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51.
52.
电解铝微耗阳极的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了一种碳化物金属的微耗阳极的制备方法,并研究了该微耗阳极在冰晶石电解质中的抗腐蚀性,在电流20 A左右,摩尔比为2.5的电解质中进行了长时间的电解.结果表明,电解后产生的铝的质量比较高,阳极的抗腐蚀性较好,腐蚀速率为49.0mm/a. 相似文献
53.
Cu-Pb合金粉末的制备 总被引:1,自引:0,他引:1
针对Cu-Pb合金材料存在不能互溶和成分偏析的问题.通过改善铜铅合金粉末熔炼时所加的添加剂和加强熔炼合金的搅拌,获得了具有均匀致密微观组织的铜铅合金粉末.铜铅合金粉末具有耐磨和耐高温性能,可用于汽车工业中轴瓦制造. 相似文献
54.
55.
A metal-insulator-silicon (MIS) capacitor with hemi-spherical grained poly atomic layer deposition (ALD) deposited Al2O3 and multi-layered chemical vapor deposition (CVD) TiN structure is fabricated. The impact of the deposition process and post treatment condition on the MIS capacitor's time-dependent dielectric breakdown (TDDB) performance is also studied. With an optimized process, it is confirmed by Auger electron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry analysis that the Al(CH3)3/O3-based ALD Al2O3 dielectric film is carbon free and the hydrogen content is as low as 9 × 1019 cm-3. The top electrode TiN is obtained by multi-layered TiCl4/NH3 CVD deposited TiN followed by 120 s post NH3 treatment after each layer. This has higher diffusion barrier in preventing impurity diffusion through TiN into the Al2O3 dielectric due to its smaller grain size. As shown in energy dispersive X-ray analysis, there is no chlorine residue in the MIS capacitor structure. The leakage current of the capacitor is lower than 1 × 10-12 A/cm2. No early failures under stress conditions are found in its TDDB test. The novel MIS capacitor is proven to have excellent reliability for advanced DRAM technology. 相似文献
56.
57.
协庄煤矿回采四区 32 16W2 工作面发生一起局部冒顶事故 ,通过摸清造成事故的原因和顶板来压的规律 ,制定了针对性防治措施 ,在以后的生产中避免了类似事故的发生。 相似文献
58.
59.
ADSL技术是XDSL技术中最热门的技术,本文介绍的ADSL技术及其在校园宿舍接入网中的应用,表明和现在使用的56K的Modem相比,ADSL的技术优势是不言而喻的。 相似文献
60.
基于HomePNA技术的社区组网模式 总被引:1,自引:0,他引:1
阐述了HomePNA技术和特点,提出一种基于HomePNA技术的社区组网模式。 相似文献