无线通信中的空时分组码

空时分组码技术结合信道编码、调制和天线分集技术,当发送天线一定时,他的解码复杂度正比于发送速率,在3G标准中,该技术有着重要的地位。对空时分组码及相关知识进行了介绍,并对可变速率的空时分组码设计进行了探讨,最后展望了空时分组码技术的应用前景。     

基于粗糙集信息观的决策表属性约简方法

粗糙集理论是近年来发展起来的一种有效的处理不精确、不确定、含糊信息的数学理论方法，它被广泛应用于相容和不相容决策表的属性约简和核属性计算。利用反例指出目前基于粗糙集信息观[2、6]的决策表属性约简和核属性计算方法的局限性。对决策表的性质作了深入的研究，研究发现文献[2、6]方法的不足原因是：它们没有考虑U／ind（C）中等价类的相客性。给出了基于U／ind（C）中等价类相客性的属性约简定义和核属性定义，并给出了一种新的基于粗糙集信息观的决策表属性约简和核属性计算方法。讨论了该方法同文献[2、6]方法的区别。最后用相同实例验证了该方法的有效性。     

超级电容在手机电源中的应用

超级电容又称法拉电容,是指其容量为法拉级的电容。文章介绍了应用超级电容作为手机电池的总体思路并重点介绍了其充电电路、升压电路和控制电路的设计。该电池具有充电快、寿命长、免维护并且环保等特点。     

基于CB的串行口和接口板端口程序应用

串行口及接口板端口是计算机通信的主要途径 ,也是目前计算机工程测控中通用的基本方法。C Builder (简称CB)编程语言以其功能完备、开发效率高的特点而成为目前流行的程序开发工具 ,介绍了利用CB语言编写串行口和端口通信的程序的方法 ,并对具体的各方法编写了相应的示例。     

计算高温高压条件下的钻井液当量循环密度

介绍了在高温高压的井眼条件下,温度和压力对钻井液当量循环密度的影响以及由此对井底压力影响的研究结果.高温会使井眼中的流体发生膨胀,而在深井中的高压则会压缩流体.如果没有考虑到这两种相反作用的影响,就会在计算井底压力时出现较大误差.温度和压力还会影响钻井液的流变性能.开发出一个称为DDSimulator的模拟程序,用于模拟循环条件下的井眼.用宾汉塑性模型来表征所研究的钻井液的流变特性,其流变参数与温度和压力呈函数关系.在DDSimulator模拟程序中使用了Crank-Nicolson数值离散图来绘制井眼温度分布曲线.模拟结果显示,地温梯度越高,井底压力越低;钻杆入口温度对井底温度和压力无显著影响;循环速度越高,井底温度越低、井底压力越高.     

用于磁场测量的高精度500A/30V零压开关直流稳流电源

研制了一种带有无源辅助网络的全桥移相脉宽调制零压开关(FB PSPWMZVS)高精度磁铁稳流电源,并在电磁铁磁场测量中得到应用,其电流稳定度在8h内优于±1×10-4。     

从PZT体系看无铅压电陶瓷的可能应用

总结了主要以(Bi0.5Na0.5)TiO3和NaNbO3为基的无铅压电陶瓷的性能，以Pb(Ti，Zr)TiO3基二元系、三元系压电陶瓷的性能与应用为参考，分析了无铅压电陶瓷可能的器件应用。此外，还对拓宽无铅压电陶瓷应用需要改进的性能提出了建议。     

基于矢量平均的信道估计算法

提出一种适用于DS-CDMA无线通信系统的低计算量而性能良好的信道估计算法。在DS-CDMA系统中，当接收信号经过解扩或多用户检测等时域预处理后，可以认为干扰大大减弱、期望信号在处理后的信号中占主要地位。这样，用预处理后信号相关阵的最大特征值对应的特征矢量可以很好地近似期望信号的信道矢量。但是，直接特征分解需要很大的计算量，特征跟踪计算量较低，但瞬态性能较差。本文提出一种基于相关矩阵列矢量平均的信道估计算法，该算法不需要特征分解或跟踪。仿真结果表明：新算法在降低计算量的情况下可以获得同直接特征分解方法几乎相同的性能。     

实验室质量体系的建立与运行

详细论述了质量和质量体系的基本概念、建立质量体系的必要性、质量体系的构成和建立过程、质量体系文件的编制、质量体系的运行和持续改进以及中国实验室国家认可委员会的有关政策。     

Effects of surface roughness of substrates on the c-axis preferred orientation of ZnO films deposited by r.f. magnetron sputtering

The c-axis preferred orientation of ZnO film is the most important factor for its successful application in piezoelectric devices. The effects of surface roughness of the substrate on the c-axis preferred orientation of ZnO thin films, deposited by radio frequency magnetron sputtering, were investigated. During sputtering, the oxygen content in the argon environment used was varied from 0 to 70% at a total sputtering pressure of 10 mTorr. Very smooth Si, smooth evaporated Au/Si, smooth evaporated-Al/Si, and rough sputtered-Al/Si were used as substrates. Their r.m.s. roughnesses, as measured by atomic force microscopy, were 1.27, 17.1, 21.1 and 65-118 Å, respectively. The crystalline structure and the angular spread of the (0 0* 2) plane normal to the ZnO films were determined using X-ray diffraction and X-ray rocking curves, respectively. The crystallinity and the preferred c-axis orientation of the ZnO films were strongly dependent on the surface roughness of the substrates rather than on the oxygen content of the working environment or on the chemical nature of the substrate.