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91.
通过测定和用矩量分析法分析吸附柱的脉冲应答曲线,取得了间二甲苯在改性的 KY 分子筛吸附柱内的固液相传递系数和吸附系数。此法简单实用,所得的吸附平衡常数准确度较高。 相似文献
92.
针对基于数码印花技术的软家装产业服务平台在推广实施时遇到的困难,进行了面向家纺企业个性化核心定制系统ASP开发支持平台的研究.提出了该系统ASP开发支持平台的总体框架,设计了平台的系列功能模块,论述了平台开发的技术要点,并在多个家纺企业进行了应用. 相似文献
93.
研究了光伏型HgCdTe中波探测器的暗电流与烘烤时间的关系特性.编写了一种适用于n-on-p型的中波HgCdTe红外探测器的解析拟合程序.结合暗电流的主导机制有扩散机制、产生复合机制、带间直接隧穿机制和陷阱辅助隧穿机制.通过对样品不同烘烤时间的R-V曲线的解析拟合,得到了它们的暗电流成分,提取了6个特征参数.通过对比不同烘烤时间特征参数的变化,分析了烘烤对器件的影响. 相似文献
94.
本研究采用半连续热参数泵吸附分离果糖—葡萄糖混合溶液。实验证明,该技术能用简单设备获得连续有效的分离。当循环次数到达一定程度后,出现极限分离状态。回流比、进料浓度、周期循环时间均对半连续热参数泵分离效果产生影响。本文建立包括传质阻力在内的半连续热参数泵分离模型,并用特征线法进行求解,算法简单、快速。通过引入传质系数修正因子,该模型能很好地与不同工况下的实验数据相一致。 相似文献
95.
高性能碲镉汞红外探测器需要生长高质量的外延层。由于与碲镉汞具有完美的晶格匹配,体碲锌镉被认为是理想衬底。晶体材料在亚晶界缺失、位错密度、均匀锌分布和低微缺陷密度等方面实现非常高的性能,对于获得优异的图像质量至关重要。法国Sofradir公司利用自己生长的碲锌镉晶体作为衬底,以控制碲镉汞外延层的质量,从而实现高性能成像。实际上,通过掌握从原材料到焦平面阵列的整个制造链以及所有前端和后端步骤,可以改进整个制作流程。介绍了如何将最新的工艺改进转化为探测器图像质量和可靠性的提高,其重点是前端工艺(衬底和外延层)。首次展示了衬底微缺陷与焦平面阵列(Focal Plane Array, FPA)图像质量之间的相关性。这得益于Sofradir公司和法国CEA-LETI研究中心之间的通力合作。对每个工艺步骤进行了大量表征(例如用于衬底检查的红外显微镜观察、位错的化学显示以及外延层的X射线双晶摇摆曲线衍射),由此完成了这种工艺的整体优化。在有效像元率和过噪声方面对图像质量进行了检测。最后,除了改进流程之外,了解每个关键步骤如何影响后续步骤并转化为最终图像质量,实现在正确的流程步骤中对单元进行划分,从而保证产量及产品质量。在中波红外和短波红外技术上,Sofradir垂直整合模型的这些优点得到了体现。 相似文献
96.
硫化锌薄膜的原子层沉积生长及表征 总被引:1,自引:0,他引:1
为满足硫化锌(ZnS)薄膜在光学薄膜领域进一步应用的要求,基于原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)技术在130℃温度下以二乙基锌(DEZ)和硫化氢(H2S)为反应源,在砷化镓(GaAs)衬底表面沉积了ZnS薄膜。用扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM)分析了样品的表面形貌和膜界面特性,用X射线衍射仪(X-ray Diffraction, XRD)分析了薄膜的结构特性,并通过X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)分析了薄膜的化学成分。研究了厚度对薄膜结构和形貌的影响。结果表明,得到的ZnS薄膜为多晶结构,薄膜的厚度随循环数线性增加,速率为1.45 ?/cycle。对在75℃温度下烘烤48 h后的薄膜进行了XPS分析,得出的Zn/S比为1.07:1,表明烘烤除去了薄膜中残存的H2S。以较短生长时间得到的较薄的薄膜具有更好的表面平整度和更致密的结构。 相似文献
97.
赝二元体系碲镉汞(Mercury Cadmium Telluride, HgxCd1-xTe)材料具有优异的光电特性,是制备高灵敏度红外探测器的最重要材料之一。为了获得性能优异的HgxCd1-xTe探测器及其组件,目前已经发展了各种HgxCd1-xTe材料制备技术和器件制作工艺。但在各种材料制备及器件应用过程中,HgxCd1-xTe表面均会受到环境和不良表面效应的影响,所以需要采用先进的钝化工艺对其表面电荷态进行处理,改善材料表面的电学物理特性,从而实现器件探测性能的提升。因此,HgxCd1-xTe薄膜表面钝化工艺对HgxCd1-xTe红外探测器的性能提升至关重要。总结和分析了近年来碲镉汞薄膜表面钝化层的生长方法。按照本源钝化和非本源钝化进行了分类总结和综述,分析了不同钝化方法的优缺点,并对未来碲镉汞薄膜钝化工艺进行了展望。 相似文献
98.
99.
报道了HgCdTe p^ -on-o长波异质结焦平面器件的研究结果.采用由分子柬外延(MBE)和原位掺杂技术生长的P^ -on-n异质结材料,通过湿法腐蚀、台面钝化、台面金属化、铟柱制备和互连等工艺,得到了HgCdTe p^ -on-o长波异质结焦平面器件.根据,I-V实验结果和暗电流理论,拟合计算和分析了各种暗电流机制对器件性能的影响.且获得了器件的响应光谱和探测率。 相似文献
100.