由膨润土酸解渣制取水玻璃的试验研究

作者在用Ｘ－射线衍射法对膨润土酸解渣进行了分析的基础上，探讨了用它制取水玻璃的可行性，结果表明，酸解渣中的主要成份为活性ＳｉＯ２，易与碱溶液反应；碱浸液中加入少一水玻璃，可使酸解渣中活性ＳｉＯ２的浸出速率及浸出率有明显提高，在最佳工艺条件下，在活性ＳｉＯ２的浸出率在９７％以上，制得的水玻璃质量符合国家标准。     

CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料的制备及其对蓝宝石抛光性能的影响

以硅溶胶为原料,通过化学沉淀法对硅溶胶进行铈锆改性,制备出抛光用单分散的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料.考察了不同铈锆掺杂量的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片抛光性能的影响,研究了CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片的抛光机理.通过透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)-能谱仪(EDS)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)对样品的组成、形貌等进行表征.以所制备的复合磨料对蓝宝石晶片进行抛光,利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度.结果表明:CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料中最佳的铈锆掺杂量为:铈掺杂量为1.5wt％,锆掺杂量为1.0wt％,材料去除速率可以达到36.1 nm/min,表面粗糙度可以达到0.512 nm,而相同条件下纯硅溶胶抛光后的蓝宝石表面粗糙度为1.59 nm,材料去除速率为18.4 nm/min,该复合磨料表现出较好的抛光性能.     

蛇纹石硫酸浸出过程动力学研究

首先确定了蛇纹石硫酸浸出过程中影响浸出速率的主要因素,以此为条件,对蛇纹石中MgO的浸出速率进行了研究。结果表明：MgO的浸出动力学能适用容积反应模型,其浸出速率可表示为样品中残留MgO量的二级反应,其表观活化能约为93.20kJ/mol,属化学反应控制。     

膨润土酸解渣碱浸滤液脱色试验研究

研究了用双氧水脱膨润土酸解潭碱浸滤波颜色的方法，实验结果表明，在最佳工艺条件下，脱色率达８６％以上，制得的产品水玻璃的外观符合国标要求。     

火焰原子吸收法测定铜电解液中砷和铋

铜电解液中砷、锑、铋含量过高时,电解池中阳极(粗铜)的残极率上升,同时阴极板(精铜)表面起瘤,从而造成精铜纯度下降.特别是当锑、铋含量过高时,更为明显.因此,必须设法降低钢电解液中砷、锑、铋的含量,故需要建立简便、快速、准确的测定方法.目前,有关微量砷、锑、铋的测定方法已有不少报道,其中以氢化物发生原子吸收法居多.由于本研究中的待测样品组成较复杂,共存的干扰物较多,且待测元素砷和铋的浓度较高,因此,氢化物发生原子吸收法测定砷和铋就有许多不便之处.鉴此,本文探讨了在共存干扰物存在下,用空气——乙炔火焰     

蛇纹石酸浸提镍过程动力学研究

研究了在蛇纹石硫酸浸出镍过程中,浸出剂初始浓度、搅拌速度、矿石粒径和浸出温度对镍浸出率的影响,并对浸出过程动力学进行了分析.结果表明:浸出剂初始浓度、浸出温度和矿石粒径对镍浸出率有显著影响,搅拌速度对镍浸出率影响不大.硫酸浸镍过程符合关系式1-(1-η)1/3=kt,反应频率因子为190.56,表观活化能为48.79 kJ/mol,浸出过程受化学反应控制.     

利用蛇纹石提镁残渣制备五水偏硅酸钠的研究

研究了由蛇纹石提镁残渣制备五水偏硅酸钠的方法, 分析了制备过程中的各种影响因素, 用实验确定了主要工序的最佳工艺条件。结果表明, 该方法具有制备工艺温和, 调模结晶过程无需蒸发浓缩, 能耗低等特点, 采用此法制得的五水偏硅酸钠质量符合化工行业标准。     

PP/PP-g-GMA-St/MMT纳米复合材料的制备与表征

以十六烷基三甲基溴化铵处理钙基蒙脱土得到有机蒙脱土。采用反应挤出对极性很弱的PP进行接枝改性,得到接枝物PP-g-GMA-St,GMA的接枝率为0.7%。然后将其作为聚丙烯和有机蒙脱土的相容剂,熔融共混后得到分散效果良好的纳米复合材料。用FT-IR对接枝物进行了验证;并用XRD,TEM对复合体系的插层效果进行了分析和表征。     

CWPO中催化剂的应用研究现状及趋势

催化湿式过氧化氢氧化技术是一种专门针对高浓度难降解有机废水的处理技术.本文对该技术中使用的催化剂进行了分类评述,其中详细讨论了非均相催化剂的研究状况,并展望了其今后的发展方向.     

α-Al2O3纳米粒子抛光浆料稳定性及其对蓝宝石抛光性能的影响

目的制备分散稳定性良好的α-Al2O3纳米粒子抛光浆料,提高对蓝宝石的化学机械抛光性能。方法将α-Al2O3分散在硅溶胶、氧化铈溶胶、水等不同分散介质中,于不同pH值、不同硅溶胶浓度及硅溶胶粒径等条件下制备出α-Al2O3纳米粒子的抛光浆料,考察抛光浆料的稳定性及抛光浆料对蓝宝石化学机械抛光性能的影响。采用Zeta电位仪测量抛光浆料中α-Al2O3的电势,进而对其分散稳定性进行分析。采用原子力显微镜(AFM)和分析天平分别对蓝宝石表面粗糙度(Ra)和材料去除速率(MRR)进行评价。结果分散介质为硅溶胶时,抛光浆料的稳定性及对蓝宝石的抛光性能较好。当抛光浆料pH值为10时,其分散稳定性较好,且化学腐蚀与机械研磨达到动态平衡,抛光浆料对蓝宝石的抛光性能较好。随着α-Al2O3浓度的增大,浆料的抛光性能呈现先增加后降低的趋势,当α-Al2O3的质量分数为10.0%时,抛光浆料对蓝宝石的抛光性能较好。当硅溶胶的质量分数为0.02%时,抛光浆料的分散稳定性及对蓝宝石的抛光性能较好。随着硅溶胶粒径的增加,抛光浆料的稳定性及对蓝宝石的抛光性能逐渐变差,所以选择最小粒径5 nm的硅溶胶作分散介质。即在10.0%的α-Al2O3、0.02%粒径为5 nm的硅溶胶、pH值为10等条件下的抛光浆料稳定性较好,该浆料对蓝宝石抛光的材料去除速率为15.16 nm/min,抛光后的表面粗糙度为0.272 nm,满足蓝宝石后续外延工艺要求。结论适宜浓度的硅溶胶能明显改善α-Al2O3抛光浆料的分散稳定性,分散效果明显优于水或氧化铈溶胶作分散介质,且对蓝宝石的抛光性能得到显著提高。