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101.
分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型. 相似文献
102.
配电网模型的频繁变更和数据质量问题对配电自动化主站系统实时监控类应用会产生较大干扰,而主站新的建设模式对多用户并发维护提出更高的性能要求。提出基于多态机制的未来态配电网模型管理方案,在独立的环境下开展基于异动单的模型维护、遵循IEC 61970/61968标准的图模接入和校验、全量模型和增量模型相结合的版本管理,以及自动化调试工作,与在线运行环境适当解耦,同时解决了多用户并发维护的效率问题。通过配电自动化系统和省级集中监管系统的运用案例,实践证明基于多态机制的未来态模型管理方案可满足配电网模型管理的多源端、多用户、自动化离线调试的需求。 相似文献
103.
铜植入层对硬质合金上金刚石薄膜附着力的影响 总被引:10,自引:2,他引:8
金刚石薄膜在含Co的硬质合金刀具上的沉积有较大的困难,在化学气相沉积条件下碳在钴中溶解和扩散限制了金刚石的形核并易生成石墨,导致了金刚石薄膜的附着力较差,为增强金刚石薄膜在硬质合金刀具上的附着力,本研究采用了铜植入层作为扩散阻挡层,实验研究表明铜植入层提高了脱钴后的刀具表面的硬度及金刚石薄膜的质量;压痕试验表明:在载荷为1500N时金刚石薄膜的开裂直径为1.12mm,金刚石薄膜在刀具上的有很好的附着力。 相似文献
104.
105.
金刚石薄膜的性质、制备及应用 总被引:26,自引:9,他引:26
金刚石有着优异的物理化学性质,化学气相沉积金刚石薄膜的研究受到研究人员和工业界的广泛关注。通过评述金刚石薄膜的性质、制备方法及应用等方面的研究成果,着重阐述化学气相沉积金刚石薄膜技术的基本原理,分析了各种沉积技术的优、缺点。结合对金刚石薄膜应用的讨论,分析了金刚石薄膜在工业应用中存在的问题和制备技术的发展方向。分析结果表明:MWCVD法是高速率、高质量、大面积沉积金刚石薄膜的首选方法;而提高金刚石的生长速度、降低生产成本等是进一步开发刚石薄膜工业化应用所需解决的主要问题。 相似文献
106.
107.
综述了目前制备高纯金的各种方法的原理及工艺,并对其优缺点进行了分析。化学还原分离法效率高、周期短,但酸耗大、污染严重;熔融氯化法对原料适应范围广,但存在氯化过程复杂、工艺难于精准控制和产品质量不稳定等不足;溶剂萃取法效率高、产品质量稳定,但试剂消耗大、有机污染严重和易燃易爆;电解法具有成本低、除杂效果好、产品纯度稳定性强及环境污染小的优点,但原料适应性相对较差、生产周期相对较长且会积压金。高纯金具体应用形式为键合用金丝、溅射靶材及高纯度金基合金,涉及电子、半导体及航空航天等领域。 相似文献
108.
为了快速、准确地对制造企业生产运营过程进行绩效分析和优化,提出一种基于状况模型的过程层次分析方法。状况模型从过程内部机制来描述生产运营过程的绩效及其影响因素。利用本体形式状况模型的过程知识,生成过程绩效影响关系图来表达过程中各活动组成要素间的绩效影响关系。将过程绩效影响关系图转化为递阶层次结构,利用层次分析法找到绩效影响权重大的关键状况属性。进而通过状况属性的权重-状况差距矩阵,找到影响过程绩效的关键点。由状况模型自动生成递阶层次结构,比人工生成更简便、客观、准确。给出的实例表明了该方法的正确性和可行性。 相似文献
109.
110.
采用WC过渡层增加金刚石薄膜附着力的研究 总被引:6,自引:2,他引:6
在微波等离子体化学气相沉积装置中,以WC-8%Co为基体,采用氢等离子体脱碳、磁控溅射镀W、碳化等方法,制备了微晶WC过渡层。研究了金刚石薄膜与基体的附着力。结果表明,表面脱碳后再镀W膜,W填充了氢等离子体脱碳时刀具表面因钴蒸发而留下的空洞,形成过渡层,在随后的碳化中和基体WC连接较为紧密,能增加金刚石薄膜与基体附着力,克服单纯的氢等离子体脱碳还原法降低刀具基体硬度、不能完全消除钴的有害影响的缺点。 相似文献