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991.
992.
高保真单昌金属线材的研究进展及其应用前景 总被引:11,自引:0,他引:11
单昌连铸技术是一项新型金属型材料造技术,该技术的特点是可以制造无限长的单晶导电金属线材,为高保真通讯电缆的开发提供优质导材材料,本文对该技术的国内外研究进展及其开发应用前景进行了比较全面的评述。 相似文献
993.
994.
Yee Chia Yeo Chong T.C. Ming-Fu Li Wei Jun Fan 《Quantum Electronics, IEEE Journal of》1998,34(3):526-534
The electronic band structures, density-of-states, and optical gain spectra for wurtzite GaN-AlxGa1-xN quantum wells are studied theoretically based on the Hamiltonian derived using the k.p method. We investigate the dependence of the optical gain and transparent current density on the well width, barrier height, and strain using a numerical approach with high accuracy. The mole fraction of Al in the barrier material is progressively increased to study the effects of quantum confinement and compressive strain. A higher Al mole fraction in the barrier leads to improvement of the TE optical gain and suppression of the TM optical gain. Furthermore, we demonstrate that a reduction of the well width offers improved modal gain over all radiative current densities. We also predict a transparent current density of 250 A/cm2 for the GaN-AlxGa1-x N single quantum-well (QW) structure. Our results suggest that a suitable combination of thin well width and large barrier height should be selected in improving the TE optical gain in wurtzite GaN-Alx Ga1-xN single QW 相似文献
995.
动态聚焦技术是为了满足大屏幕高分辨率彩色显像管及高分辨率彩色显示管的发展需求而产生的一项新技术。在本文中,作者首先提出了一种动态聚焦电子枪结构,进行了数值计算与分析,制作了动态聚焦电子枪并装管实验。通过对实验样管的测试与分析。证实该枪性能良好,动态聚集效果明显。 相似文献
996.
25英寸QPF动态聚焦电子枪的计算和分析 总被引:2,自引:0,他引:2
采用动态聚焦电子枪是提高CRT全屏分辨率的有效手段。本文对一种应用于25英寸彩色显像管的动态聚焦电子枪进行了设计、计算和分析,并且对实验枪进行了测试和分析。 相似文献
997.
内电极对BZN基多层陶瓷电容器显微结构的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了银钯内电极对Bi2O3-ZnO-Nb2O5(BZN)基多层陶瓷电容器(MLC)的显微结构的影响及对BZN复相陶瓷中立方焦绿石(α相)与单斜焦绿石(β相)的影响。利用扫描电镜观察晶粒的大小与形貌,利用能谱(EDX)检测不同晶粒的组成,采用波谱观察Ag迁移的情况,证明在MLC中存在Ag迁移。探讨了银钯内电极中Ag对晶粒大小及组成的影响,进一步说明其对MLC性能的影响。结果表明,内电极中的Ag破坏了β相的稳定性,有利于α相的生成,这在显微结构上表现为大晶粒比例的增大,在相组成上表现为α相比例增加,在电性能上表现为温度系数变负。 相似文献
998.
999.
Xiang Lu S. Sundar Kumar Iyer Jin Lee Brian Doyle Zhineng Fan Paul K. Chu Chenming Hu Nathan W. Cheung 《Journal of Electronic Materials》1998,27(9):1059-1066
We have demonstrated feasibility to form silicon-on-insulator (SOI) substrates using plasma immersion ion implantation (PIII)
for both separation by implantation of oxygen and ion-cut. This high throughput technique can substantially lower the high
cost of SOI substrates due to the simpler implanter design as well as ease of maintenance. For separation by plasma implantation
of oxygen wafers, secondary ion mass spectrometry analysis and cross-sectional transmission electron micrographs show continuous
buried oxide formation under a single-crystal silicon overlayer with sharp Si/SiO2 interfaces after oxygen plasma implantation and high-temperature (1300°C) annealing. Ion-cut SOI wafer fabrication technique
is implemented for the first time using PIII. The hydrogen plasma can be optimized so that only one ion species is dominant
in concentration and there are minimal effects by other residual ions on the ion-cut process. The physical mechanism of hydrogen
induced silicon surface layer cleavage has been investigated. An ideal gas law model of the microcavity internal pressure
combined with a two-dimensional finite element fracture mechanics model is used to approximate the fracture driving force
which is sufficient to overcome the silicon fracture resistance. 相似文献
1000.
Guangyou Yu Xiwu Fan Jiying Zhang Baojun Yang Dezhen Shen Xiaowei Zhao 《Journal of Electronic Materials》1998,27(9):1007-1009
Photoluminescence spectra of asymmetric double-quantum-well structure are studied in this paper. We show the excitation power
dependence of exciton tunneling. Due to the different tunneling time of electrons and holes, space-charge effect is observed. 相似文献