面向家庭的远程门禁控制系统

针对家庭门禁系统,提出了一种利用STM32单片机的物联网门禁系统解决方案,该方案使用W5200网络芯片,利用其硬件协议栈降低了软件复杂度,提高了网络通信可靠性,增强了门禁系统安全性。通过STM32实现了良好的人机交互界面,增加了操作的便捷性。控制接口预留,方便系统升级。     

三个简单区域间的拓扑关系的表示模型

空间拓扑关系的研究多数集中在两个区域间的拓扑关系上,对两个以上区域间拓扑关系的研究则很少。本文通过扩展4-交集矩阵得到8-交集模型,对三个简单区域间空间关系进行表示,并给出了三个简单区域间的109种拓扑关系图。与分别表示出三个简单区域间两两拓扑关系的4-交集矩阵方法相比,本文提出的8-交集矩阵表示法能直接对三个简单区域间的拓扑关系进行表示,且新增了56种基本关系,表达力更强。证明了8-交集模型中基本关系的完备性和互斥性,给出算法并通过程序验证了三个简单区域间至多有109种可实现的拓扑关系,并给出了109种三元拓扑关系的概念领域图。     

沟槽对O形圈密封结构性能的影响

建立了O形圈密封结构的分析模型,研究了安装于不同密封沟槽中O形圈的接触应力及Von Mises应力与密封流体压力之间的关系,确定了不同密封沟槽形式应用的合适范围,为同类密封结构设计提供了一定参考.     

纳米级微间距的多波长干涉测量方法

多波长干涉测量法适用于纳米级微间距的实时动态非接触测量.纳米级间隙之间的空气形成一层具有光学特性的空气薄膜.该空气薄膜的光强反射率是关于入射光波长和薄膜厚度的函数.在多波长干涉法中,以包含多种波长的复合入射光照射薄膜,入射光被空气薄膜分成2部分,一部分穿过薄膜,另一部分则被反射回来.利用一种特殊的方法测得该薄膜的光强反射率,进而根据薄膜厚度与入射光波长和相应的光强反射率之间的函数关系建立方程组.通过对方程组求解,计算出薄膜的厚度.多波长干涉测量法能够避免移相干涉法中移相器所带来的误差,并且可根据不同波长的光波测出的结果相互校正,提高了测量精度.通过实验对多波长干涉测量法进行了验证,实验结果充分证明了系统设计及理论依据的正确性.     

浅谈数学分析课程教学改革

根据最近几年的数学分析课程教学经验和总结,对数学分析教学过程中存在的有关教学方法、师资力量和学生自身的问题进行剖析,然后根据实际存在的问题,提出具有建设性的十大改革意见并且提出可行的方法,从而更好地在课程中去应用和实践。     

企业多出口网络路由及流量负载均衡研究

随着企业慢慢不断发展壮大,互联网出口越来越多,每个新增出口都有一台防火墙设备单独和运营商连接,这种情况加大了网络维护工作量。如果有一个出口出现设备或者链路故障,相应出口的业务会受到影响导致中断,如果想尽快恢复临时调整到其它出口,会增加网络维护的工作量并导致其它出口流量拥塞。由于希望任何出口出问题时不会影响到该出口所涉及业务的正常使用,并减少网络维护的工作量和出口设备数量,因此需要对内部网络做出口网络路由和负载均衡改造。     

旋流器固-液分离的数值模拟

为研究旋流器固-液分离性能,采用欧拉模型与离散相模型相结合的方法,对旋流器内部流场特征和分离效率进行数值计算。结果表明:砂粒粒径大于10 μm时主要分布在外旋流场;入口流量为9 m³/h时,旋流器的分离效率最大;砂粒粒径>30 μm时,旋流器分离效率趋近于100%,粒径为40 μm时分离效率达到最大为97.5%;砂粒浓度由1 g/m³增至8 g/m³时,粒径为10 μm的砂粒分离效率增加了9.7%,砂粒浓度为10 g/m³时,旋流器分离效率下降。通过数值计算得到了旋流器的最优工况。     

铜离子交换的13X分子筛脱除硫醇的特性研究

采用离子交换法制备了一系列铜离子改性的13X分子筛吸附剂,在一定温度下焙烧后,在静态反应装置和动态工业模拟装置上考察吸附剂对硫醇的吸附效果。实验结果表明：在Cu抖浓度为0．2mol／L,焙烧温度为500℃,吸附温度20℃的条件下,改性的13X分子筛的硫容达到16．18％。吸附剂的最佳再生温度为300℃,硫容能恢复到原来的78．2％。采用红外光谱法（IR）和比表面积测定法（BET）对吸附剂的脱硫机理进行了研究。红外分析表明,Cu2＋和丙硫醇分子以π键形式结合;BET研究表明,通过Cu2＋离子交换后吸附剂的孔径和孔容都有所增加。     

垂直平板电极电化学除垢的气-液流动研究

为研究电化学除垢方法中垂直平板电极反应器的气-液流动特性及其对除垢的影响规律，利用粒子图像测速技术分别研究了电解电压和溶液硬度的变化对垂直平板电极间流场的影响。实验结果表明:垂直平板电极间的流动主要分为气泡上浮推动溶液流动形成的气泡驱动对流和电极周围的高空隙率引起溶液向电极流动的自然对流。在0~30 V的电压下产生的气泡驱动对流的速度不超过0.01 m/s，自然对流的最大速度不超过0.001 5 m/s。流场内溶液对流主要受气泡运动的影响，适当增大电极板产生的气泡量可以强化气泡驱动对流，但过量的气泡聚集在极板周围会减弱气泡驱动对流强度，增大溶液电阻，不利于污垢从溶液中分离。这对于探索反应器中的气-液两相流行为以及优化电化学除垢方法有重要意义。