全文获取类型
收费全文 | 73108篇 |
免费 | 8294篇 |
国内免费 | 5978篇 |
专业分类
电工技术 | 6884篇 |
综合类 | 6872篇 |
化学工业 | 9503篇 |
金属工艺 | 4394篇 |
机械仪表 | 5351篇 |
建筑科学 | 6138篇 |
矿业工程 | 2222篇 |
能源动力 | 2100篇 |
轻工业 | 6011篇 |
水利工程 | 1928篇 |
石油天然气 | 2561篇 |
武器工业 | 1117篇 |
无线电 | 9016篇 |
一般工业技术 | 7318篇 |
冶金工业 | 2561篇 |
原子能技术 | 1351篇 |
自动化技术 | 12053篇 |
出版年
2024年 | 392篇 |
2023年 | 1043篇 |
2022年 | 2291篇 |
2021年 | 3141篇 |
2020年 | 2353篇 |
2019年 | 1795篇 |
2018年 | 1929篇 |
2017年 | 2339篇 |
2016年 | 2068篇 |
2015年 | 3255篇 |
2014年 | 4049篇 |
2013年 | 4833篇 |
2012年 | 5487篇 |
2011年 | 5900篇 |
2010年 | 5698篇 |
2009年 | 5639篇 |
2008年 | 5559篇 |
2007年 | 5294篇 |
2006年 | 4783篇 |
2005年 | 4027篇 |
2004年 | 2944篇 |
2003年 | 2403篇 |
2002年 | 2432篇 |
2001年 | 2210篇 |
2000年 | 1693篇 |
1999年 | 955篇 |
1998年 | 535篇 |
1997年 | 438篇 |
1996年 | 388篇 |
1995年 | 308篇 |
1994年 | 237篇 |
1993年 | 219篇 |
1992年 | 172篇 |
1991年 | 103篇 |
1990年 | 108篇 |
1989年 | 73篇 |
1988年 | 62篇 |
1987年 | 37篇 |
1986年 | 40篇 |
1985年 | 28篇 |
1984年 | 11篇 |
1983年 | 12篇 |
1982年 | 19篇 |
1981年 | 14篇 |
1980年 | 11篇 |
1979年 | 8篇 |
1976年 | 6篇 |
1962年 | 4篇 |
1959年 | 16篇 |
1951年 | 8篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
液闪效率示踪法校正效果的评价 总被引:1,自引:0,他引:1
本文评价了Aloka商品液闪仪效率示踪法dpm校正的效果。轻,中度猝灭校正效果理想,具有简便、实用和适用性广泛的特点。严重化学和颜色猝灭样品的校正结果分别随猝灭增加而向增大和减小的方向偏离,形成喇叭状曲线,文中对这一现象给出初步解释。 相似文献
72.
73.
从控制PVC异型材挤出机的工艺参数的角度,分析并论述了挤出机工艺参数对PVC异型材低温落锤性能的影响。 相似文献
74.
内循环好氧三相流化床处理造纸中段废水 总被引:6,自引:0,他引:6
本实验采用内循环好氧三相流化床处造纸中段废水,经过一段时间的驯化,获得了稳定的出水。CDO去除经保持在65%以上,系统对进水污染负荷的变化具有较大的承受能力。出水Cl^-的浓度有所增加,说明驯化后的微生物可能对有抽氯化物具有一定的降解作用。水气比在1/120至1/140之间可获得最好的COD去除效果。后进行絮凝处理后,出水COD降为60-80mg/L,BODo 50-60/L,色度为100-150CU,挥发性酚的质量浓度小于0.0265mg/L。 相似文献
75.
基于体全息技术的WDM器件 总被引:2,自引:0,他引:2
利用体全息技术制作波分复用器件是一种新方法。本文介绍了此种方法的基本原理和器件的基本性能,并报道了国外对该项技术的研究进展。 相似文献
76.
Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光,在50kV加速电压下,其曝光剂量为50-100μC/cm^2,曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍,分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT:一种用Ⅰ线光致抗蚀剂,对源、漏及栅全部都采用电子束曝光,制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT;另一种将源、漏及栅分割成两部分,其中精细部分由电子束曝光,其余部分由光学系统曝光,用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ 相似文献
77.
78.
基于充放电原理实现的微电容测量电路 总被引:1,自引:0,他引:1
具有抗分布电容以及简单实用等特性的充放电电路是目前微电容测量中广泛采用的一种测量电路。本文对基于充放电原理的微电容测量电路进行了深入研究,并介绍一种基于充放电原理的实用电路。 相似文献
79.
含氯取代基的聚间苯二甲酰间苯二胺的合成与表征 总被引:7,自引:0,他引:7
以 2 ,5 -二氯对苯二甲酰氯作为第三单体 ,将其与间苯二甲酰氯、间苯二胺在N ,N -二甲基乙酰胺中进行低温溶液共缩聚反应 ,合成了含氯取代基的聚间苯二甲酰间苯二胺。研究了单体摩尔浓度、反应初始温度、叔胺添加剂种类、第三单体用量等对共聚物相对分子质量的影响 ,并用红外光谱、热重分析等方法对共聚物进行了表征。 相似文献
80.