3D打印一体式多孔功能材料研究进展

3D打印(增材制造)是一种通过计算机控制制造出被打印对象的成长型加工方式,借助3D打印技术将分子筛等传统多孔材料加工为整体式多孔功能材料,可突破传统制备方法局限,获得实用性更强、性能更优、用途更广的功能材料.综述了基于3D打印技术制备一体式多孔功能材料(3D-PFM)的研究进展,具体阐述了3D-PFM的制备方法,包括3...     

石化污染场地地下水修复治理挑战与对策

实现污染场地安全高效修复是石化行业发展急需探讨和解决的关键问题.从特征污染物特点、水文地质条件、修复环境效应3个方面分析石化污染场地修复面临的挑战,预测未来石化污染场地地下水修复技术,并提出按照污染程度进行分区修复治理的对策.分析表明,石化污染场地中非水相污染物(NAPL)的疏水性、复合污染物的迁移特征差异、地层的非均...     

电子束直写邻近效应校正技术

通过蒙特卡罗模拟方法研究电子散射过程,探讨邻近效应产生机理并寻求有效的邻近效应校正途径.实验结果表明:邻近效应现象是一种综合效应,可以通过优化工艺条件有效地抑制邻近效应的影响,使邻近效应校正达到预期的效果.     

纳米级精细线条图形的微细加工

对分辨率极高的电子束光刻技术和高选择比、高各向异性度的ICP刻蚀技术进行了研究,形成一套以负性化学放大胶SAL-601为电子抗蚀剂的电子束光刻及ICP刻蚀的优化工艺参数,并利用这些优化参数结合电子束邻近效应校正等技术制备出剖面形貌较为清晰的30nm精细线条图形.     

纳米级精细线条图形的微细加工

对分辨率极高的电子束光刻技术和高选择比、高各向异性度的ICP刻蚀技术进行了研究,形成一套以负性化学放大胶SAL-601为电子抗蚀剂的电子束光刻及ICP刻蚀的优化工艺参数,并利用这些优化参数结合电子束邻近效应校正等技术制备出剖面形貌较为清晰的30nm精细线条图形.     

电子束直写邻近效应校正技术

通过蒙特卡罗模拟方法研究电子散射过程,探讨邻近效应产生机理并寻求有效的邻近效应校正途径.实验结果表明:邻近效应现象是一种综合效应,可以通过优化工艺条件有效地抑制邻近效应的影响,使邻近效应校正达到预期的效果.     

电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用

电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用。介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOLJBX5000LS、JBX6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电子束直写系统所开展的纳米器件和纳米结构制造工艺技术方面的研究。重点阐述了如何利用电子束直写技术实现纳米器件和纳米结构的电子束光刻。针对电子束光刻效率低和电子束光刻邻近效应等问题所采取的措施;采用无宽度线曝光技术和高分辨率、高反差、低灵敏度电子抗蚀剂相结合实现电子束纳米尺度光刻以及采用电子束光刻与X射线曝光相结合的技术实现高高宽比的纳米尺度结构的加工等具体工艺技术问题展开讨论。     

应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究

为了满足电子束光刻（EBL）对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子能量50 keV、束流50 pA的条件下,Calixarene可以方便地形成50 nm的单线、50nm等线宽与间距的图形结构.通过与常用电子束抗蚀剂的对比,总结了Calixarene在电子束光刻性能上的优缺点,并分析了其成因.作为一种新型的高分辨率电子束光刻抗蚀剂,Calixarene有望应用在纳米结构制造、纳米尺寸器件及电路的研制等领域.     

计量测试软件的系统管理

中原特殊钢厂拥有国内最大的一条精密锻造生产线．该生产线集炼钢、锻造、机槭加工、热处理于一体．生产线上的各种计量测试系统为生产提供准确的工艺参数。作为这些测试系统的管理者——计量部门，在计量测试软件的管理和使用中．作了一些有益的尝试。     

电除尘器本体结构的优化设计

根据电除尘器本体结构的特点 ,采用混合单元的办法对本体结构进行了有限元分析 ,在此基础上 ,采用约束变尺度法对电除尘器本体结构进行了结构优化。用 FORTRAN语言编制了本体结构优化设计程序 ,具有较强的功能和通用性