排序方式: 共有28条查询结果,搜索用时 15 毫秒
21.
22.
带撑式基坑支护结构变形影响因素分析 总被引:5,自引:1,他引:5
利用有限元分析软件ANSYS对一典型带撑式基坑工程在开挖过程中的变形进行模拟分析,将模拟计算结果与实测值进行比较,验证该方法的可行性。并进一步对影响基坑变形的几个主要因素:支护结构的墙体刚度、墙体入土深度、支撑刚度、支撑位置、基坑平面尺寸效应及基坑底面以下土体强度等进行系统分析,提出带撑式基坑开挖变形控制的支护设计概念和建议。 相似文献
23.
目前,大闸蟹的养殖产量逐年提高,消费者需求也不断增加,市场前景如此美好,问题也不少。从生产者角度来看,生产养殖技术的落后、养殖知识的匮乏、部分塘口基础设施较差以及自然生产环境的变化无常,都给生产者带来了难以估量的损失。从消费者来看,市场上大闸蟹品牌的鱼龙混杂,真假难辨,让消费者不知如何选择。另外,随着近几年发生的一些动物食品安全公共事件,不仅给消费者带来无法估量的灾难和经济损失,而且使得动物性食品安全问题成为全球关注的焦点问题之一。加强对动物性食品安全的监督管理工作,尽 相似文献
24.
给出了若干个新的W-空间上的广义收缩型条件,并证明了满足这些收缩型条件的映射族具有唯一的公共不动点,所得结论改进和推广了一些已有结果。 相似文献
25.
26.
抑制二次电子发射方法的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
电介质和金属表面被激发出来的二次电子(Secondary electron emission,SEE)可以显著地改变该表面附近的电势分布和通量.在一些情况下,如电子束焊机、扫描电子显微镜、透射式电子显微镜、电子衍射仪、俄歇电子能谱仪、电子倍增管等应用中,二次电子的次级倍增效应得到很好的应用.然而在另一些情况下,例如射频放大器、粒子加速器和霍尔推进器、电子真空管、空间宇宙飞行器表面等应用中,二次电子会对仪器产生不利的影响.因此,抑制二次电子发射及研究减少二次电子产额(Secondary electron yield,SEY)是非常有意义的.现有的抑制二次电子发射的研究方法有外加偏置场法和表面处理法,其中通过外加电场或磁场来抑制二次电子的激发会对入射束流、束斑产生不利影响,因此表面处理法更具优势.表面处理法主要分为三类:表面陷阱构造(矩形以及三角形的凹槽、微孔结构、纤维结构、泡沫结构等)、表面镀膜(石墨烯膜、TiN膜等)、表面束流处理(激光刻蚀、磁控溅射法).这些抑制二次电子激发的方法主要为了达到两个目的,一是减少物体表面的真二次电子的发射,二是捕获发射的二次电子,使之不能逃逸.本文总结了一些抑制二次电子激发的方法,比较不同方法或不同影响因素对二次电子的影响. 相似文献
27.
工程造价是按照确定的建设内容、建设规模、建设标准、功能要求和使用要求等将工程项目全部建成并验收合格交付使用所需的全部费用。工程造价的合理确定,就是在建设的各个阶段采用科学的计算方法和切合实际的计价依据,合理地确定投资估算、设计概算、施工图预算、承包合同价、结算价及竣工决算。 相似文献
28.
通过对辽宁省某高校的学生消费进行抽样调查,运用模糊综合评判的方法,建立多层次模型,对大学生的消费水平做出模糊综合评判,得出评判结果。 相似文献