HNB小区UE准入控制策略研究

在介绍LAC资源分配方案的基础上,对封闭模式下不同的准入控制方案进行了分析,并着重给出了一个完整的准入控制解决方案。     

数字式溶解氧分析仪的研制

设计了一种基于极谱法的数字式微量溶解氧分析仪(HK-258型),介绍了溶解氧传感器的工作原理和结构.仪器以单片机为核心进行控制和信号处理,抗干扰能力强,性能可靠稳定.与瑞士Orbisphere公司的溶解氧记录仪作了对比测试.仪器测量精度达到μg/L级.     

双路位移检测系统

利用光栅尺、高速计数单元、可编程序控制器、触摸屏等设计成双路位移检测系统,该系统可用于磨床、铣床、专用检具等设备的位移检测。     

DMTAM光度法同时测定钯和钴

以硫脲作为掩蔽剂,在pH3.75～5.0的HAc—NaAc缓冲介质中,Pd、Co(Ⅱ)和DMTAM均能形成稳定的1∶2型配合物,其表观摩尔吸光系数分别为ε_(Pd)=6.14×10~4,ε_(Co)=6.20×10~4,遵守比尔定律的线性范围分别为Pd0～35μg/25ml,Co0～15μg/25ml。研究了30余种共存离子的影响。可应用于分子筛和矿样中Pd、Co的同时测定。     

BTA@SPANI-POSS环氧涂层的制备及防腐性能

为提高环氧涂层在腐蚀环境下的防腐性和持久性,合成一种负载有缓蚀剂苯并三唑(BTA)的苯并三唑@磺化聚苯胺功能化倍半硅氧烷(BTA@SPANI-POSS),随后将BTA@SPANI-POSS与环氧树脂共混得到BTA@SPANI-POSS环氧涂料,最后在Q235碳钢上制备数种复合环氧涂层。通过红外光谱、紫外可见光谱、扫描电子显微镜对BTA@SPANI-POSS的结构、缓蚀性能、表面形貌进行表征,利用接触角测量仪、电化学工作站研究所制备涂层的疏水性能和防腐性能。研究表明,随着SPANI-POSS的添加,涂层沾湿性能降低。电化学阻抗谱(EIS)和塔菲尔极化曲线测试结果表明,与SPANI-POSS环氧涂层相比,负载有BTA的BTA@SPANI-POSS环氧涂层对金属基底具有更高和更持久的保护能力,其中试样EB1.5%的腐蚀电流密度icorr为16.67?A·cm^-2,其极化电阻Rp为2.467 M?·cm²,具有较低的腐蚀动态速率。在3.5 wt.%NaCl溶液中浸泡15 d后环氧涂层仍具有良好的防腐蚀效果,其阻抗值Z0.01Hz仍保留有第1 d时的2...     

双锭电磁铸造实验研究

通过对双锭电磁铸造模拟实验，研究了感应线圈内磁场分布，以及感应线圈以结方式、铸锭间距、电源频率和电流的变化时磁场分布的影响，为指导铸造工艺提供参考。     

城中村物业管理政府激励机制分析

本文基于物业管理既是对物业区域"物"的管理,同时也是对"人与秩序"的双重属性以及城中村物业的先天不足和管理成本高、收费难等因素,研究了政府激励城中村物业管理的必要性和效用;结合深圳市城中村物业管理的实例分析了在信息不对称条件下政府激励城中村物业管理的方式、难点和对策。     

Cumulative permanent strain and critical dynamic stress of silty filler for subgrade subjected to intermittent cyclic loading of trains

Bulletin of Engineering Geology and the Environment - The long-term loading of the trains on the subgrade in service is the cyclic loading when the train passes and the intermittent stage when...     

绿色建筑——电能管理与电气节能

绿色建筑指在建筑的全寿命周期内,最大限度地节约资源（节能、节地、节水、节材）,保护环境和减少污染,为人们提供健康、适用和高效的使用空间,与自然和谐共生的建筑。绿色建筑代表一个概念或象征,指建筑对环境无害,能充分利用环境自然资源,并且在不破坏环境基本生态平衡条件下建造的一种建筑。电能作为建筑运行必须的主要能源,是绿色建筑的主要评价指标,笔者将对电能的节能、管理方式进行总结分析。     

化学辅助软性磨粒流抛光技术

针对当前模具结构化表面抛光难度大的问题,提出了一种新型的光整加工技术——化学辅助软性磨粒流抛光。阐述了化学抛光、软性磨粒流抛光的工作原理以及相互协调作用机理,对化学抛光液中各组分的抛光作用进行分析,探讨了软性磨粒流中流体的速度、磨粒的粒径与体积含量3个主要工艺参数对材料去除率的影响规律,提出固液两相流场的数值模拟、环保型化学液的配置以及理论模型的建立是3个关键技术,最后对化学辅助软性磨粒流抛光应用前景进行展望。