅的刻蚀量,减小PR胶的内缩量,避免物理溅射表面损伤;同时刻蚀速率达到750nm/s,均一性达到10%,腐蚀发生率为10%~0,使ECCP刻蚀模式对过孔的腐蚀影响得到有效解决。 相似文献
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100.
腔衰荡光谱技术(CRDS)由于其具有高灵敏度、高精度、装置简单等特点,被广泛应用于痕量气体检测、镜面反射率测量等领域。建立了一套基于连续波频率的腔衰荡光谱(CW- CRDS)装置,基于Pound-Drever-Hall(PDH)频率锁定技术将激光器的频率锁定到光学腔的纵模上,从而保证了激光功率到腔模的高效耦合。通过观测不同的声光调制器(AOM)关断频率对应的透射信号,得到光路最佳关断频率为60 kHz。使用该系统测量了光学腔腔镜的反射率,通过与非锁定情况下测量得到的结果进行对比,得出锁定后的结果漂移减小,误差也压缩为非锁定情况下的1/3。 相似文献