飞机用钛合金的加工

近年来，对汽车和飞机零件高强度化和轻量化的要求越来越高。因此，这些零件所使用材料中的钛、镍合金等也在不断增加。这种材料一般称为切削加工性差的“难切削材料”。加工此类材料的切削刀具也必须能够适应难切削材料特有的加工条件和加工方法。     

电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO2—Y2O3薄膜的结构特征

对射频磁控溅射沉积的ＺｒＯ２－１２ｗｔ％Ｙ２Ｏ３薄膜进行了电子束处理和热退火处理。通过ＸＲＤ，ＸＰＳ，ＳＥＭ等的微观分析，研究了薄膜的相结构组成，薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高薄膜增韧性为目的而进行的后处理的方式选择作了讨论。     

精准定位和无线安全通信技术在电力保障中的应用

电力保障服务是电力生产运营企业的立身之本,为进一步提升电力企业对内的运维管控能力和对外的服务和运营能力,电网已经在通过构建基于移动智能终端和私有云服务的电力保障服务过程管控方案,利用精准定位和面向专有网络的无线安全通信技术,实现对电力保障业务的过程管控。该方案的关键点在于对精准定位和基于专有网络的无线安全通信技术的研究与应用。文章从上述两点入手,探讨过程管控系统的构建与应用。     

两种离子束方法制备Cr膜的分析研究

在室温下,采用离子束溅射同时经100 keV Ar 离子轰击的动态离子束混合技术和采用离子束溅射技术这两种方法制备Cr膜,并用XPS,SEM及AES对薄膜的结构、表面形貌、薄膜与基体附着力的影响等进行分析对比。结果表明,与离子束溅射技术制备的Cr膜相比较,动态离子束混合技术制备的Cr膜表面平滑,膜致密呈无气隙的柱状结构,且薄膜元素与基体元素混合形成的组分过渡层较宽,因而有效地提高了Cr膜的附着力。     

基于Voronoi图和量子遗传算法的飞行器航迹规划方法

以飞行器航迹规划为应用背景,提出一种基于Voronoi图和量子遗传算法的飞行器航迹规划方法。首先,建立威胁源的V图,并构建发射点、目标点与威胁源的V图赋权有向图,从而建立飞行器航迹规划V图空间;然后,对传统量子遗传算法进行改进,引入了量子门旋转角步长动态调整机制;并增加了量子交叉操作和量子变异操作,使得改进后的量子遗传算法具有更高的搜索效率,采用改进后的量子遗传算法求解V图空间中的最优航迹;最后,进行了仿真实验。仿真结果表明,基于V图和量子遗传算法的航路规划方法是可行和有效的。     

用化学热解沉积法制备硫化镉薄膜的微结构

在载玻片或ITO涂覆的玻璃上采用化学热解法沉积CdS固体薄膜,沉积温度在350-540℃之间,部分制备的CdS薄膜进行200-600℃的退火热处理,由SEM,AFMT和XRD分析测量退火热处理前后的CdS薄膜的微观结构,结果表明,沉积温度低于540℃以下制备的CdS薄膜具有类六方结构相当于540℃沉积的CdS薄膜的晶料尺寸依赖于沉积温度及不同基体的情况也在本文中进行了讨论。     

Internet与广播电视业信息电子化

作为信息高速公路的雏形，Ｉｎｔｅｒｎｅｔ网络的发展正处于一个方兴未艾的时期，可以预计Ｉｎｔｅｒｎｅｔ的发展必然会加快社会信息化步伐，深刻影响国家经济发展和人民的生活方式。Ｉｎｔｅｒｎｅｔ具有很强的交互性，网络上信息的传播方式以及最终的传播效果都与目前的广播电视有很多共性。因此，随着Ｉｎｔｅｒｎｅｔ的发展，它必然会对广播电视业提出挑战。文章详细阐述了Ｉｎｔｅｒｎｅｔ的特性，研究了Ｉｎｔｅｒｎｅｔ在广播业中的作用，描述了网络广播的广阔应用前景。     

电子束熔凝NiCoCrAlY涂层的高温氧化行为分析

在GH140高温合金钢基体表面采用磁控溅射沉积NiCoCrAlY涂层,并用电子束进行熔凝处理。分析结果表明,电子束熔凝使NiCoCrAlY涂层与基体形成组分梯度变化的混合层,提高了涂层与基体的结合程度。涂层经1000℃和1100℃,10h的对比氧化试验,结果表明,在1000℃时,Cr扩散至表面,由于CrO3的挥发而迅速损耗,但Y的存在,在一定程度上减缓了Cr的损失速度。1100℃时起抗氧化作用的主要来自Al、Ti、Si、Mn等,Al的内氧化抑止了Al的外扩散。     

Direct Tunnel技术在GPRS融合网络中的应用研究

文章从网络模型和信令流程两个方面对Direct Tunnel（简称DT）技术做了深入分析,在此基础上提出了在原有TD／2GGPRS融合网络中引入DT技术的组网实现方案,并介绍了此技术功能开通的方式,最后根据现网提取的测试数据对该技术的实际效果进行了验证。     

离子束电子束多功能材料表面处理设备

本设备由以下系统组成:注入系统,有溅射离子源及不对称三电极加速管,能量50keV,流强4mA(N~+);电子束系统,能量45keV,功率密度10~2—10~6W/ cm~2;配备微机程序的束偏摆装置;靶材易换的磁控溅射靶;可作旋转、平移、升降等机械运动的高真空工作室(φ500×1600mm)。可进行离子注入及混合、电子束上釉及合金化、磁控溅射离子镀等工艺。该设备为材料表面改性和薄膜制备提供了新的手段。