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锇在磷酸体系抛光液中化学机械抛光研究 总被引：1，自引：0，他引：1
(锇有可能作为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料。)利用自制的抛光液对金属锇片进行抛光,研究在双氧水-磷酸体系抛光液中H2O2浓度和抛光液pH值对抛光速率的影响。结果表明,当抛光液中主要成分仅为氧化剂H2O2时,并不能在金属锇表面达到好的腐蚀效果。在磷酸体系抛光液中,H2O2能够通过促进阴极反应的进行从而增强抛光液对金属锇的化学作用;低浓度H2O2通过增强抛光液对金属锇的化学腐蚀能力,从而增加了抛光速率值;较高浓度H2O2的加入对抛光速率值影响较小。H3PO4能够在抛光液中起到抑制剂、pH调节剂和络合剂的作用。当抛光液pH值为4.0时,金属锇表面生成的钝化膜最致密。当pH值为4.0或5.0时,金属锇表面生成的钝化膜OCP值大于金属锇的OCP值,且此条件下的抛光速率值较高。 相似文献
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硅烷偶联剂在涂料与涂装中的应用进展 总被引：2，自引：0，他引：2
综述了硅烷偶联剂的主要类型、结构特征与作用机理及硅烷偶联剂在涂料制备中纳米颗粒改性与涂料功能改进的研究进展;在涂装前处理中经硅烷溶液封闭的氧化或磷化工件抗蚀性提高,避免铬酸盐钝化而带来的涂层附着力较差和环境污染问题;讨论了硅烷偶联剂的发展方向。 相似文献