基于RIA技术的课程学习效果评估平台的研发

通过用RIA技术构建的新型学习效果评估平台，构建一个界面亲切、内容丰富生动网络学习评估体系，对学习情况给予分析与跟踪，改变传统的网络教学评估方式，达到对学习过程和结果进行激励及评估的目标。     

Accumulation of REEs in Field Wheat and Comparison between Two Kinds of REEs Dressing Methods

Ｉｎｔｈｅｐａｓｔｙｅａｒｓ ,ｍｏｓｔｏｆｔｈｅａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｏｆＲＥＥｓｉｎａｇｒｉｃｕｌｔｕｒｅｗｅｒｅｂａｓｅｄｏｎｆｏｌｉａｇｅｄｒｅｓｓｉｎｇ .Ｒｅｃｅｎｔｌｙ ,ＲＥＥｓｗｉｔｈｏｔｈｅｒｆｅｒｔｉｌｉｚｅｒｓａｒｅｄｒｅｓｓｅｄｉｎｔｏｓｏｉｌｄｉｒｅｃｔｌｙａｓｂａｓｉｃｆｅｒｔｉｌｉｚｅｒ .ＧｅｎｅｒａｌｌｙｓｏｉｌｄｒｅｓｓｉｎｇａｍｏｕｎｔｏｆＲＥＥｓｉｓｔｅｎｔｉｍｅｓｈｉｇｈｅｒｔｈａｎｆｏｌｉａｇｅｄｒｅｓｓｉｎｇａｍｏｕｎｔ .Ｒｅ ｓｅａｒｃｈｅｓｄｅａｌｉ…     

背照式ZnO紫外焦平面成像阵列制作的刻蚀研究

研究了背照式ZnO焦平面成像阵列制作的刻蚀工艺. 该ZnO焦平面阵列为128×128阵列,每个单元面积为25μm×25μm,对该阵列的刻蚀结果进行了研究分析. 刻蚀后阵列单元的剖面角约为80°. 在刻蚀过程中,刻蚀深度和刻蚀时间呈线性关系. 还研究了NH4Cl溶液浓度和刻蚀速率之间的关系. 时刻蚀后的阵列单元进行了光电响应的测试,得到明暗电流比约为60∶1.     

900℃空气退火对L-MBE生长的ZnO薄膜发光特性的影响

采用激光分子束外延法在蓝宝石衬底(0001)上生长了高度c轴择优取向的高质量ZnO薄膜,在空气中对生长的薄膜进行900℃退火处理,并对退火前后样品的结晶质量、发光特性采用X射线衍射(XRD)、变温光致发光(PL)研究.退火处理后的ZnO薄膜(0002)面XRDθ-2θ扫描曲线强度明显增强.在光致发光实验中,观测到薄膜分别在3.352,3.309和3.237eV附近有3个明显的近紫外发光峰,分别对应自由激子发射、中性施主或受主束缚激子I9及其声子伴线1Lo.随着温度升高,峰位逐渐向长波方向移动(即所谓"红移"),半高宽(FWHM)逐渐展宽;在发光谱中,来自于晶体缺陷的深能级(DL)区发光强度极小.     

94—1型失真仪检定装置

本文介绍用标准失真系数合成器（专利器件）与现成仪表进行组合构成的失真仪检定装置。它可用于校准基波５Ｈｚ￣２００ｋＨｚ，谐波１０Ｈｚ￣１ＭＨｚ（谐波频率ｆｎ＝ｎｆ１，ｎ＝２￣１０次），失真系数０．００３％￣１００％范围失真度测量仪的示值引用误差。     

用贝塞尔函数零值法检测载频30～500kHz调频电力线载波机

调频电力线载波机是广泛用于冶金、电力、矿山、石油等部分的通讯设备。它的通话质量取决于调频器的频偏量值与其具体工作特性。对于调频在本振频率大于5MHz以上进行调频的载波机,频偏量值可直接用已有的±3％误     

基于显著区域和pLSA的图像检索方法

由于利用全局特征的图像检索方法在很大程度上受到背景的影响,提出了一种基于显著区域和pLSA相结合的图像检索方法。该方法首先通过谱残差和多分辨率分析提取图像的显著目标区域,其次计算所有图像显著区域的颜色和纹理特征并利用K-均值聚类生成视觉词汇表,然后将每幅图像表示成若干视觉词汇的集合。最后利用概率潜在语义分析（pLSA）来提取区域潜在语义特征,并使用该特征构建SVM分类器模型进行图像检索。将本方法和基于全局特征的图像检索方法比较,实验结果表明,基于显著区域的图像检索结果更加准确。     

氧化物半导体薄膜晶体管的研究进展

简要说明了非晶硅、多晶硅和有机半导体用作薄膜晶体管沟道层的不足,从电学性质、光学性质和制备温度等几方面介绍了氧化物薄膜晶体管在有源阵列驱动显示技术中的优势,并介绍了氧化物沟道层制备工艺的优化和掺杂方法.最后,展望了氧化物半导体薄膜晶体管应用前景.     

变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真

为了提高刻蚀的均匀性, 对400mm反应离子刻蚀(RIE)腔室建立了气体流动的连续流体模型和热传递模型, 研究了反应腔室内压强、流速和温度分布。冷却板恒温285K时, 依次改变入口流量和出口压强, 分别分析了腔室内部基片晶圆附近的流速、压强、温度的分布; 依次改变极板间距离(30mm~60mm)、进气口直径(300mm~620mm)、抽气口直径(50mm~250mm), 分析了反应腔室内气流和温度分布。结果表明, 压强分布呈现出边缘低中心高的特征, 流速呈现边缘高且中心低的特征, 且在小流量时压强的均匀性较好; 压强分布的均匀性随腔室极板间距离增加而有所提高, 且随腔室气体出口面积减小与进口面积增加也有所提高; 基片晶圆上方附近处温度场大面均匀、稳定, 几乎不受入口流量波动变化的影响, 热稳定性良好。该研究对大口径RIE腔室结构设计改进及对大口径反应离子刻蚀工艺控制具有重要意义。     

海洋平台安全管理标准化建设

本文从标准化和安全化入手,探索寻找二者的有机融合点,推行海洋平台安全管理标准化建设,以降低安全事故和资源浪费,取得最佳经济效益和社会效益。