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41.
河南省平顶山煤田东段深部煤普查区位于平顶山煤田东部,属原平顶山煤田深部东段普查区的一部分。区含煤地层为石炭系上统太原组、二叠系下统山西组、下石盒子组及中统上石盒子组,划分为9个含煤段,含煤65层。本次综合采用标志层、层间距、煤岩组合特征、动植物化石组合特征、物性特征等方法,确定地层层序,详细划分含煤地层,对主要煤层二1、四2、五2、六2、七2、八3煤层进行综合对比,研究其沉积环境特征和聚煤特征。  相似文献   
42.
空间相机主反射镜结构拓扑优化设计   总被引:1,自引:3,他引:1  
随着空间光学的发展.遥感器的口径越来越大,分辨率越来越高,这就导致遥感器的主反射镜口径和质量越来越大.主反射镜的设计是否合理,将直接影响遥感器的质量和成像质量.因此采用拓扑优化方法与有限元计算方法相结合,以NASTRAN为有限元解算器,以PATRAN为前处理器,在空间光学遥感器主反射镜外形、栽荷、环境工况确定的情况下,对其结构进行拓扑优化,得到最优结构形式.通过对优化前后结构进行有限元分析,结果表明:优化后的反射镜镜面面形比传统的镜面面形减小或相当,质量减轻32%,动力学性能改善.优化后的主反射镜结构能够满足加工、工艺和装配的技术要求.这种优化与有限元分析技术的结合将为以后的光学反射镜的设计提供有效的帮助.  相似文献   
43.
针对现有线性权值分配方法对蚕茧图像进行融合时会在高纬度区域出现蚕茧边缘分界线的问题,提出一种基于椭圆重叠区域的蚕茧图像融合方法。首先,利用最小二乘拟合算法得到待拼接图像中蚕茧表面的等效椭圆,输出其在该图像坐标下的位置方程;再根据图像配准过程中得到的横、纵轴位移距离建立蚕茧图像融合的数学模型,获取等效椭圆重叠区域的点集;最后通过椭圆重叠区域的最大宽建立改进的三角函数权重算法,对椭圆重叠区域进行融合处理。结果表明:该方法的融合效果比渐入渐出算法和三角函数权重算法更优,能够有效消除蚕茧边缘分界线,得到具有良好视觉效果且包含更多信息量的蚕茧融合图像。  相似文献   
44.
油井结蜡在大37块中占有相当大的比例,由于含蜡量高,易造成井筒结蜡减少产量,严重的可导致油井蜡卡躺井,是影响油井时率的主要因素之一。为改善这一情况,在原有的常规热洗加化学清防蜡清蜡的基础上,摸索出适合大37块发展的新型清防蜡技术:油井防污染热油循环清蜡技术、在全队45口井上实施后,有效的缓解了油井结蜡带来的负荷沉。蜡卡事故明显减少,热洗周期由60天上升到90天,有效的提高了开井时率。  相似文献   
45.
46.
基于设计给定的气浮静压垫结构参数,建立流体边界模型,利用流体分析软件进行分析,得出气体的流动轨迹、压强及速度的分布曲线.分析曲线表明:压强分布为在节流孔正对的位置最大,其他方向压强都减小;中间与气腔正对的部分压强最小,到边缘减小为零.气流速度在节流孔正对的区域最小;速度在中间层最大.通过分析可以为优化静压垫的结构、提高导轨刚度和承载能力提供理论依据.  相似文献   
47.
随着环境大气污染程度的加剧,特别是CO2 增加,各国对大气环境质量的监测越来越重视。相应的高光谱与高分辨率探测仪的应用也越来越得到关注。而星载探测仪必须满足空间环境的要求才能保证探测仪的成像质量。安装座作为探测仪的关键部件,它的设计合理与否对探测仪的精度具有很大的影响。因此根据探测仪使用要求及安装接口设计了三种安装座结构,对比其在力学振动和温升条件下的性能。从理论和实验得出,平动式安装座在力学振动环境下一阶频率达到82 Hz,准直镜组件相对光栅面偏转小于10,成像镜组件相对光栅面偏转小于10,都能满足设计技术要求。在4℃温升环境下,平动式安装座的结构对准直镜组件和成像镜组件产生的影响最小,都小于17,能够保证探测仪的成像质量。通过分析和实验证明该结构合理可行,并为后期相关仪器的支撑设计提供了参考。  相似文献   
48.
伴随着国内电子商务活动的迅猛增长,一方面电子商务企业人才缺口巨大,另一方面电子商务专业毕业生数量众多,就业压力大,这是高校培养与企业需求出现偏差,鼓励高校学生在校期间参与网商服务实践活动,提升学生实践能力,逐步加强学生的就业能力是极其有意义的。文章以网商服务及内容进行研究,针对能够参与网商服务的实践活动的在校的高校学生分析,最后提出高校学生参与网商服务实践的相关意义。  相似文献   
49.
世界经济正在从工业化时代向信息化时代迅猛发展。信息已成为发展社会生产力,提高人民生活水平的主要资源。国家信息化是一个国家经济、社会发展进程的必然要求,也是促进经济和社会进一步发展的必要条件。尽快实现我国的国民经济信息化成为我国经济、社会发展的重要战略目标。有色金属工业是国家重要产业之一,有色金属产品也是当今市场最活跃的商品之一,在国内外市场中,有色金  相似文献   
50.
本文提出了一种比熟知的SWAMI方法更简便有效的低缺陷无“鸟嘴”等平面氧化物隔离技术.采用各向同性化学腐蚀形成硅槽以克服RIE刻蚀硅造成的损伤.同时巧妙地利用各项同性腐蚀中形成的氮化硅“屋檐”在RIE刻蚀氮化硅时的掩蔽作用,形成理想的侧壁氮化硅掩蔽层,从而构成低缺陷、无“鸟嘴”结构.此方法不仅有利于缩小器件尺寸,还可改善双极型晶体管的EC特性.它与常规工艺完全相容,在成熟的LOCOS工艺基础上不必附加新工序.将本工艺应用于ALSTTL超高速电路,能显著提高电路性能.因此,有较高的实际推广价值.  相似文献   
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