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991.
电除尘器内进口断面气流分布均匀性和电除尘器内气流组织是影响电除尘器效率的主要因素。通过对除尘器的气流分布进行模拟试验,找出适合该除尘器的气流分布板形式,以确保除尘器稳定高效运行。  相似文献   
992.
将两亲性PS-b-PNIPAAm嵌段共聚物(BCP)溶解在四氢呋喃中配制成浓度为2%(质量分数)的溶液,旋涂后得到初生嵌段共聚物薄膜,以乙醇为退火溶剂退火后,探讨了退火时间对薄膜微孔结构的影响,结果表明,随着退火时间的延长,膜表面的微相分离越明显,微孔结构的分布更均匀。进一步将在乙醇中退火预处理的薄膜分别在乙醇或去离子水中进行溶胀处理,通过选择性溶胀成孔法制备PS-bPNIPAAm纳米多孔膜。研究了溶胀时间、温度及溶剂类型对薄膜形貌的影响,结果发现升高溶胀温度和延长溶胀时间均有助于膜表面微孔结构的形成,且该过程中乙醇的成孔作用比水的作用更为明显。  相似文献   
993.
在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体沉积室中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态。在模拟中,针对纳米金刚石的生长环境,就纯氩气反应气体中,不同的输入功率、不同气体压力条件下,沉积室中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟,将其与一般氢气气氛下的相应模拟结果相对比。模拟所获得的结果,对微波等离子体方法沉积金刚石膜的操作环境的优化,有着一定的指导意义。  相似文献   
994.
以磺化度为75%的磺化聚苯乙烯(SPS)和聚乙烯醇(PVA)为原料,按一定的配比共混后浇铸成膜,在程序升温的过程中进行热交联,通过控制不同交联时间得到不同交联密度的交联膜.考察了交联膜的离子交换容量(IEC)、吸水率、溶胀性和尺寸稳定性;利用原子力显微镜和交流阻抗仪对交联膜的表面形貌及电导率进行了表征.结果表明:交联膜的IEC值略有降低;吸水率和溶胀度得到了很好的控制,具有较好的尺寸稳定性;膜表面出现了明显的亲水相和憎水相相分离,且亲水相微区的聚集尺寸和连续性随交联时间的长短而变化;随交联时间的延长,交联膜的电导率值略有下降,但交联后膜的室温电导率仍高于0.01 S/cm.  相似文献   
995.
一种视频图像序列中运动对象的分割与跟踪算法   总被引:2,自引:0,他引:2  
王成儒  刘豫 《光电工程》2006,33(7):9-12
本文提出了一种视频图像序列中运动对象的分割与跟踪算法。该算法通过Canny算子检测出差帧图像的边缘信息,并结合当前帧与背景帧的边缘图像,提取出运动对象。在后续帧中通过建立前帧感兴趣运动对象与当前帧中各运动对象的帧间向量来跟踪当前帧中感兴趣的视频对象。实验结果表明,该算法可行,而且由于该算法简单、计算复杂度小,能很好地满足实时监控系统中对感兴趣运动对象的提取与跟踪。  相似文献   
996.
石墨镶嵌Co纳米晶的形成及其特性   总被引:5,自引:0,他引:5  
用直流碳弧法在阳极石墨棒中加入金属Co产生石墨镶嵌Co纳米晶,研究在复合石墨棒中加入不同的Co含量对石墨镶嵌Co纳米晶的形貌、结构特性及晶粒尺寸分布的影响,探讨石墨镶嵌Co纳米晶的形成原因及碳弧法中氦气压力和Co含量对掺Co阳极石墨棒所产生的碳灰的C60/70产率的影响。结果表明,复合阳极棒中的Co含量决定了石墨镶嵌Co纳米晶的数量和晶凿直径分布,碳弧法中的He气压力仍是影响掺Co阳极棒所产生的碳  相似文献   
997.
本研究工作采用硅离子注入和高温退火工艺对SIMOX材料的BOX层进行总剂量辐射加固.辐射实验结果证明了该加固方法的有效性.PL谱和HRTEM图像显示了硅离子注入及退火工艺在材料的BOX层中引入了Si纳米晶,形成电子陷阱能级,有效俘获电子,从而提高了材料BOX层的抗总剂量辐射能力.  相似文献   
998.
张超灿  刘丹  王涛 《材料导报》2004,18(4):33-36
综述了近几年以聚乙烯亚胺(PEI)为主链的液晶高分子的研究进展.从PEI型液晶高分子的原理、结构和性能方面着手,展望了几类新型PEI液晶高分子的发展趋势.  相似文献   
999.
MAX phases (Ti3SiC2, Ti3AlC2, V2AlC, Ti4AlN3, etc.) are layered ternary carbides/nitrides, which are generally processed and researched as structure ceramics. S...  相似文献   
1000.
TiN/TiCN多层膜的高温抗氧化性研究对于扩大其应用领域具有重要作用,但目前鲜见相关报道。采用多弧离子镀与磁控溅射技术以不同调制周期在304不锈钢表面共沉积TiN/TiCN多层膜。采用XRD、XPS、倒置显微镜及高温氧化试验研究了多层膜的高温抗氧化行为。结果表明:TiN/TiCN多层膜表面光滑平整、均匀致密,薄膜主要为具有Ti-(C,N)键的fcc-TiN结构;随着调制周期的减小,TiN/TiCN多层膜生长取向发生转变,且具有(111)晶面生长织构;随着氧化温度的升高,多层膜的显微硬度逐渐降低,氧化增重速率不断增大,且在700℃之后变化速率较快,薄膜的开始氧化温度约为750℃;随着调制周期的减小,多层膜TiN与TiCN界面层数量增多,促使晶粒细化,提高了其致密性,还隔断了缺陷贯穿薄膜的连续性,显著降低了薄膜的孔隙率,致使O原子扩散困难,增强了薄膜的高温抗氧化性能。  相似文献   
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