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降低表面粗糙度是改善金刚石涂层刀具使用性能的有效手段.采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石膜,通过在沉积过程中调整工艺参数,先后在硬质合金基体上沉积了2层不同的金刚石薄膜.研究了基体位置、甲烷浓度等对薄膜表面形貌的影响.用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和压痕法对样品进行了分析测试,结果表明,该方法在保证金刚石涂层质量的同时有效降低了薄膜表面的粗糙度,表面粗糙度值Ra<0.2 μm. 相似文献
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圆柱壳可以做高速碰撞情况下的缓冲吸能装置,对其力学性能、吸能特性、缓冲特性进行了分析,这些特性随着圆柱壳的半径、壁厚的变化而变化。安全防护结构的吸能与缓冲的要求可以通过调整元件的上述因素达到。 相似文献
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为研究齿轮传动系统中齿侧间隙等非线性因素对系统振动特性的影响,综合考虑齿侧间隙、时变啮合刚度、综合啮合误差和轴承纵向响应,建立了三自由度单级直齿轮副传动系统的扭转振动非线性动力学模型;采用变步长4-5阶Runge-Kutta法,对系统运动的状态方程进行了数值求解;构建了系统的Poincaré截面,得到了系统的分岔图。结合系统相图、Poincaré映射图及FFT频谱图,分析了系统在激励频率变化时的动力学特性,发现系统在不同激励频率下会发生Hopf分岔、环面倍化、擦切分岔及倍化分岔。 相似文献
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F. Gou A.W. Kleyn A.E. Yakshin 《Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms》2009,267(18):3245-3248
In this study, the molecular dynamics simulation method was employed to investigate the growth of silicon nitride films by using N+ ions, with energies of 50, 100, 150 and 200 eV, to bombard an amorphous silicon surface at 300 K. After an initial period of N+ bombardment, saturation of the number of N atoms deposited on the surface is observed, which is in agreement with experiments. During subsequent steady state deposition, a balance between uptake of N by the surface and sputtering of previously deposited N is established. The Si(Nx) (x = 1-4) and N(Siy) (y = 1-3) bond configurations in the grown films are analyzed. 相似文献
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