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用真空蒸发法在玻璃和单晶硅片 (10 0 )上制备Zn薄膜 ,然后对Zn薄膜进行氧化、热处理获得纳米ZnO薄膜。对在硅片上制备的Zn薄膜一次性进行高温掺杂、氧化获得纳米ZnO∶P和ZnO∶B薄膜。研究不同氧化、掺杂温度和时间对薄膜结构、电学性能的影响。结果表明 :氧化温度和时间对ZnO薄膜结构影响较大 ,液态源掺P可明显改善纳米ZnO薄膜的导电性能、结构特性和化学组分 相似文献
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SBR工艺的发展类型及其应用特性 总被引:44,自引:4,他引:40
对各种类型SBR工艺的发展和应用进行了综述,分析了其发展演变情况,归纳了经典及新型SBR工艺的特点。 相似文献
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