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应用有限单元法及MSC·MARC有限元分析程序,从实验工况和设计工况两方面分析了已使用多年的120 t/30 t/10 t×27.6 m桥式起重机主梁桥架变形及应力分布状态,该起重机的最大挠度、VONMISES等效应力、主梁的第一阶固有频率均符合设计规范,为延长其使用寿命提供了理论依据. 相似文献
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Fine Granularity Scalability (FGS) video coding has been adopted by the MPEG-4 standard for video streaming applications. In this paper, we propose a novel FGS coding scheme, which applied adaptive leaky factors for the enhancement layer prediction to further improve the coding efficiency of FGS. A flexible method that can dynamically determine the leaky factors according to the network conditions is also presented. With the proposed method, a better trade-off between the coding efficiency and drifting reduction can be achieved, and the coding performance is further improved compared with using a fixed leaky factor. Experimental results show that the proposed method can further improve the coding efficiency over a wide range of bitrate and packet loss ratio, and still keep the original characteristics, such as fine granularity, and bandwidth adaptation. 相似文献
255.
依据演进次序,从3GPP R99、3GPP R4、3GPP R5、3GPP R6和3GPP R7五个方面对TD-SCDMA系列标准进行了概括的介绍,并对各标准的主要特点和新增功能进行了概述。 相似文献
256.
本文提出了一种适合于特殊环境使用的光纤局域网的拓扑结构——类星型结构。这种结构解决了多通道的同时传输问题。此外,文中还对 OLAN 网的层次划分和各层的协议进行了分析和讨论。 相似文献
257.
介绍了“新合纤”研究开发的历史过程以及“新合纤”的特征及其加工方法,讨论了“新合纤”研究开发的现状及其未来。 相似文献
258.
Yoshio Yamashita Hideyuki Jinbo Ryuji Kawazu Takateru Asano Hiroshi Umehara 《Polymer Engineering and Science》1991,31(12):855-859
LMR-UV (“low molecular weight resist for uv lithography”), a naphthoquinone-diazide sulfonic acid ester of a novolak resin, is a negative working resist. The mechanism of insolubilization of LMR-UV is based on the facts that the naphthoquinone-diazide moiety is decomposed to indenecarboxylic acid (polar compound) by photolysis upon UV irradiation and that the irradiated resist film insolubilizes in a non-polar developer. LMR-UV reliably forms 0.6 μm lines and spaces over a reflective substrate with steps by using a g-line stepper having a 0.35 NA lens. 0.6 μm-wide aluminum patterns over topography are obtained by use of g-line exposure and reactive ion etching. By use of an i-line aligner (NA = 0.42), LMR-UV resolves 0.25 μm space patterns with overhang profiles. The profiles are due to the large absorption coefficient of 3.8 μm?1. 0.3 μm wide aluminum patterns are formed by i-line exposure and lift-off metallization. 相似文献
259.
Gao Chao 《电子科学学刊(英文版)》2005,22(5):558-563
This letter puts forward a method of modeling for the steady-state and small signal dynamic analysis on PWM, quasi-resonant and series/(parallel) resonant switching converters based on pulse-waveform integral approach. As an example, PWM and quasi-resonant converters are used to discuss the principle of the approach. The results are compared with those in the relative literatures. Computer aided analysis are made to confirm the correctness. 相似文献
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