一种辊筒式振幅无级调节振动台设计

目前,国内外主要采用振动加工的方式来解决难加工材料的孔加工问题。本文设计了一种辊筒式振幅无级调节振动台,主要包括工作台、调幅套筒、无级调幅操纵装置、驱动机构等。介绍了该装置的振动及无级调幅原理,并改进调幅方法,提高振幅调整精度,满足不同工作环境对振幅的需求,使其更具通用性。     

SiC/GFRP复合装甲超声辅助制孔技术研究

针对新型轻质陶瓷材料为核心的高性能复合装甲在常规加工过程中质量差等问题,对SiC/GFRP复合装甲进行超声振动辅助制孔加工技术研究,通过改变机床主轴转速、进给速度等加工工艺参数,探究钻削力的变化。结果表明：提高主轴转速或降低进给速度,可有效减小钻削轴向力;超声振动辅助提高了制孔表面完整性,能显著改善制孔质量。     

浅水地基综合楼基坑支护设计

以某综合楼基坑支护设计工程为例,基于浅水地基的地质条件,设计了基坑降水方案,分析了多种基坑方案的优缺点,计算了土层压力并以此为依据选定基坑围护及支护方案,以期为相似工程提供设计借鉴。     

工程陶瓷的磨削钻孔及表面形成机理

结合工程陶瓷的加工特性,采用特定组份的铜基结合剂烧结金刚石钻头对其进行孔加工试验研究.结合剂体积分数为48%Cu、30%Co、6%Ni、5%WC、5%Ti、4%Sn、2%Cr.根据烧结金刚石钻头的磨削加工特点,导出了唇面单颗金刚石磨粒的平均载荷的计算公式;在此基础上,结合陶瓷磨削表面的扫描电镜观察,分析了金刚石钻头磨削钻孔的陶瓷材料去除机理.结果表明,在试验条件下,陶瓷材料虽然以脆性断裂去除为主,但也有部分材料发生塑性变形去除.     

菱形压电电机在并联精密定位平台中的应用

为了解决传统压电陶瓷驱动器固有的高精度与大行程的矛盾,提出了利用非共振式压电电机的两种不同运动模式来实现精密定位平台的定位高精度与工作大行程的方案。设计了一种新型菱形压电电机,分析其工作原理,给出了定子结构及夹持预紧结构的设计方案。菱形压电电机的实验结果表明,其步进作动模式下定位分辨率为1.0μm,连续运动模式下最大空载速度为0.932mm/s。在此基础上,利用3台菱形压电电机同步驱动并联精密定位平台,实验结果表明,并联平台平动定位分辨率为1.0μm,转动定位分辨率分别为8.6,11和10μrad。实验重复进行10次,动平台定位分辨率的波动率均低于5%,表明了该并联平台具有良好的同步性与重复性。另一方面,利用菱形压电电机的连续运动模式可实现大行程空间定位,其平动工作行程为3.54 mm,转动工作行程分别为3.92°,4.16°和4.05°。借助于菱形压电电机的不同工作模式实现了并联平台的精密定位和大行程工作空间两个关键指标,为进一步研究精密定位平台的动态性能、控制规律提供了理论价值和实践基础。     

Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究

通过对Mo/Si周期多层膜添加碳(C)层、进行高温退火处理,研究了Mo/Si/C多层膜进行热处理后在同步辐照条件下对薄膜相关物理特性的影响。发现Mo/Si周期性多层膜增加C层后不影响薄膜的反射特性,退火前45°入射角92 eV处反射率高达42％;热稳定性也有所提高,在600℃高温退火后仍能保持6.8％(97 eV处)的反射率。同时,由于非晶C在高温条件下的扩散导致薄膜结构发生变化,观测到薄膜的小角衍射曲线中出现并临的双衍射峰结构。     

小型气体电离室的设计和测试研究

设计并给出了用于同步辐射光束线波长标定和分辨本领测量的小型气体电离室。研究了厚度约为1 μm的聚丙烯膜窗和厚度为0.1 μm的Si₃N₄膜窗的真空隔离性能和透光性能,给出了实验数据。实验结果显示:两种膜窗均能承受100 Pa的压力,聚丙烯窗在5 nm波长的透过率约为80％,Si₃N₄窗在7 nm波长的透过率为15％。此外,给出了用该电离室调试表面物理和磁性圆二色两条光束线的气体谱线。结果表明,该可移动小型气体电离室的性能达到了设计和使用要求。     

工业机械控制中电气自动化技术的应用与研究

随着社会和科技的飞速发展,工业机械领域对电力系统的自动控制提出了更高要求。基于这一现状,以工业机械电气自动化技术的应用为基础,分析其应用现状,探讨电气自动化技术在工业机械控制中的应用优势和具体实践,对其发展前景进行简要论述,以期提高企业的自动化程度和生产效率。     

微通道板在软X射线能区的绝对标定

在北京同步辐射装置(Beijing synchrotron radiation facility,BSRF)的3W1B软X射线光束线上利用Si光电二极管传输标准探测器对微通道板(Microchannel plate,MCP)探测器进行了能量响应效率的绝对标定.给出了能量范围在50-250eV的能量响应的标定结果,并给出了标定的不确定度.利用标定后的MCP对同步辐射光束线能谱及偏振特性进行了测量,得到了理想的结果.     

Si(111)晶体峰值衍射效率的测量

提出了一种利用同步辐射光源测量晶体衍射效率的实验方法,通过对Si(111)标样衍射效率理论数据的分析与修正,验证了此方法的合理性和可靠性.指出光源的发散度与晶体的衍射效率密切相关.