全文获取类型
收费全文 | 65篇 |
免费 | 15篇 |
专业分类
电工技术 | 2篇 |
综合类 | 4篇 |
金属工艺 | 2篇 |
机械仪表 | 3篇 |
建筑科学 | 3篇 |
能源动力 | 3篇 |
轻工业 | 10篇 |
无线电 | 47篇 |
一般工业技术 | 4篇 |
冶金工业 | 1篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 2篇 |
2022年 | 2篇 |
2021年 | 2篇 |
2015年 | 2篇 |
2014年 | 5篇 |
2013年 | 3篇 |
2012年 | 11篇 |
2011年 | 6篇 |
2010年 | 4篇 |
2009年 | 2篇 |
2008年 | 3篇 |
2007年 | 3篇 |
2006年 | 4篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 3篇 |
2002年 | 5篇 |
2000年 | 2篇 |
1998年 | 4篇 |
1994年 | 2篇 |
1993年 | 3篇 |
1992年 | 7篇 |
排序方式: 共有80条查询结果,搜索用时 15 毫秒
31.
32.
制绒Si片清洗工艺的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究对比了不同清洗工艺对制绒Si片性能的影响,采用原子力显微镜和少子寿命测试仪测试经不同化学清洗工艺处理之后的Si片表面微粗糙度和少子寿命。研究发现,使用浓硫酸、双氧水混合液和稀释的氢氟酸溶液清洗Si片能够有效改善Si片表面的质量,Si片表面的微粗糙度由原先的5.96μm降低到4.45μm;采用等离子体增强化学气相沉积法在清洗之后的Si片上生长本征氢化非晶Si层,对Si片进行表面钝化,钝化之后的Si片少子寿命可达107.88μs。测试结果还表明,采用此种清洗方法处理的Si片少子寿命稳定性有很大提高。 相似文献
33.
34.
文章主要介绍了pH对通过化学镀镍-磷法制作埋嵌电阻时镍-磷合金层方块电阻的影响。在温度相同的条件下,当镀液的pH不同时,探究了两种基材表面上镍-磷合金层方块电阻与反应时间的关系,并分析了适合用于制作埋嵌电阻的镍-磷合金层方块电阻值,以及最佳的化学镀镍-磷反应pH值。从实验结果可知,当反应时间相同时,随着pH的减小两种基材表面上镍-磷合金层的方块电阻将会逐渐大;适合用于埋嵌电阻制作的化学镀镍-磷反应pH为3.4~3.7,反应时间为3min~8min,方块电阻为15Ω/□~200Ω/□。 相似文献
35.
36.
从理论和实验上研究了用一对全息光学(HOE)获得输出光束相同于输入平行光束的可行性。讨论了这种耦合HOE的应用性。 相似文献
37.
38.
39.
40.
研究了不对称型有机分子[4-(2-{4[5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑2]苯基}-乙烯基)-苯基]-二苯胺的多光子吸收及其荧光特性.该分子具有典型的D-π-A型推拉电子结构,三苯胺基团作为给电子基通过苯乙烯共轭链桥接到吸电子基1,3,4-噁二唑基团.在远离线性吸收区的800~1 570 nm波长范围内,实验结果表明该化合物分子具有明显的双光子吸收、三光子吸收性质和较强的频率上转换荧光.根据非线性透过率法测得该化合物在800 nm的双光子吸收系数为3.95 cm/GW,在1 255 nm的三光子吸收系数为3×10-5cm3/GW2. 相似文献