等离子体技术在提高硬质合金工具上金刚石薄膜附着力方面的应用

金刚石薄膜具有优异的性能，作为切削工具表面的保护性涂层，可以大幅度提高工具的使用寿命以及加工精度。硬质合金是一种广泛使用的工具材料，在其表面沉积高附着力的金刚石薄膜时存在着困难。等离子体中离子、原子或分子具有高的反应活性，等离子体技术在金刚石薄膜的制备中有着广泛应用。利用等离子体技术可以极大的消除因金刚石薄膜与硬质合金基体之间存在热应力以及由硬质合金中的钴粘结剂在化学气相沉积金刚石薄膜过程中的促石墨化作用而产生的不利影响，提高金刚石薄膜与硬质合金基底之间附着力。本文综述了等离子体技术在提高硬质合金工具表面金刚石薄膜附着力方面的研究进展。     

基体对金刚石厚膜质量的影响研究

采用MPCVD法在钼基体上制备金刚石厚膜,测量了等离子体发射光谱,并利用XPS、Raman和SEM对金刚石厚膜进行表征.研究了Mo原子进入金刚石中的机制及其对金刚石厚膜的影响.结果表明:除了热扩散,Mo原子还会以蒸发进入等离子体的方式进入金刚石.金刚石中的Mo原子是以Mo+4、Mo+6以及介于Mo+4-Mo+6之间的化...     

水利行业的互联网+

"互联网+"是对互联网技术的升华和发展,旨在促进互联网与社会领域的深度融合.在"互联网+"背景下,互联网不再仅仅发挥信息基础建设的作用,而要承担改进经济社会实体管理、生产和经营方式创新的作用.以此为背景,本文分析了"互联网+"的由来,阐述了"互联网+"对网络技术的新要求,以及互联网+给水利行业带来的新变化.     

Effect of Plasma Boronitriding on Diamond Nucleation and Growth onto Cemented Carbide Substrates

Plasma boronitriding has been successfully employed to overcome the difficulty in diamond growth on ferrous-based substrates,Commercial cobalt-sintered,tungsten-cemented carbides(WC (Co) were pretreated by a plasma boronitriding method,diamond was then deposited by microwave-enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) ,The deposited films were characterized by scanning electron microsopy and Raman spectroscopy,Conitinuous diamond films with a sharp characteristic Raman Peak of 1334 cm^-1 were grown and adhered well on the boronitrided region of the cemented carbide substrates,On,the other hand,a mixture of diamond crystallites,amorphous carbon and graphitic carbon was loosely deposited on the unboronitrided region A cobalt inert thin layer formed after plasma bornitriding pretreatment enabled the subsequent nucleation and growht of a high-quality CVD iamond.     

电网模型交换标准CIM/E和CIM/XML的比对分析

随着智能电网和大运行体系的建设,调度中心内部各专业及调度中心之间需要紧密配合,统一部署,一体化运作。调度中心内部各专业及调度中心之间的高效、精确一体化建模是智能电网建设和大运行体系建设的基础,而信息交换标准化是一体化建模的保障。对电网模型交换标准CIM/E和CIM/XML做了简单的介绍,重点从描述效率和使用性能上对2种标准做了对比测试,并对结果做了详细的分析,明确了2种标准的适用场景,为智能电网和大运行体系建设中如何使用该标准提供了理论依据,更好地理解和使用2种标准具有重要的意义。     

矩形压缩谐振腔内基底对电场影响的仿真模拟

针对微波等离子体化学气相沉积金刚石过程中,矩形谐振腔中激发的等离子体稳定性和均匀性差的问题,提出通过用Ansoft软件对矩形压缩谐振腔进行模拟计算来优化设计谐振腔的方法．模拟中,假设除了微波输入端口以外,所有的边界都定义为理想电导体;微波能以平面波的形式,通过矩形波导被耦合到微波谐振腔内;再用高频结构仿真器联合求解满足模型条件的麦克斯韦方程组,得出谐振腔中的电场分布结果．分别模拟了基底深入谐振腔内高度为1．5、2、2．5、3、4mm和基底半径为11、13、15、17mm时,腔体内的电场分布．数值模拟结果表明,压缩谐振腔内的最大电场强度为817V／m左右,较压缩之前的电场强度增高了近一倍,且基底深入谐振腔高度为2mm,基底半径为13mm左右时,装置内电场强度较集中．     

脉冲电弧等离子体处理含对硝基苯酚废水

利用大气压下脉冲电弧等离子体对含对硝基苯酚的有机废水进行处理,研究放电条件对废水处理效果的影响.结果表明,提高放电电压和降低放电回路电感有助于废水化学需氧量(COD)的降低;其降低机理在于废水经电弧等离子体处理后降解为有机小分子,最终降解为固态碳粉、CO2和H2O等无机小分子.     

微波CVD法低温制备纳米金刚石薄膜

利用甲醇和氢气的混合气体,用微波等离子体CVD方法在480℃下成功地在硅片表面制备出纳米金刚石薄膜,本文研究了甲醇浓度和沉积温度对金刚石膜形貌的影响.通过Raman光谱、原子力显微镜及扫描隧道显微镜对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征.研究结果表明:通过提高甲醇浓度和降低沉积温度可以在直径为50 mm的硅片表面沉积高质量的纳米金刚石薄膜,晶粒尺寸大约为10～20 nm,并对低温下沉积高质量的纳米金刚石薄膜的机理进行了讨论.     

CVD条件对金刚石薄膜/钼基体界面层的影响

用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在Mo基片上沉积金刚石薄膜时,界面层钼的碳化程度与初始沉积条件有关.利用XRD,SEM,EDS对界面层进行的研究表明:在化学气相沉积的开始阶段,较低的甲烷浓度有利于碳向基体内的扩散从而让表面的Mo充分碳化,形成富含Mo2C的界面层.甲烷浓度过高时有利于金刚石的形核而不利于碳向基体内的扩散.在金刚石薄膜的生长过程中,碳向基体内的扩散很少,界面层的组成结构保持不变.     

微波CVD法低温制备纳米金刚石薄膜

利用甲醇和氢气的混合气体，用微波等离子体CVD方法在480℃下成功地在硅片表面制备出纳米金刚石薄膜，本文研究了甲醇浓度和沉积温度对金刚石膜形貌的影响．通过Raman光谱、原子力显微镜及扫描隧道显微镜对样品的晶粒尺寸及质量进行了表征．研究结果表明：通过提高甲醇浓度和降低沉积温度可以在直径为50mm的硅片表面沉积高质量的纳米金刚石薄膜，晶粒尺寸大约为10～20nm，并对低温下沉积高质量的纳米金刚石薄膜的机理进行了讨论．